公开(公告)号：CN118108250A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202311611508.0

申请日：2023-11-29

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 手岛隆行

IPC: C01G21/00 ,  B82Y40/00 ,  C09K11/66 ,  B82Y20/00

Abstract: 具有钙钛矿型晶体结构的光响应纳米颗粒的制造方法。该方法包括将含有卤化铅的第一原料液和含有脂肪酸铯的第二原料液通过输送路径连续输送到加热的混合器的第一步骤，以及将第一原料液与第二原料液混合的第二步骤。

公开(公告)号：CN105280263B

公开(公告)日：2019-03-26

申请号：CN201510442291.4

申请日：2015-07-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 手岛隆行 ,  冈有纱

IPC: G21K1/06 ,  H05H1/46 ,  G01N23/04

Abstract: 结构体，其包括：具有多个凹部的硅基板，每个凹部具有底部和侧壁；硅化物层，每个硅化物层与凹部的底部接触；和包括金属部的金属结构体，每个金属部设置在凹部中并且与硅化物层接触。通过硅基板将硅化物层彼此电连接。

公开(公告)号：CN1204850A

公开(公告)日：1999-01-13

申请号：CN98108731.0

申请日：1998-03-20

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 宫本稚彦 ,  长谷川光利 ,  三道和宏 ,  重冈和也 ,  山野边正人 ,  手岛隆行 ,  吉冈利文

IPC: H01J9/02

CPC classification number: B41M5/52 ,  B41J2/01 ,  B41M5/0017 ,  B41M5/0047 ,  B41M5/007 ,  B41M5/529 ,  G02B5/201 ,  H01J9/027 ,  H05K3/1241

Abstract: 在此披露了一种用于生产印制基片的方法,包括向基片表面涂敷液体的液滴的步骤,以便在基片上形成该部件,该液体含有用于要在基片上形成的部件的材料,其特征在于该工艺包括:在向基片表面涂敷液滴之前对基片进行表面处理的步骤,以这样的方式进行该处理,即使涂敷的液滴与基片表面的接触角度在20°到50°的范围内。