高纯度铜电解精炼用添加剂和高纯度铜的制造方法

    公开(公告)号:CN106480475A

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:CN201610751052.1

    申请日:2016-08-29

    Abstract: 本发明提供高纯度铜电解精炼用添加剂和使用该添加剂的高纯度铜的制造方法。一种高纯度铜电解精炼用添加剂,其被添加到制造高纯度铜的电解精炼的铜电解液中,其包括:主剂,由非离子型表面活性剂构成,所述非离子型表面活性剂具有包含芳香环的疏水基和包含聚氧化烯基的亲水基;以及应力松弛剂,由聚乙烯醇或其衍生物构成。

    插拔性优异的镀锡铜合金端子材

    公开(公告)号:CN104425940A

    公开(公告)日:2015-03-18

    申请号:CN201410415663.X

    申请日:2014-08-21

    Abstract: 本发明提供一种镀锡铜合金端子材,其发挥优异的电连接性的同时将动摩擦系数减小至0.3以下,从而插拔性优异。在由Cu合金构成的基材上的表面形成有Sn系表面层,在Sn系表面层与基材之间,从Sn系表面层依次形成CuSn合金层、NiSn合金层、Ni或Ni合金层,其中,CuSn合金层为以Cu6Sn5为主成分且该Cu6Sn5的Cu的一部分被Ni置换的化合物层,NiSn合金层为以Ni3Sn4为主成分且该Ni3Sn4的Ni的一部分被Cu置换的化合物层,所述CuSn合金层的算术平均粗糙度Ra至少在一方向上为0.3μm以上,而在所有方向上的算术平均粗糙度Ra为1.0μm以下,CuSn合金层的波谷深度Rvk为0.5μm以上,Sn系表面层的平均厚度为0.4μm以上且1.0μm以下,动摩擦系数为0.3以下。

    连接器用端子材及连接器用端子

    公开(公告)号:CN113166965B

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202080006529.8

    申请日:2020-01-22

    Abstract: 本发明提供一种能够提高耐磨性及耐热性的连接器用端子材及连接器用端子的制造方法。本发明的连接器用端子材具备:基材,至少表层由铜或铜合金组成;及银镍合金层,用于包覆该基材的表面的至少一部分且膜厚为0.5μm以上且50μm以下,银镍合金层的镍含量为0.05原子%以上且2.0原子%以下。并且,在基材与银镍合金层之间设置有由镍或镍合金组成的镍层,该镍层的膜厚优选为0.5μm以上且5μm以下。

    连接器用端子材
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116134181A

    公开(公告)日:2023-05-16

    申请号:CN202180060396.7

    申请日:2021-02-24

    Abstract: 本发明的连接器用端子材料具备:基材,至少表面由铜或铜合金构成;及银镍钾合金镀层,形成于基材上的至少一部分,银镍钾合金镀层的膜厚为0.5μm以上且20.0μm以下,镍含量为0.02质量%以上且0.60质量%以下,钾含量为0.03质量%以上且1.00质量%以下,银镍钾合金镀层的平均晶体粒径可以为10nm以上且150nm以下。

    高纯度电解铜的制造方法
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110678582A

    公开(公告)日:2020-01-10

    申请号:CN201880035087.2

    申请日:2018-06-01

    Abstract: 本发明的高纯度电解铜的制造方法的特征在于,将含有疏水基团的芳香族环和亲水基团的聚氧化烯基的第一添加剂(A)、由聚乙烯醇类构成的第二添加剂(B)及由四唑类构成的第三添加剂(C)添加到铜电解液中,并控制第一添加剂(A)、第二添加剂(B)及第三添加剂(C)的各浓度以及电流密度和浴温以进行铜电解,由此制造如下的电解铜:Ag浓度小于0.2质量ppm、S浓度小于0.07质量ppm以及总杂质浓度小于0.2质量ppm,并且晶粒内平均取向差(称为GOS值)超过2.5°的晶粒以面积比率计为10%以下。

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