复合集流体及其制备方法、电化学装置

    公开(公告)号:CN115395020A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202211338588.2

    申请日:2022-10-28

    发明人: 闫家肖

    摘要: 本申请涉及一种复合集流体及其制备方法、电化学装置,其中,高分子层包括相对设置的第一表面和第二表面,第一蒸镀层设置于第一表面,第二蒸镀层设置于第二表面。第一保护层设置于第一蒸镀层的背离高分子层的表面,第二保护层设置于第二蒸镀层的背离高分子层的表面。第一电镀层设置于第一保护层的背离第一蒸镀层的表面,其被构造为分隔第一蒸镀层和第一电镀层。第二电镀层设置于第二保护层的背离第二蒸镀层的表面,其被构造为分隔第二蒸镀层和第二电镀层。本申请中的蒸镀操作简单方便,可有效降低复合集流体的生产成本;同时各保护层可防止各蒸镀层在电镀过程中被电解液腐蚀,两层蒸镀层以及两层电镀层的导电结构可提高复合集流体的导电能力。

    塑料安瓿真空外镀模组及一体成型机

    公开(公告)号:CN115386842A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202211140218.8

    申请日:2022-09-20

    摘要: 本发明公开了一种塑料安瓿真空外镀模组,包括用于在塑料安瓿的表面植入静电的静电植入组件、用于将植入静电的塑料安瓿密封于封闭空腔内的密封组件、与密封组件连接的用于抽取塑料安瓿所处封闭空腔的空气以形成真空环境的抽真空组件、与密封组件连接的用于将镀层物料气化并电解为等离子体并向塑料安瓿所处封闭空腔输入等离子体以使塑料安瓿的外表面静电吸附等离子体进而形成阻隔镀层的等离子体产生组件以及用于将塑料安瓿转移至静电植入组件内植入静电和将植入静电的塑料安瓿转移至密封组件内的转移组件。此外,本发明还公开了一种包括上述塑料安瓿真空外镀模组的塑料安瓿一体成型机。

    一种半导体芯片的镀膜治具

    公开(公告)号:CN115354280A

    公开(公告)日:2022-11-18

    申请号:CN202211135749.8

    申请日:2022-09-19

    IPC分类号: C23C14/22 C23C14/56

    摘要: 本发明公开了一种半导体芯片的镀膜治具,属于半导体芯片镀膜技术领域,包括镀膜箱,镀膜箱顶部气孔处固定连接有抽真空管,镀膜箱侧壁气孔处固定连接有氩气注气管,镀膜箱顶部前端直孔处密封连接有活动板,活动板顶部安装有磁棒冷却水管道和气压感应器,活动板底部固定连接有金属靶材安装架,金属靶材安装于金属靶材安装架内,金属靶材安装架内安装有磁力棒,磁棒冷却水管道安装于金属靶材一侧;镀膜箱内底部设有等弧度转动组件;镀膜箱在等弧度转动组件上方处设有下料组件;镀膜箱后侧壁开设有料箱插槽;镀膜箱在料箱插槽内插接有传送带式存料组件;通过上述方式,本发明抽真空能耗小,且氩气消耗量小,降低了整体镀膜成本,利于企业生产。

    一种半导体生产用镀膜设备

    公开(公告)号:CN112410730B

    公开(公告)日:2022-11-18

    申请号:CN202011314145.0

    申请日:2020-11-21

    发明人: 谭美龙

    IPC分类号: C23C14/22 H01L21/67

    摘要: 本发明公开了一种半导体生产用镀膜设备,涉及电子专用设备仪器技术领域,包括固定块,固定块的底端安装有固定底座,固定块的顶端安装有环形滑动导轨,环形滑动导轨的顶端安装有承重滑座,承重滑座的顶端安装有连接柱,连接柱的一侧开设有滑动竖轨,环形滑动导轨的顶端位于连接柱的一侧连接有密封性防尘罩。本发明设置防护盖、转动盘、转动喷枪和散热孔,在使用时,需要加工的半导体放置在加工台上,让后将防护盖合闭,防护盖能够有效的防止加工时产生的雾化颗粒发散,增加镀膜时的安全性,通过转动盘连接的转动喷枪,转动盘在转动时带动转动喷枪对加工台上的半导体进行360°喷射镀膜,便于对半导体进行有效而均匀的镀膜。

    等离子物理气相沉积系统及连续加载喷涂控制方法

    公开(公告)号:CN115287600A

    公开(公告)日:2022-11-04

    申请号:CN202210829143.8

    申请日:2022-07-14

    IPC分类号: C23C14/22 C23C14/56 C23C14/54

    摘要: 本发明提供了等离子物理气相沉积系统及连续加载喷涂控制方法;其中,该系统包括:集成控制模块、真空获取模块、等离子模块、粉末输送模块和机械手转台联动模块;真空获取模块包括真空罐体,以及设置在真空罐体两侧的第一加载单元和第二加载单元;等离子模块包括设置在真空罐体的等离子喷枪;集成控制模块用于控制第一加载单元或第二加载单元将目标部件送至真空罐体内,并控制等离子喷枪对目标部件进行喷涂,并当喷涂完成后,控制第一加载单元或第二加载单元将喷涂后的目标部件退出真空罐体,因此,通过该系统,集成控制模块可以分别通过第一加载单元和第二加载单元向真空罐体实现连续加载目标部件,从而可以实现连续喷涂,提高了连续生产能力。

    一种负极集流体的制备方法及其装置

    公开(公告)号:CN111748764B

    公开(公告)日:2022-11-04

    申请号:CN202010661417.8

    申请日:2020-07-10

    摘要: 本发明公开了一种负极集流体的制备方法及其装置,其结构包括基材PET、金属化层和表面铜膜。利用离子注入技术实现柔性有机材料PET表面金属化,制备膜基结合强度超过1.5N/mm,厚度3‑8μm的新型PET基柔性覆铜材料锂电池负极集流体。本发明利用磁过滤技术制备的铜膜,铜膜厚度可控,能够制备传统技术难以实现的超薄型铜箔。通过离子注入优化界面晶格突变,有效地提高膜基结合力。此外,本发明技术是通过卷绕方式在柔性PET表面沉积铜膜,可以连续生产,在在重量、柔韧性以及耐用性优于传统压延法或电解法的铜箔。

    一种扩大等离子体有效反应面积的方法

    公开(公告)号:CN115274395A

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202211177822.8

    申请日:2022-09-27

    发明人: 梁奇

    摘要: 本发明公开了一种扩大等离子体有效反应面积的方法,本发明通过根据腔体中工件台上基体所预获得的等离子体的沉积面积和沉积形状来选择承载所述基体的工件台的预设组件,然后通过分布在预设组件的预设圆环形区域上的通道将从腔体外注入的反应气体电离化后排出,配合调整施加到所述通道的外部电压,最终在基体上获得到所要的等离子的沉积面积和沉积形状,同时获得高均匀性的等离子沉积性能,从而有效解决了现有不能实现扩大等离子覆盖面积且获得高均匀性的等离子体的问题。

    脉冲放电制备碳纳米纤维负载纳米金属粒子的装置及方法

    公开(公告)号:CN115261796A

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202210876194.6

    申请日:2022-07-25

    申请人: 江苏大学

    摘要: 本发明公开一种脉冲放电制备碳纳米纤维负载纳米金属粒子的装置及方法,将金属粉末和碳粉末混合,形成金属和碳的混合粉末;同时启动纳米纤维释放部件和纳米纤维收集部件,纳米纤维膜在碳化隧道炉内经碳化处理形成碳纳米纤维膜,碳纳米纤维膜向前移动进入反应腔体内,将混合粉末添加于反应腔体内的第一铜电极板和第二铜电极板之间,第一铜电极板和第二铜电极板向对面移动,压缩混合粉末,脉冲放电电路工作,将第一铜电极板和第二铜电极板之间的混合粉末气化为气态纳米金属粒子,气态纳米金属粒子向上扩散冷凝并沉积到碳纳米纤维上,形成纳米金属粒子负载碳纳米纤维膜;本发明能实现碳纳米纤维负载纳米金属粒子的大批量,高效率和工业化生产。