-
公开(公告)号:CN105116695A
公开(公告)日:2015-12-02
申请号:CN201510667135.8
申请日:2015-10-15
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: G03F7/30
摘要: 本发明公开了一种显影装置及光刻设备,所述显影装置包括显影腔室,所述显影腔室用于容纳待显影的基板,所述显影装置还包括加热机构;所述加热机构包括多个加热件,多个所述加热件设置在所述显影腔室内,以对显影腔室内的位于所述加热机构上方或下方的基板的不同显影位置进行加热,且多个所述加热件能够分别独立控制加热。
-
公开(公告)号:CN105045434A
公开(公告)日:2015-11-11
申请号:CN201510563914.3
申请日:2015-09-07
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: G06F3/041
摘要: 本发明公开了一种触控显示面板及其制作方法和修复方法,涉及显示技术领域,能够减小对显示装置的开口率的影响。其中,所述触控显示面板包括第一基板和第二基板,第一基板包括第一信号线、第二信号线和第一触控电极走线;第一基板还包括绝缘层和第一触控电极,绝缘层上设置有对应于第一触控电极的过孔;第二基板包括第二触控电极走线、副隔垫物和第二触控电极,第二触控电极至少部分覆盖副隔垫物的朝向第一基板的顶端,第二触控电极与第二触控电极走线电连接,第二触控电极和第一触控电极在第一基板上的投影至少部分重叠。本发明提供的触控显示面板可应用于显示装置中。
-
公开(公告)号:CN103441130B
公开(公告)日:2015-08-12
申请号:CN201310384921.8
申请日:2013-08-29
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
CPC分类号: H01L23/60 , G02F1/136204 , H01L27/0288 , H01L27/124 , H01L29/401 , H01L29/41733 , H01L29/41775 , H01L29/42356 , H01L29/42376 , H01L29/42384 , H01L29/66484 , H01L29/66742 , H01L29/78645 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要: 本发明公开了一种具有静电自防护能力的基板及其制造方法,所述基板包括:面板区域;第一栅极金属层和源/漏极金属层,位于所述面板区域的至少一侧外,所述第一栅极金属层与所述源/漏极金属层在其长度方向上平行设置且相互邻近,并且从所述第一栅极金属层向所述源/漏极金属层延伸出至少一个尖端,和/或从所述源/漏极金属层向所述第一栅极金属层延伸出至少一个尖端。
-
公开(公告)号:CN104810322A
公开(公告)日:2015-07-29
申请号:CN201510253297.7
申请日:2015-05-18
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: H01L21/77 , H01L27/12 , G02F1/1362
CPC分类号: H01L21/28008 , G02F1/1362 , G02F1/1368 , G02F2001/136236 , G02F2001/13685 , H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/41733 , H01L29/66742 , H01L21/77 , G02F2001/136231 , H01L27/12
摘要: 本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、显示面板、显示装置、掩模板,属于显示技术领域。所述阵列基板的制造方法包括:在衬底基板上采用掩模板的不透光区域形成第一掩膜图形,所述掩膜板包括:透明基板,所述透明基板上形成有半透光区域,形成有所述半透光区域的透明基板上形成有不透光区域,所述透明基板上除所述半透光区域和所述不透光区域之外的区域为全透光区域;在形成有所述第一掩膜图形的衬底基板上采用所述掩膜板的半透光区域和所述不透光区域形成第二掩膜图形。本发明解决了阵列基板的制造过程较繁琐,且制造成本较高的问题,实现了简化制造过程,且降低制造成本的效果,用于制造阵列基板。
-
公开(公告)号:CN104765502A
公开(公告)日:2015-07-08
申请号:CN201510206073.0
申请日:2015-04-27
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: G06F3/041
CPC分类号: G06F3/0412 , G06F3/0416 , G06F3/047 , G06F2203/04103
摘要: 本发明实施例提供一种触控显示面板及其制备方法、控制方法,涉及显示技术领域,可以避免对开口率的影响。该触控显示面板包括第一基板和第二基板;所述第一基板包括位于非子像素区的多根相互平行的栅线、多根相互平行的数据线、多根与栅线平行的第一触控电极走线、多根与数据线平行的第二触控电极走线,还包括与第一触控电极走线电连接的第一触控电极、与第二触控电极走线电连接的第二触控电极;其中,相对第一基板的任意一行子像素,相邻两根数据线之间具有两个子像素,一根第二触控电极走线位于所述两个子像素之间;所述栅线两两一对位于第一基板的任意相邻两行子像素之间,一根第一触控电极走线位于一对栅线之间。用于触控显示面板及其制造。
-
公开(公告)号:CN104503622A
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:CN201510002288.0
申请日:2015-01-04
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: G06F3/041
CPC分类号: G06F3/0412 , G06F3/041 , G06F3/0416 , G06F3/047 , G06F2203/04103 , G09G3/2092
摘要: 本发明公开了一种触控显示面板及其制备方法、驱动方法和触控显示装置,该触控显示面板包括:阵列基板和彩膜基板,阵列基板包括:形成于第一衬底上的第一薄膜晶体管和第一检测线,彩膜基板包括:形成于第二衬底上的主隔垫物、附隔垫物、基准信号线和第二检测线,主隔垫物的底部与基准信号线连接,基准信号线中加载有电流信号,主隔垫物的顶部与第一源极连接,附隔垫物的底部与第二检测线连接,附隔垫物的顶部在阵列基板上的投影连接第一漏极和第一检测线。本发明的技术方案通过将用于实现触控功能的各金属走线设置在不同的显示基板上,从而可有效的降低阵列基板上走线的数量,降低阵列基板的制备工艺的复杂度,提高像素单元的开口率。
-
公开(公告)号:CN104503203A
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:CN201510020570.1
申请日:2015-01-15
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: G03F1/42 , G03F1/54 , G03F7/00 , G02F1/1339
CPC分类号: G03F1/42 , G03F1/54 , G03F7/00 , G02F1/1339
摘要: 本发明公开了一种掩膜板及其制备方法和显示面板中封框胶的固化方法,其中该掩膜板包括:透明基板和位于透明基板上的对位标识,对位标识用于将掩膜板与待紫外固化处理的显示面板进行对位,对位标识的材料为感光树脂。本发明的技术方案通过将掩膜板中对位标识的材料设置为感光树脂,从而在制备该由感光树脂构成的对位标识时,仅需经过感光树脂薄膜涂覆工序、曝光工序和显影工序即可完成对位标识的制备。与现有技术相比,本发明的技术方案可省去金属材料沉积工序、刻蚀工序和光刻胶剥离工序,即本发明技术方案可使得制备对位标识过程中所需要的工序数量减少,简化制作掩膜板的工艺流程,节省成本。
-
公开(公告)号:CN103022052B
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:CN201210546659.8
申请日:2012-12-14
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号: H01L27/12
CPC分类号: H01L27/0251 , H01L27/0288 , H01L27/1214 , H01L27/124 , H01L27/1288
摘要: 本发明的实施例公开一种阵列基板及显示装置,涉及显示领域,能够降低显示区域外围公共电极上的电能聚集,有效减少像素电极层成膜工艺前ESD和静电击穿发生的可能性。该阵列基板,包括显示区域,显示区域外围设有多个公共电极区块,所述公共电极区块通过像素电极跨接线图形导通。本发明的实施例用于显示装置制造。
-
公开(公告)号:CN104438226A
公开(公告)日:2015-03-25
申请号:CN201410722795.7
申请日:2014-12-02
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
摘要: 本发明公开了一种掩膜板清洁系统,包括清洁腔和设置在所述清洁腔内的用于清洁掩膜板的清洁装置,所述掩膜板清洁系统还包括异物采集装置,所述异物采集装置设置在所述清洁腔内,用于采集所述掩膜板表面的异物。本发明使用清洁装置对掩膜板进行清洁,同时使用异物采集装置对粘附性强的异物进行采集分析,不仅达到了快速且无二次污染的清洁效果,而且达到了对异物来源进行分析的技术效果,有效保证了曝光工艺的精确性。此外,本发明使用控制器对系统内的各个装置进行控制,能够实现对掩膜板的自动清洁,以及对异物的自动采集,节省了大量的人力成本。
-
公开(公告)号:CN104183603A
公开(公告)日:2014-12-03
申请号:CN201410340346.6
申请日:2014-07-16
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
摘要: 本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可避免形成阻挡层时源漏极间隙尺寸均匀性差,减少阻挡层成本,解决金属缺失信号不导通的问题。该阵列基板包括衬底基板上方的包括栅极、栅线的栅金属层,栅绝缘层,有源层,包括源极、漏极、数据线的源漏金属层,源漏金属层包括铜金属层和/或铜合金层;包括与漏极直接接触的像素电极、与源极直接接触的第一像素电极保留图案、与数据线直接接触的第二像素电极保留图案的像素电极层;像素电极与漏极直接接触的区域、第一像素电极保留图案位于有源层与源漏金属层之间;像素电极未与漏极直接接触的区域、第二像素电极保留图案位于栅绝缘层的上/下方。用于阵列基板的制备。
-
-
-
-
-
-
-
-
-