储料器
    122.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101992924A

    公开(公告)日:2011-03-30

    申请号:CN201010254935.4

    申请日:2010-08-13

    Inventor: 郑基菜

    CPC classification number: H01L21/67769

    Abstract: 本发明涉及一种储料器和一种具有机械臂的储料器的集尘单元。该储料器包括:具有多个接纳搁板的主体单元;将待移动的接纳材料传递到所述主体单元的传递单元;将通过所述传递单元传递的接纳材料堆叠在所述主体单元的所述多个接纳搁板中的其中一个上的机械臂;以及和所述机械臂一起移动从而将微粒从所述主体单元内除去的集尘单元。

    蒸镀装置及蒸镀方法
    124.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101476116B

    公开(公告)日:2011-03-30

    申请号:CN200910002040.9

    申请日:2006-01-20

    Abstract: 本发明公开了蒸镀装置和蒸镀方法。该蒸镀装置中,分解所需要的能量相对较高的气体利用等离子体分解方式和加热体方式进行分解,分解所需要的能量相对较低的气体利用加热体方式进行分解,由此在基板上形成蒸镀物。在利用现有的ICP-CVD装置或PECVD等的等离子体装置形成绝缘膜时,存在源气体难以完全分解而使蒸镀物的特性变差,源气体的使用效率差的缺陷,本发明为了克服该缺陷而涉及等离子体或/及加热体方式的蒸镀装置及利用该蒸镀装置的蒸镀方法。

    遮蔽掩模图案的形成方法

    公开(公告)号:CN1800970B

    公开(公告)日:2011-02-09

    申请号:CN200510092324.3

    申请日:2005-08-26

    Abstract: 本发明提供一种遮蔽掩模图案的形成方法,其在施加有拉力的状态下首先焊接在掩模框上,利用激光形成蒸镀图案,由此容易制作大面积的掩模,并且加工步骤及设备简单,能够缩短加工时间。本发明的遮蔽掩模图案的形成方法在由对掩模框施加有拉力的状态下固定的固定部和形成有图案的透过区域构成的遮蔽掩模上形成图案,其特征在于,包括:一边在所述遮蔽掩模上施加与所述拉力对应的张力一边固定所述遮蔽掩模的步骤;在已固定的遮蔽掩模的透过区域选定图案形成开始位置的步骤;从所述图案形成开始位置沿螺旋方向的形成路径形成所述图案的步骤。

    有机发光显示装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN101958339A

    公开(公告)日:2011-01-26

    申请号:CN201010112804.2

    申请日:2010-02-04

    CPC classification number: H01L27/12 H01L27/1225 H01L27/1251

    Abstract: 本发明涉及有机发光显示器及其制造方法。该有机发光显示器包括:彼此交叉的数据线和扫描线;用于将扫描信号供给所述扫描线的扫描驱动单元;用于将数据信号供给所述数据线的数据驱动单元;以及被限定在所述数据线和所述扫描线的交叉点处的像素,每个像素具有有机发光二极管、具有倒置交错式顶栅结构并连接至所述有机发光二极管的第一TFT、以及具有倒置交错式底栅结构并被配置为从所述扫描线接收扫描信号的第二TFT,所述第一TFT包括半导体氧化物作为有源层,所述第二TFT包括半导体氧化物作为有源层。

    有机发光二极管显示器及其制造方法

    公开(公告)号:CN101950795A

    公开(公告)日:2011-01-19

    申请号:CN201010227430.9

    申请日:2010-07-12

    Inventor: 李京俊 裴圣镇

    CPC classification number: H01L27/3246 H01L51/524 H01L51/525

    Abstract: 本发明公开了一种有机发光二极管(OLED)显示器,所述有机发光二极管显示器包括:显示基底,包括有机发光元件和具有限定有机发光元件的发光区域的开口的像素限定层;封装基底,布置为与显示基底相对;密封剂,布置在显示基底和封装基底之间的边缘处,以从外部密封显示基底和封装基底之间的空间;填充物,填充显示基底和封装基底之间的空间,其中,像素限定层具有随位置而改变的厚度,像素限定层的最接近在显示基底的边缘处的密封剂的部分具有比像素限定层在显示基底的全部其它部分的厚度厚的厚度。

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