公开(公告)号：CN117373950A

公开(公告)日：2024-01-09

申请号：CN202311267661.6

申请日：2018-05-17

申请人： 细美事有限公司

发明人： 方炳善 ,  郑富荣 ,  崔重奉 ,  金奉主 ,  李映一 ,  宋吉勋 ,  朴贵秀 ,  金光烈 ,  李广燮 ,  柳镇泽

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/311

摘要： 本发明涉及一种基板处理装置。公开了一种基板处理装置和基板处理方法。基板处理方法包括通过向基板照射激光来去除一部分薄膜，并且在去除一部分薄膜之后，通过向基板供应化学品来去除剩余部分的薄膜。

公开(公告)号：CN116013808A

公开(公告)日：2023-04-25

申请号：CN202211288412.0

申请日：2022-10-20

申请人： 细美事有限公司

发明人： 河道炅 ,  尹泰锡 ,  崔文淳 ,  安求悦 ,  林采永 ,  郑富荣

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/02

摘要： 本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：支撑单元，所述支撑单元被配置为支撑基板；以及液体供应单元，所述液体供应单元被配置为将处理液供应到支撑在所述支撑单元上的所述基板上，并且其中所述液体供应单元包括：罐，所述罐被配置为具有容纳空间，该容纳空间用于在其中储存所述处理液；循环管线，所述循环管线被配置为使储存在所述容纳空间中的所述处理液循环；补充管线，所述补充管线被配置为将所述处理液供应至所述容纳空间，并且在所述补充管线处安装有阀；加热器，所述加热器安装在所述循环管线处并且用于加热所述处理液；以及控制器，所述控制器用于控制所述阀。

公开(公告)号：CN108962743A

公开(公告)日：2018-12-07

申请号：CN201810476146.1

申请日：2018-05-17

申请人： 细美事有限公司

发明人： 方炳善 ,  郑富荣 ,  崔重奉 ,  金奉主 ,  李映一 ,  宋吉勋 ,  朴贵秀 ,  金光烈 ,  李广燮 ,  柳镇泽

IPC分类号： H01L21/311 ,  H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67028 ,  B08B3/041 ,  B08B3/08 ,  B08B7/0042 ,  B08B7/04 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/0732 ,  B23K26/0823 ,  B23K26/0869 ,  B23K26/123 ,  B23K26/127 ,  B23K26/352 ,  B23K26/402 ,  B23K2101/34 ,  B23K2101/40 ,  B23K2103/50 ,  C03C23/0025 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/31105 ,  H01L21/6708

摘要： 公开了一种基板处理装置和基板处理方法。基板处理方法包括通过向基板照射激光来去除一部分薄膜，并且在去除一部分薄膜之后，通过向基板供应化学品来去除剩余部分的薄膜。

公开(公告)号：CN112151413B

公开(公告)日：2024-09-13

申请号：CN202010592248.7

申请日：2020-06-24

申请人： 细美事有限公司

发明人： 梁承太 ,  郑富荣 ,  赵乘桓

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 本发明构思涉及液体供应单元和基板处理装置。根据一实施方式，基板处理装置包括：壳体，其在其中具有工艺空间；支承单元，其在所述壳体中支承所述基板；喷嘴，其将处理液体分配到支承在所述支承单元上的所述基板上；和液体供应单元，其将所述处理液体供应到所述喷嘴，其中，所述液体供应单元包括：容器，其具有存储空间，所述处理液体存储在所述存储空间中；液体供应管，其使所述处理液体从所述容器流至所述喷嘴；和微波施用构件，其在所述处理液体被供应到喷嘴之前、将微波施用至所述处理液体。

公开(公告)号：CN111146074B

公开(公告)日：2023-08-04

申请号：CN201910991490.9

申请日：2019-10-18

申请人： 细美事有限公司

发明人： 吴承勋 ,  柳镇泽 ,  郑富荣 ,  方炳善 ,  金永珍 ,  崔英骏 ,  禹钟贤

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687

摘要： 本发明的实施例提供一种基板处理方法及基板处理装置，多个回收杯布置成多级，向在所述回收杯的内侧布置的旋转卡盘上的基板喷射处理液来进行液处理工艺，其中，在所述回收杯中任一个回收杯发生高度改变的过渡时间区，连动于所述回收杯的高度改变而调节支承基板的旋转卡盘的旋转速度。

公开(公告)号：CN116387179A

公开(公告)日：2023-07-04

申请号：CN202211462430.6

申请日：2022-11-17

申请人： 细美事有限公司

发明人： 韩泳遵 ,  崔气勋 ,  梁承太 ,  朴尚禹 ,  金圣贤 ,  郑富荣

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02

摘要： 一种衬底处理设备包括：喷嘴单元，包括：喷嘴尖端，将液体排放到衬底；以及液体供应管线，将液体供应给喷嘴单元，其中液体供应管线包括：液体供应管，被连接至喷嘴尖端；供应阀，被安装在液体供应管中；以及加热器，被设置在喷嘴尖端与供应阀之间的液体供应管中。

公开(公告)号：CN116230579A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202211175115.5

申请日：2022-09-26

申请人： 细美事有限公司

发明人： 安求悦 ,  河道炅 ,  崔文淳 ,  郑富荣 ,  李景训 ,  林采永

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02

摘要： 提供了使用能够快速且稳定地生成混合液的混合装置的基板处理装置。该基板处理装置包括：混合喷嘴，在其内部具有倒锥形状的混合空间，并且包括：第一流入口，设置在混合空间的侧表面；第二流入口，设置在混合空间的上表面；以及排出口，设置在混合空间的下部；第一液态化学品供应部，与第一流入口连接；第二液态化学品供应部，与第二流入口连接；以及供应罐，与排出口连接，其中，第一液态化学品供应部通过第一流入口向混合空间供应第一液态化学品，第二液态化学品供应部通过第二流入口向混合空间供应第二液态化学品，由第一液态化学品和第二液态化学品在混合空间内混合而成的混合液通过排出口供应到供应罐。

公开(公告)号：CN113130350A

公开(公告)日：2021-07-16

申请号：CN202011529351.3

申请日：2020-12-22

申请人： 细美事有限公司

发明人： 梁承太 ,  崔气勋 ,  郑富荣 ,  朴贵秀

IPC分类号： H01L21/67 ,  B01J19/10 ,  B01D37/00

摘要： 一种用于处理基板的装置，包括：壳体；支撑单元，其在壳体中支撑基板；喷嘴，其将处理液分配到基板上；和液体供应单元，其将处理液供应至喷嘴。液体供应单元包括：容器，其具有储存处理液的储存空间；液体供应管，处理液通过该液体供应管从容器流至喷嘴；和超声波施加构件，其在处理液被供应至喷嘴之前向处理液施加超声波。超声波施加构件包括：储液器，其具有容纳液体的内部空间；和超声发生器，其向容纳在储液器中的液体施加超声波。液体供应管的一部分浸没在容纳于储液器中的液体中。

公开(公告)号：CN107342249B

公开(公告)日：2020-11-06

申请号：CN201710302224.1

申请日：2017-05-02

申请人： 细美事有限公司

发明人： 郑富荣 ,  柳镇泽 ,  宋吉勋 ,  朴善用

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：壳体，所述壳体在其中具有处理空间;旋转头，所述旋转头用于支撑和旋转所述处理空间中的基板；以及化学品供应单元，所述化学品供应单元具有喷射喷嘴，所述喷射喷嘴用于将化学品供应到由所述旋转头支撑的所述基板上，其中，所述喷射喷嘴包括喷嘴主体，且其中所述喷嘴主体包括内部空间和微孔，所述内部空间用于接收化学品，所述微孔与所述内部空间连接，用于向下排放所述化学品。

公开(公告)号：CN111146074A

公开(公告)日：2020-05-12

申请号：CN201910991490.9

申请日：2019-10-18

申请人： 细美事有限公司

发明人： 吴承勋 ,  柳镇泽 ,  郑富荣 ,  方炳善 ,  金永珍 ,  崔英骏 ,  禹钟贤

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687

摘要： 本发明的实施例提供一种基板处理方法及基板处理装置，多个回收杯布置成多级，向在所述回收杯的内侧布置的旋转卡盘上的基板喷射处理液来进行液处理工艺，其中，在所述回收杯中任一个回收杯发生高度改变的过渡时间区，连动于所述回收杯的高度改变而调节支承基板的旋转卡盘的旋转速度。