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公开(公告)号：CN102543798A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201210024293.8
申请日：2008-07-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿希什·沙 , 加内什·巴拉萨布拉曼尼恩 , 戴尔·R·杜波依斯 , 马克·A·福多尔 , 金义勇 , 秋·钱 , 卡希克·贾纳基拉曼 , 托马斯·诺瓦克 , 约瑟夫·C·沃纳 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 , 穆罕默德·阿尤布 , 阿米尔·阿拉-巴提亚 , 周建华
CPC classification number: H01L21/68 , Y10S414/136
Abstract: 本发明包含用以在基板边缘区域进行蚀刻的装置与方法。于一实施例中，该装置包含腔室主体、基板支撑件、等离子体产生器以及气体传送组件，该腔室主体具有处理容积；该基板支撑件设置在该处理容积内侧，且该基板支撑件具有基板支撑表面；该等离子体产生器连接至该腔室，将等离子体相的蚀刻剂提供至该基板支撑表面的周边区域；以及该气体传送组件连接至气体源，以在该基板支撑表面上产生径向气流，所述径向气流从该基板支撑表面的约中央区域朝向该基板支撑表面的周边区域。
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公开(公告)号：CN101689492B
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN200880024240.8
申请日：2008-07-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿希什·沙 , 加内什·巴拉萨布拉曼尼恩 , 戴尔·R·杜波依斯 , 马克·A·福多尔 , 金义勇 , 秋·钱 , 卡希克·贾纳基拉曼 , 托马斯·诺瓦克 , 约瑟夫·C·沃纳 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 , 穆罕默德·阿尤布 , 阿米尔·阿拉-巴提亚 , 周建华
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/68 , Y10S414/136
Abstract: 本发明包含用以在基板边缘区域进行蚀刻的装置与方法。于一实施例中，该装置包含腔室主体、基板支撑件、等离子体产生器以及气体传送组件，该腔室主体具有处理容积；该基板支撑件设置在该处理容积内侧，且该基板支撑件具有基板支撑表面；该等离子体产生器连接至该腔室，将等离子体相的蚀刻剂提供至该基板支撑表面的周边区域；以及该气体传送组件连接至气体源，以在该基板支撑表面上产生径向气流，所述径向气流从该基板支撑表面的约中央区域朝向该基板支撑表面的周边区域。
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公开(公告)号：CN117677728A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202280048516.6
申请日：2022-05-26
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戴维·马萨尤基·石川 , 桑姆特·达塔特拉亚·阿查利雅 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南
Abstract: 提供了一种用于为反应性沉积工艺、反应性沉积设备、及反应性沉积方法提供气体的蒸发系统。蒸发系统包括用于单侧或双侧连续辊到辊或分批涂覆卷材基板的多区扩散器组件。扩散器组件的大小经调节为容纳涂覆滚筒的至少一部分。扩散器组件包括用于朝向卷材基板递送蒸发的材料的多个可互换固体板及扩散器板。扩散器板与蒸发源流体耦接。
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公开(公告)号：CN117203364A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202280030272.9
申请日：2022-03-02
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿比吉特·拉克斯曼·桑格尔 , 尼利斯·帕蒂尔 , 维杰·班·夏尔马 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南
IPC: C23C14/34
Abstract: 公开了一种气相沉积系统及其操作方法。所述气相沉积系统包括：真空腔室；电介质靶，所述电介质靶在所述真空腔室内，所述电介质靶具有前表面和厚度；基板支撑件，所述基板支撑件在所述真空腔室内，所述基板支撑件具有与所述电介质靶的所述前表面间隔以形成工艺间隙的前表面；以及信号发生器，所述信号发生器连接到所述电介质靶以在所述真空腔室中产生等离子体，所述信号发生器包括功率源，所述功率源被构造为阻止在所述电介质靶中发生电荷积聚。所述方法包括向所述真空腔室内的电介质靶施加功率以在所述电介质靶与基板支撑件之间的工艺间隙中产生等离子体并脉冲施加到所述电介质靶的所述功率以阻止电荷积聚。
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公开(公告)号：CN112703271A
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN201980057736.3
申请日：2019-08-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 苏布拉曼亚·P·赫尔勒 , 维森特·M·林 , 巴萨瓦拉吉·帕坦谢蒂 , 阿杰·茂 , 马可·莫尔 , 比约恩·斯蒂克瑟-韦斯 , 奈尔施·奇尔曼奥·巴古 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南
IPC: C23C16/448 , C23C16/52 , C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/50 , H01M4/04
Abstract: 提供一种用于将化学前驱物直接液体注射(DLI)到处理腔室中的方法和设备。DLI系统包括液体前驱物源汽化系统，所述系统稳定并且有效地使液体汽化。在一个实施方式中，DLI系统是闭环集成系统，所述闭环集成系统将注射阀(IV)连同液体流量计(LFM)、作为加压前驱物源的安瓿组件、用于加压安瓿组件中的前驱物的惰性推进气体、用于维持目标温度状况的温度控制器、泄漏检测和到气体加热器的受控载气流量进行组合。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112543820A
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201980044749.7
申请日：2019-06-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 , 乔纳森·弗兰克尔 , 戴维·马萨尤基·石川 , 夸克·特伦 , 约瑟夫·尤多夫斯基
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/448 , C23C16/40 , A61K9/50
Abstract: 一种用于涂布颗粒的反应器包括一个或更多个马达；旋转真空腔室，所述旋转真空腔室经配置以保持待涂布的颗粒，其中所述旋转真空腔室耦接至所述马达以使所述旋转真空腔室围绕所述旋转真空腔室的圆柱形部分的轴向轴线在第一方向上旋转；真空端口，所述真空端口用于从所述旋转真空腔室排放气体；桨叶组件，所述桨叶组件包括延伸经过所述旋转真空腔室并耦接至所述一个或更多个马达的可旋转驱动轴、和从所述驱动轴径向延伸的至少一个桨叶，使得所述驱动轴藉由所述马达导致的旋转使所述桨叶围绕所述驱动轴在第二方向上旋转；和化学品输送系统，所述化学品输送系统包括在所述桨叶上的气体出口，所述气体出口经配置以将处理气体注入所述颗粒中。
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公开(公告)号：CN117355627A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202280036157.2
申请日：2022-05-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 普拉桑纳卡莱什瓦拉·布达帕·拉马钱德拉帕 , 山布·纳特·昆杜 , 维森特·M·林 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 , 苏布拉曼亚·P·赫尔勒
IPC: C23C14/24
Abstract: 提供了用于以固定体积输送熔融金属和金属合金的方法和系统。该系统包括具有流体入口端口的蒸发系统和流体输送系统。流体输送系统包括可操作以容纳源材料的安瓿。安瓿包括流体出口端口和气体入口端口。流体输送系统进一步包括流体输送管线，该流体输送管线可操作以将源材料输送到蒸发系统。流体输送管线包括与流体出口端口流体耦接的第一端以及与流体入口端口流体耦接的第二端。流体输送管线进一步包括沿流体输送管线设置的第一隔离阀和沿流体输送管线设置的第二隔离阀，第一隔离阀和第二隔离阀界定流体输送管线的一固定体积。
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公开(公告)号：CN117242565A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202280029306.2
申请日：2022-03-02
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 马库斯·布莱克·弗雷塔斯 , 戴维·马萨尤基·石川 , 维贾伊·D·帕克赫 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南
IPC: H01L21/687
Abstract: 用于在处理腔室的基座加热器上的温度探头集成的设备和系统包括冷却组件，所述冷却组件用于冷却设置在内的温度探头。冷却组件可以是主动水冷的、通过鳍片堆叠被动冷却的。另外的冷却组件包括机械臂组件，所述机械臂组件用于降低或升高所述温度探头。
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公开(公告)号：CN116685711A
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202180086385.6
申请日：2021-11-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塔帕什·查克拉博蒂 , 尼廷·迪帕克 , 普雷纳·桑塔利亚·戈拉迪亚 , 巴扈巴利·S·乌帕德亚 , 奈尔施·奇尔曼奥·巴古 , 苏布拉曼亚·P·赫尔勒 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南
IPC: C23C16/44
Abstract: 移除含锂沉积物的示例性方法可包括加热含锂沉积物的表面。该表面可包括氧或氮，并且含锂沉积物可以设置在处理腔室的表面上。这些方法可包括使含锂沉积物的表面与含氢前驱物接触。接触可氢化含锂沉积物的表面。这些方法可包括使含锂沉积物与含氮前驱物接触以形成挥发性副产物。这些方法可包括从处理腔室中排出含锂沉积物的挥发性副产物。
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公开(公告)号：CN112313066A
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201980042110.5
申请日：2019-05-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 类维生 , 马亨德兰·奇丹巴拉姆 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 , 卡西夫·马克苏德
IPC: B29C64/264 , G02B26/10 , B29C64/236 , B29C64/205 , B29C64/393 , B29C64/153 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , B33Y10/00
Abstract: 一种增材制造设备包括：平台；分配器，所述分配器被配置为将多个连续的馈给材料层输送到所述平台上；至少一个光源，所述至少一个光源被配置为生成第一光束和第二光束；多面镜扫描仪；致动器；和振镜扫描仪。所述多面镜扫描仪被配置为接收所述第一光束并将所述第一光束朝向所述平台反射。所述第一多面镜的旋转引起所述光束在第一方向上沿着所述平台上的馈给材料层上的某一路径移动。所述致动器被配置为引起所述路径沿着相对于所述第一方向呈非零角度的第二方向移动。所述振镜扫描仪系统被配置为接收第二光束并将所述第二光束朝向所述平台反射。
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