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公开(公告)号：CN116507581A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202180079827.4
申请日：2021-11-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： L·R·S·哈斯帕拉夫 , N·潘迪 , T·W·范德伍德 , 哈利勒·戈凯·叶根 , J·V·奥沃卡姆普 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , A·胡布里特 , A·L·克莱因 , G·布瑞恩达尼托里 , E·A·奥索里奥欧利弗罗斯
IPC分类号： B81B7/00
摘要： 一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及针对所述多个反射镜中的每个反射镜，用于使所述反射镜移位的至少一个压电致动器，其中，所述至少一个压电致动器被连接至所述衬底。所述微反射镜阵列还包括将所述反射镜连接至所述至少一个压电致动器的一个或更多个导柱。也披露一种形成这种微反射镜阵列的方法。所述微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。所述可编程照射器可以用于光刻设备和/或检查和/或量测设备中。
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公开(公告)号：CN111149062B
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN201880062392.0
申请日：2018-09-14
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
摘要： 一种检查设备，包括：被配置为从具有正衍射级辐射和负衍射级辐射的量测目标接收衍射辐射的物镜；被配置为将衍射辐射分离成分别与多个不同值或类型的一个或多个辐射特性中的每个辐射特性相对应并且分别与正衍射级和负衍射级相对应的部分的光学元件；以及被配置为分别并且同时测量这些部分的检测器系统。
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公开(公告)号：CN114270267A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202080058034.X
申请日：2020-07-15
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： N·潘迪
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了一种用于量测装置的检测设备，所述量测装置能够操作以根据已从样本散射的被散射的辐射测量感兴趣的参数。所述检测装置包括检测器，所述检测器包括像素阵列。所述像素阵列包括：成像像素，所述成像像素用于检测图像，所述感兴趣的参数是根据所述图像确定的；和方向检测像素，所述方向检测像素用于检测所述被散射的辐射在所述检测器上的入射角度。
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公开(公告)号：CN110622068B
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN201880024727.X
申请日：2018-03-15
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了用于测量在衬底上形成的多个结构的方法和设备。在一种布置中，方法包括从第一测量过程获取数据。第一测量过程包括单独地测量多个结构中的每个结构以测量结构的第一特性。第二测量过程被用于测量多个结构中的每个结构的第二特性。第二测量过程包括利用具有辐射特性的辐射照射每个结构，辐射特性是使用针对该结构所测量的第一特性针对该结构单独地被选择的。
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公开(公告)号：CN109073980B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201680081810.1
申请日：2016-11-29
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/956
摘要： 本文披露了一种调节量测设备的方法，所述方法包括：将量测设备的光瞳平面中的强度分布在空间上划分成多个像素；通过使用计算机调节所述多个像素的强度，减少目标中的结构不对称性对由所述量测设备对所述目标进行的测量的影响。
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公开(公告)号：CN112639622A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201980057917.6
申请日：2019-07-31
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/47 , G01N21/956
摘要： 一种用于确定衬底上的结构的关注的特性的量测设备，所述量测设备包括：辐射源，所述辐射源用于产生照射辐射；至少两个照射分支，所述至少两个照射分支用于照射所述衬底上的所述结构，所述照射分支被配置成从不同角度照射所述结构；以及辐射切换器，所述辐射切换器被配置成接收所述照射辐射并且将所述照射辐射的至少一部分转移至所述至少两个照射分支中的可选的一个照射分支。
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公开(公告)号：CN109564395B
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201780048092.2
申请日：2017-07-17
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 公开了用于处理具有相干性的辐射束的装置和方法。在一种布置中，光学系统接收具有相干性的辐射束。辐射束包括分布在一个或多个辐射束空间模式之上的分量。波导支持多个波导空间模式。光学系统将属于共同辐射束空间模式并且具有不同频率的辐射束的多个分量引导到波导上，使得多个分量中的每个分量耦合到波导空间模式的不同集合，每个集合包括一个或多个波导空间模式。
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公开(公告)号：CN108700824B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201780012412.9
申请日：2017-02-07
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 散射计执行目标结构的一个或更多个参数的基于衍射的测量。为了平行进行双色测量，该结构与具有第一波长和第一角度分布的第一辐射(302)、具有第二波长和第二角度分布的第二辐射(304)同时被照射。收集路径(CP)包括分段的波长选择滤光器(21,310)，其被布置成透过被衍射的第一辐射(302X，302Y)和被衍射的第二辐射(304X，304Y)的所需高阶部分，同时阻挡第一辐射和第二辐射的零阶部分(302”,304”)。在一个实施例中，照射路径(IP)包括匹配的分段波长选择滤光器(13,300)，其定向为使得通过照射光学系统和收集光学系统的零阶光线依赖于其波长而被所述滤光器之一或其它滤光器阻挡。
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