紫外线照射装置及臭氧产生器

    公开(公告)号:CN111686667B

    公开(公告)日:2022-07-19

    申请号:CN202010179086.4

    申请日:2020-03-12

    Abstract: 提供紫外线照射装置及臭氧产生器。课题在于在各种各样的使用环境下,也能够实现稳定且高效的紫外线照射处理。在紫外线照射装置(10)中,将轴流风扇(20)与管状流路(30)同轴地配置,来供给流体。并且,在配置有准分子灯(40)的区域(FA)中,在产生以流速(方向和速度)根据场所而大不相同的复杂的流(非均匀湍流)为主导的流场的区域配置准分子灯(40)。

    曝光装置和曝光方法
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113448176A

    公开(公告)日:2021-09-28

    申请号:CN202011470253.7

    申请日:2020-12-15

    Inventor: 奥山隆志

    Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光方法。在曝光装置中,平滑地形成图案倾斜线。在曝光装置(10)中,矢量数据处理电路(40)将轮廓(BD0)的矢量数据变换为向±X方向(轮廓线外侧和/或在轮廓线内侧方向)移位后的轮廓线校正矢量数据(BD+),并通过交替使用原始轮廓线矢量数据(BD0)和轮廓线校正矢量数据(BD+)来执行多重曝光动作。

    紫外线照射装置及臭氧产生器

    公开(公告)号:CN111686667A

    公开(公告)日:2020-09-22

    申请号:CN202010179086.4

    申请日:2020-03-12

    Abstract: 提供紫外线照射装置及臭氧产生器。课题在于在各种各样的使用环境下,也能够实现稳定且高效的紫外线照射处理。在紫外线照射装置(10)中,将轴流风扇(20)与管状流路(30)同轴地配置,来供给流体。并且,在配置有准分子灯(40)的区域(FA)中,在产生以流速(方向和速度)根据场所而大不相同的复杂的流(非均匀湍流)为主导的流场的区域配置准分子灯(40)。

    曝光装置以及曝光装置的对准方法

    公开(公告)号:CN107015439B

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201610865654.X

    申请日:2016-09-29

    Inventor: 三好久司

    Abstract: 曝光装置以及曝光装置的对准方法,即使对配设有众多图案的基板,也迅速且准确地进行对准。曝光装置具有对准所使用的照相机(29)和DMD(22),能够按照FO‑WLP形成图案,在该曝光装置中,使多个半导体芯片(SC)落在视野内而同时拍摄,从其图像提取各个半导体芯片(SC)的轮廓,将提取了作为标记的连接焊盘(CP)的比较对象区域(TA)的图像与模板图像进行比较,检测各芯片的位置偏差量。

    放电灯和放电灯的制造方法

    公开(公告)号:CN104584187B

    公开(公告)日:2016-11-16

    申请号:CN201380043468.2

    申请日:2013-07-08

    Inventor: 林武弘

    CPC classification number: H01J61/36 H01J9/323 H01J61/0732 H01J61/366 H01J61/86

    Abstract: 提供如下放电灯和放电灯的制造方法:能够简单且可靠地将线圈状限位器安装于电极棒,该线圈状限位器用于在密封管相对于玻璃管的熔接作业中限制玻璃管相对于电极棒朝电极侧滑动。作为其解决手段,线圈状限位器(40)具有:线圈部(41),其由金属线材的一部分构成,具有与玻璃管(21)抵接的玻璃管侧端部(42),而且,在从直径小于或等于电极棒(17)的自由状态朝扩径方向进行了弹性变形的状态下,自身的内表面会紧贴于电极棒的外周面;以及一对端部结构部(43、44),它们分别由金属线材的两端构成,位于比玻璃管侧端部靠电极侧的位置。

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