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公开(公告)号：CN117882009A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202280059046.3
申请日：2022-08-30
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G73/00 , G03F7/26 , G03F7/40 , H01L21/027
Abstract: 一种旋涂碳膜形成用组合物，其为用于形成作为光刻用下层膜的旋涂碳膜的组合物，其包含树枝状高分子。
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公开(公告)号：CN107924131B
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201680050261.1
申请日：2016-08-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示化合物的结构单元的树脂中的至少任意者的光刻用下层膜形成材料。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基或羟基，在同一萘环或苯环中任选相同或不同，n为1～4的整数，n为2以上的整数的情况下，n个[]内的结构单元的结构式任选相同或不同，X表示氧原子、硫原子或为无桥接，m2各自独立地为0～7的整数，此处至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1，其中，选自由R1及R2组成的组中的至少1个为包含碘原子的基团。)
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公开(公告)号：CN111630111A
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201980009527.1
申请日：2019-01-31
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08L101/00 , C08K5/13 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 提供：能形成具有高的耐蚀刻性的膜的组合物、以及使用其的抗蚀剂图案的形成方法和绝缘膜的形成方法。一种组合物，其包含：基材(A)和多酚化合物(B)，前述基材(A)与多酚化合物(B)的质量比为5：95～95：5。一种绝缘膜的形成方法，其包括如下工序：进行所述辐射线照射后的所述光致抗蚀层的显影。
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公开(公告)号：CN107924131A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680050261.1
申请日：2016-08-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C07D405/04 , C08G61/122 , C08G2261/11 , C08G2261/1424 , C08G2261/146 , C08G2261/148 , C08G2261/149 , C08G2261/3242 , C08G2261/59 , C08G2261/76 , C08G2261/90 , C09D165/00 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2037 , G03F7/322 , G03F7/38 , H01L21/0274
Abstract: 本发明提供含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示化合物的结构单元的树脂中的至少任意者的光刻用下层膜形成材料。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基或羟基，在同一萘环或苯环中任选相同或不同，n为1～4的整数，n为2以上的整数的情况下，n个[]内的结构单元的结构式任选相同或不同，X表示氧原子、硫原子或为无桥接，m2各自独立地为0～7的整数，此处至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1，其中，选自由R1及R2组成的组中的至少1个为包含碘原子的基团。)
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公开(公告)号：CN107428717A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680018198.3
申请日：2016-03-02
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07D311/92 , C07B61/00 , C08G61/12 , G03F7/004 , G03F7/038
CPC classification number: G03F7/0045 , C07B61/00 , C07C37/20 , C07C39/14 , C07C39/17 , C07C39/225 , C07C39/42 , C07D311/78 , C07D311/92 , C07D311/96 , C08G61/12 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/2039 , G03F7/327
Abstract: 本发明为下述通式(1)所示的化合物。
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公开(公告)号：CN102471463A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080035652.9
申请日：2010-08-06
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G59/42
CPC classification number: C08G59/4215 , C08L63/00 , C09D163/00
Abstract: 一种热固性树脂组合物，其特征在于，包含具有环氧基的成分和含有环己烷三羧酸酐的固化剂成分。将该热固性树脂组合物固化而成的固化物，其表面硬度、耐溶剂性、透明性、与基材的密合性优异，作为基材的表面保护层是有用的。
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公开(公告)号：CN118973989A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202380032674.7
申请日：2023-04-10
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 下述式(1)所示的化合物。(式中，RG为包含至少1个环状结构的基团，I为碘原子，R1为任选相同或不同的碳原子数0～30且不含聚合性不饱和键的一价官能团，n为1～5的整数，m为1～5的整数。)#imgabs0#
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公开(公告)号：CN115605517B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202180035126.0
申请日：2021-05-12
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种含碘的(甲基)丙烯酸酯化合物，其用式(1)表示。式(1)中，R1表示氢原子、甲基或卤素，R2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状的有机基团、碳数3～20的支链状的有机基团、或碳数3～20的环状的有机基团，A表示碳数1～30的有机基团，A包含至少1个酰基，n1表示0或1，n2表示1～20的整数。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN115053183A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202180012942.X
申请日：2021-02-02
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C07C39/15 , C07C39/367 , C07C39/38 , C07D207/20 , C08F12/16 , C08G61/00 , C07D311/80 , C07D311/82 , C08F212/14 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明的目的在于提供：能形成曝光灵敏度优异的图案、且可以得到与抗蚀层接触的膜、下层膜的光刻用组合物等。前述目的可以通过前述光刻用组合物而实现，所述光刻用组合物包含具有选自由碘、碲和氟组成的组中的至少1种元素的化合物、或包含具有源自前述化合物的结构单元的树脂，前述化合物中的前述原子的总质量为15质量％以上且75质量％以下。
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公开(公告)号：CN113260645A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN201980086800.0
申请日：2019-12-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种化合物，其包含式(1‑1)所示的芳香族化合物与式(2‑1)所示的芳香族醛的缩合骨架。(式(1‑1)中，A表示芳香族环，R各自独立地为烷基、芳基、烯基、炔基、烷氧基、卤素原子、硝基、氨基、羧酸基、交联性基团、解离性基团、或巯基，k为0以上的整数，L为1以上的整数。)(式(2‑1)中，B表示芳香族环，R各自独立地为烷基、芳基、烯基、炔基、烷氧基、卤素原子、硝基、氨基、羧酸基、交联性基团、解离性基团、或巯基为，p为0以上的整数，q为1以上的整数，其中，至少1个羟基键合在与甲酰基所键合的碳原子相邻的碳原子上。)
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