合成石英玻璃基板用研磨剂以及合成石英玻璃基板的研磨方法

    公开(公告)号:CN107532066B

    公开(公告)日:2020-06-02

    申请号:CN201680026694.3

    申请日:2016-03-31

    IPC分类号: C09K3/14 B24B37/00

    摘要: 本发明是一种合成石英玻璃基板用研磨剂,其包含研磨磨料、研磨促进剂及水,所述合成石英玻璃基板用研磨剂的特征在于,前述研磨磨料是湿式氧化铈粒子,前述研磨促进剂是聚磷酸或其盐、偏磷酸或其盐、以及钨酸或其盐中的任一种。据此,提供一种合成石英玻璃基板用研磨剂,其具有高研磨速度,并且能够充分减少由于研磨而产生缺陷的情况。

    量子点的制造方法
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115943122A

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202180041886.2

    申请日:2021-05-06

    摘要: 本发明为一种量子点的制造方法,其为钙钛矿型的量子点的制造方法,其中,使用分别包含不同元素的多个前驱体溶液,将所述多个前驱体溶液分别加热,制成所述前驱体溶液的气溶胶并分别进行喷雾,使多个所述气溶胶碰撞而进行气相反应并滴加至溶剂中,由此合成包含所述不同元素的核颗粒。由此,提供一种可进行粒径的控制、在大规模的合成中也可得到粒径均匀的纳米颗粒的量子点的制造方法。

    研磨组合物及其制造方法、以及研磨方法

    公开(公告)号:CN107743515A

    公开(公告)日:2018-02-27

    申请号:CN201680033515.9

    申请日:2016-05-06

    IPC分类号: C09K3/14 H01L21/304 B24B37/00

    CPC分类号: B24B37/00 C09K3/14 H01L21/304

    摘要: 本发明是一种研磨组合物,其包含二氧化锆作为磨粒,所述研磨组合物的特征在于,pH值是11.0以上且未满12.5;前述二氧化锆中所包含的钠、镁、铝、钾、钙、钛、铬、铁、锰、镍、铜、锌、铅及钴的元素浓度各自未满1ppm。由此,提供一种研磨组合物,其可生产性良好地获得一种半导体基板,所述半导体基板不仅内周部的平坦性高,外周部的平坦性也高,并且由金属杂质所造成的污染少。