公开(公告)号：CN101750822A

公开(公告)日：2010-06-23

申请号：CN200910258383.1

申请日：2009-12-14

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 金度贤 ,  郑钟铉 ,  崔永柱 ,  朴弘植 ,  印泰炯 ,  李东勋 ,  尹弼相 ,  朴帝亨 ,  郑敞午 ,  李制勋 ,  洪瑄英 ,  金俸均 ,  李炳珍 ,  徐南锡

IPC分类号： G02F1/1362 ,  H01L23/528 ,  H01L21/768

CPC分类号： G02F1/136286 ,  G02F2001/133302 ,  G02F2001/136295

摘要： 本发明提供一种显示基板及其制造方法，该显示基板包括：底基板；设置在底基板下表面上的形变防止层，其中形变防止层向底基板施加防止底基板弯曲的力；设置在底基板上表面上的栅极线；设置在底基板上的数据线；以及设置在底基板上的像素电极。

公开(公告)号：CN1976044A

公开(公告)日：2007-06-06

申请号：CN200610140028.0

申请日：2006-10-08

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 金周汉 ,  林淳权 ,  朴弘植 ,  金時烈 ,  李殷国 ,  裴良浩 ,  李炳珍 ,  郑钟铉 ,  洪瑄英 ,  金俸均 ,  申原硕 ,  康盛旭

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L23/522 ,  H01L21/84 ,  H01L21/768

摘要： 一种薄膜晶体管阵列面板，包括：像素电极，形成在基板上；栅极线，形成在像素电极上；栅极绝缘薄膜，形成在栅极线上；半导体，形成在栅极绝缘薄膜上；数据线和漏电极，形成在栅极绝缘薄膜上；以及钝化层，形成在数据线和漏电极的部分上。栅极线包括与像素电极形成在相同层上并且具有相同材料的第一薄膜以及形成在第一薄膜上的第二薄膜。

公开(公告)号：CN102650789A

公开(公告)日：2012-08-29

申请号：CN201110265102.2

申请日：2011-09-08

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 裵洲汉 ,  李炳珍 ,  卢南锡 ,  金明焕 ,  金相日 ,  黄泰亨 ,  李善旭 ,  金由振

IPC分类号： G02F1/167

CPC分类号： G02F1/167 ,  G02F1/1681

摘要： 根据本发明的一示例性实施方式的电泳显示装置包括：下基板；上基板；设置在下基板上的薄膜晶体管；连接到薄膜晶体管的像素电极；位于下基板与上基板之间的电子墨水层；设置在上基板上的多个分隔部；设置在分隔部上的反射层；以及设置在分隔部之间的滤色器。

公开(公告)号：CN101750916A

公开(公告)日：2010-06-23

申请号：CN200910253786.7

申请日：2009-12-17

申请人： 三星电子株式会社 ,  东进瑟弥侃株式会社

发明人： 郑钟铉 ,  金俸均 ,  朴弘植 ,  洪瑄英 ,  崔永柱 ,  李炳珍 ,  徐南锡 ,  金炳郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  辛成健 ,  许舜范 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周 ,  权五焕

IPC分类号： G03F7/42 ,  H01L21/82

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288

摘要： 根据一个或多个实施方法提供光刻胶剥离剂用组合物及薄膜晶体管阵列基板的制造方法。在一个或多个实施方式中，所述组合物包括约5-30重量％的链状胺化合物、约0.5-10重量％的环状胺化合物、约10-80重量％的二醇醚化合物、约5-30重量％的蒸馏水和约0.1-5重量％的腐蚀抑制剂。

公开(公告)号：CN101256366A

公开(公告)日：2008-09-03

申请号：CN200810092008.X

申请日：2008-02-20

申请人： 三星电子株式会社 ,  东进瑟弥侃株式会社

发明人： 洪瑄英 ,  朴弘植 ,  郑钟铉 ,  金俸均 ,  申原硕 ,  李智鲜 ,  李炳珍 ,  金炳郁 ,  尹锡壹 ,  金圣培 ,  辛成健 ,  许舜范

IPC分类号： G03F7/42

摘要： 本发明涉及一种光刻胶剥离组合物和使用其剥离光刻胶膜的方法。提供一种光刻胶剥离组合物，其包括约80重量％－约98.5重量％的γ－丁内酯、约1重量％－约10重量％的氨基甲酸烷基酯、约0.1重量％－约5重量％的烷基磺酸和约0.1重量％－约5重量％的非离子型表面活性剂。可将该光刻胶剥离组合物再度用于从基板上剥离光刻胶膜而不降低剥离能力和损坏金属图案，使得可以降低光刻工艺的成本。

公开(公告)号：CN101051190A

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：CN200710089842.9

申请日：2007-04-05

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 朴弘植 ,  郑钟铉 ,  洪瑄英 ,  金俸均 ,  申原硕 ,  李炳珍

IPC分类号： G03F7/42

CPC分类号： G03F7/422

摘要： 本发明提供一种光致抗蚀剂PR剥离装置，其可以再循环光致抗蚀剂剥离剂且在过滤器操作期间实现连续的过滤动作。该PR剥离装置包括：PR剥离槽，用于接收具有PR图案的基板且用于该PR图案的剥离；PR剥离剂回收管，用于接收来自PR剥离槽的PR剥离剂；两个或更多过滤器单元，用于过滤通过PR剥离剂回收管返回的PR剥离剂；以及PR剥离剂供给管，用于向PR剥离槽供给过滤的PR剥离剂。所述两个或更多过滤器单元彼此并联连接在PR剥离剂回收管和PR剥离剂供给管之间。