薄膜沉积设备
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102127748A

    公开(公告)日:2011-07-20

    申请号:CN201110029291.3

    申请日:2011-01-11

    CPC classification number: C23C14/24 C23C14/042 H01L51/001

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜沉积设备,所述薄膜沉积设备可被简单应用于大规模生产大尺寸显示装置并提高生产率。薄膜沉积设备包括:沉积源,排出沉积材料;沉积源喷嘴单元,设置在沉积源的一侧并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴;图案化缝隙片,被设置成与所述沉积源喷嘴单元相对,所述图案化缝隙片包括沿与第一方向垂直的第二方向布置的多个图案化缝隙。在基底或者薄膜沉积设备沿第一方向彼此相对移动的同时执行沉积,沉积源、沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片彼此一体地形成。

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