公开(公告)号：CN101598904A

公开(公告)日：2009-12-09

申请号：CN200910151900.5

申请日：2005-12-26

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股有限公司

发明人： A·J·布里克 ,  J·J·M·巴塞曼斯 ,  M·M·T·M·迪伊里奇斯 ,  C·瓦格纳 ,  L·赖齐科夫 ,  S·Y·斯米诺夫 ,  K·Z·特鲁斯特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/702 ,  G03F7/70291

摘要： 提供了一种光刻设备，包括：照明系统，所述照明系统调整辐射束；构图阵列，所述构图阵列包括单独可控元件以构图；以及投影系统，所述投影系统将该构图辐射束投射在衬底的目标部分上，其中布置该辐射束以便非垂直地照射该构图阵列，其中包括多个构图阵列和相应的多个耦合反射镜，布置每个耦合反射镜以将由相应的构图阵列之一选择性反射的辐射引导到该投影系统中。本发明还提供一种器件制造方法。

公开(公告)号：CN1896876A

公开(公告)日：2007-01-17

申请号：CN200610101495.2

申请日：2006-07-10

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： W·P·德博伊杰 ,  C·瓦格纳

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC分类号： G03F7/70125 ,  G03F7/70566

摘要： 一种光刻装置，其包括照明系统，该照明系统具有多个光学元件，其能够调节辐射光束从而在横截面中包括线偏振辐射的第一部分以及非偏振或圆偏振辐射的第二部分。该装置进一步包括构造为支承构图部件的支架，构图部件能够给照明辐射光束的横截面赋予图案以形成带图案的辐射光束。提供一基底台来保持基底，同时提供投影系统，并将其配置为将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上。

公开(公告)号：CN103733735A

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：CN201180072807.0

申请日：2011-12-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·凯姆鹏 ,  E·鲁普斯特拉 ,  C·瓦格纳 ,  H·泰根博世 ,  G·斯温克尔斯

IPC分类号： H05G2/00

CPC分类号： H05G2/006 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

摘要： 一种辐射源包括：喷嘴，配置成沿着轨迹朝向等离子体形成位置引导燃料液滴（30）的流；激光器，配置成输出激光辐射，所述激光辐射在等离子体形成位置处被引导到燃料液滴上以在使用中生成用于产生辐射的等离子体；和捕捉装置，配置成捕捉穿过等离子体形成位置的燃料液滴，所述捕捉装置包括：容器（40），被配置成容纳流体（42）；驱动器（44），被配置成驱动所述流体以使得流体移动；所述捕捉装置被配置成使得燃料液滴入射到移动的流体上。

公开(公告)号：CN1797214A

公开(公告)日：2006-07-05

申请号：CN200510134132.4

申请日：2005-12-26

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股有限公司

发明人： A·J·布里克 ,  J·J·M·巴塞曼斯 ,  M·M·T·M·迪伊里奇斯 ,  C·瓦格纳 ,  L·赖齐科夫 ,  S·Y·斯米诺夫 ,  K·Z·特鲁斯特

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/702 ,  G03F7/70291

摘要： 一种系统和方法用于引导辐射束以非垂直地照射用于构图该辐射束的单独可控元件的构图阵列。这些单独可控元件可以改变该辐射束的远心。可以通过凹面镜或使用在这些单独可控元件的物场中放置的折叠式反射镜来将该辐射束投射到这些单独可控元件上。可替换地，这些单独可控元件可以改变该辐射束的光轴。