公开(公告)号：CN106206232A

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201510315762.5

申请日：2015-06-10

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 小野田正敏

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供基板处理装置，能稳定支承大型化了的支架并能防止因支架大型化导致闸室的大容量化，缩短闸室的气氛的切换时间。该基板处理装置包括：处理基板的处理室；收容基板的闸室；在处理室和闸室之间输送基板的输送室；设置在处理室中，分别保持不同基板的两个支架；支架移动机构，使两个支架在基板接收位置和基板处理位置之间移动，在基板接收位置使两个支架处于上下排列的状态；及基板输送机构，将收容于闸室中的基板以上下排列的状态统一输送到位于基板接收位置的两个支架上。此外，支架移动机构具备两个移动支架的线性运动机构、以及使两个支架转动的转动机构。此外，线性运动机构在比支架的移动方向上的两端更靠内侧的位置支承支架。

公开(公告)号：CN103094028B

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201210236662.X

申请日：2012-07-09

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 松本武 ,  中尾和浩 ,  厚主诚

IPC: H01J27/02 ,  H01J27/08 ,  H01J37/08

Abstract: 本发明提供一种离子源电极的清洁装置，可以沿构成离子源的引出电极系统的电极的宽广区域高速去除沉积物。该清洁装置包括：清洁气体源（42）等构件，向引出电极系统（10）的相互面对的两个电极（11、12）之间提供清洁气体（48），使两个电极之间的气体压力保持在发生辉光放电的气体压力；辉光放电电源（60），向两个电极（11、12）之间施加直流电压，发生辉光放电（80）。该清洁装置还包括：异常放电测量器（84），测量在规定时间内电极（11、12）之间发生异常放电的次数（N）；电源控制器（86），使用测量到的发生异常放电的次数（N）进行控制，使辉光放电电源（60）的输出电流（Ig）增减规定幅度。

公开(公告)号：CN102800550B

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：CN201210067360.4

申请日：2012-03-14

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 内藤胜男 ,  土肥正二郎

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/304

Abstract: 本发明提供离子注入装置，其包括质量分离磁铁，即使在伴随基板尺寸的大型化，带状离子束的长度方向的尺寸增大的情况下，与以往的技术相比，该质量分离磁铁的耗电量小、磁极间的磁场分布均匀且尺寸小。离子注入装置包括：离子源，生成带状离子束；质量分离磁铁，具有一对磁极，该一对磁极隔着离子束的主平面相对设置，通过在磁极之间产生的磁场，使离子束的行进方向在离子束的长度方向上偏转；分析狭缝，使包含所希望的离子种类的离子束通过；处理室，配置有基板，通过分析狭缝后的离子束照射到该基板上。在磁极之间产生的磁场的方向倾斜地横穿通过质量分离磁铁内部的离子束的主平面。

公开(公告)号：CN102592930B

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN201110340962.8

申请日：2011-11-02

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 井内裕

IPC: H01J37/08

Abstract: 本发明提供一种新的离子源，与以往的离子源相比，尽管电极个数少，也具有与以往的离子源相同的功能。本发明的离子源(1)不具有抑制电子从下游一侧(Z方向一侧)流入的抑制电极。离子源(1)包括：多个电极(5、6、7)，沿离子束(3)的引出方向(Z方向)配置；以及磁场产生部件(11)，配置在所述电极(5、6、7)的下游一侧(Z方向一侧)，至少具有一对磁极(20、21)，该一对磁极(20、21)产生横穿从所述离子源(1)引出的所述离子束(3)的磁场。

公开(公告)号：CN103928280A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201310353859.6

申请日：2013-08-14

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 松本武

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/30

CPC classification number: C23C14/48 ,  C23C14/564 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/304

Abstract: 本发明提供能够在清洗离子源内部后在短时间内重新启动离子束的离子注入装置和该离子注入装置的运转方法。所述离子注入装置在进行离子注入处理时，向离子源（IS）内部导入工艺气体，使用由多块电极构成的引出电极系统（2），从离子源（IS）引出带状的离子束（3），向配置在处理室（5）内的基板（4）照射离子束（3），并且在离子注入处理以外时，向离子源（IS）内部导入清洗气体，对该离子源（IS）内部进行清洗，在这样的离子注入装置（IM）中，在清洗结束后重新启动离子束（3）时，在引出电极系统（2）上施加规定电压后，将离子源（IS）的运转参数设定为与作为处理对象的基板（4）的注入配方对应的运转参数。

公开(公告)号：CN103426705A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201310009476.7

申请日：2013-01-10

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 滝上佳宏 ,  中矢良 ,  田村茂久

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/08

Abstract: 本发明提供灯丝更换器和灯丝更换结构，不总是占用用于更换灯丝的多余的空间、且在灯丝更换时能减少辅助真空容器的装卸次数，该灯丝更换器包括辅助真空容器及操作杆，该操作杆贯穿所述辅助真空容器、且其前端部在辅助真空容器内安装于所述灯丝支承结构，在所述辅助真空容器内处于真空排气后的状态下，用于从所述真空室内拔出灯丝至所述辅助真空容器内，所述辅助真空容器包括：容器主体，形成有与所述真空室的外部接触且可装拆地安装在所述真空室的外部的、通过所述操作杆拔出的所述灯丝所通过的安装口及更换所述灯丝时所述灯丝所通过的灯丝取出口；以及盖体，可打开或关闭所述灯丝取出口。

公开(公告)号：CN102262998B

公开(公告)日：2013-11-20

申请号：CN201110126157.5

申请日：2011-05-12

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 奥手康弘 ,  立道润一

IPC: H01L21/68 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置，能够大幅度提高单位时间可处理基板的张数和单位时间的离子注入量，此外，能够应对近年来基板的大型化，以防止装置整体过大。离子注入装置包括：运送机构(3)，具有相互分离且平行的一对轨道(31、32)，沿着各所述轨道(31、32)使同一形状的基板(2)的面板部与所述轨道(31、32)平行、且使各轨道上的各基板(2)保持相互平行的姿势，并且使各基板(2)分别向相反方向前进；以及一对离子束照射机构(5)，从与所述面板部垂直的方向观察，当各轨道上的基板(2)到达规定的重合位置时，各所述基板(2)基本重合，并且各离子束(B)避开位于所述重合位置的基板、且分别通过所述基板(2)的前进方向一侧和与前进方向相反一侧。

公开(公告)号：CN102222595B

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201010262386.5

申请日：2010-08-25

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 中尾和浩

IPC: H01J37/317

Abstract: 本发明提供一种离子注入方法和离子注入装置。在由向玻璃基板上照射的多个离子束形成的重叠区域中，可以高效地调整各离子束的束电流密度分布。所述离子注入方法包括：束电流密度分布调整工序，按预先确定的顺序，把多个带状离子束分别调整为规定的束电流密度分布；目标修正工序，在束电流密度分布调整工序期间，在对第二个以后的各离子束调整束电流密度分布之前，使用先调整了束电流密度分布的调整结果，针对此后要调整束电流密度分布的离子束，修正作为调整目标的规定的束电流密度分布；以及玻璃基板输送工序，在与多个带状离子束的长边方向交叉的方向上输送玻璃基板。

公开(公告)号：CN103021772A

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CN201210205880.7

申请日：2012-06-18

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 井内裕 ,  谷井正博

IPC: H01J37/08 ,  H01J27/02

Abstract: 本发明提供一种电极框体以及具备该电极框体的带电粒子束发生装置，所述带电粒子束发生装置具备由所述电极框体构成的引出电极，所述电极框体及所述带电粒子束发生装置能够改善更换形成狭缝状开口部的电极棒时的工作效率。电极框体（2）构成带电粒子束引出用的电极，具有使带电粒子束通过的开口部（3）。从一个方向观察电极框体（2）时，在电极框体（2）的开口部（3）周围的一部分上形成有电极棒支承部（7），该电极棒支承部（7）支承横跨开口部（3）配置的电极棒（5）的两端。此外，带电粒子束发生装置具备由所述电极框体（2）构成的引出电极。

公开(公告)号：CN102956428A

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN201210295451.3

申请日：2012-08-17

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 内藤胜男

IPC: H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/304 ,  H01J2237/0835 ,  H01J2237/30455 ,  H01J2237/30472 ,  H01J2237/31703

Abstract: 本发明提供了一种离子注入设备，包括偏转电极和遮蔽构件。离子束具有带状形状。偏转电极基于由射束电流测量装置测量的结果，使离子束的至少一部分沿长边方向朝向短边方向偏转。遮蔽构件部分地遮蔽由偏转电极偏转的离子束。偏转电极包括平板电极和包括多个电极的电极组。电极组布置成面对平板电极，以将离子束置于平板电极与电极组之间。平板电极电接地，且多个电极彼此电独立。多个电极的每一个均连接至与其他电源独立的电源以进行电位设置。