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公开(公告)号：CN101828140B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200880112270.4
申请日：2008-10-08
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B27/42
CPC classification number: G03F7/70408 , G02B5/1809 , G02B5/1814
Abstract: 本发明提供了一种使用衍射光栅的激光干涉光刻方法，该方法包括以下步骤：(a)在将要形成重复精细图形的工作基板上形成光刻胶层；(b)在光刻胶层上形成折射率匹配材料层；(c)在折射率匹配材料层上形成衍射光栅的周期为λ/ng～λ/n0的衍射光栅层，其中λ为激光束的波长，ng为衍射光栅的折射率，且n0为空气或真空中的折射率；以及(d)通过向衍射光栅层上垂直输入激光束并利用具有相同绝对值的正负级衍射光的相互干涉使光刻胶层曝光。该方法可以实现具有更高分辨率的干涉图形，且可使用较低相干性的激光源。
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公开(公告)号：CN101790777B
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN200880025623.7
申请日：2008-07-24
Applicant: LG化学株式会社
IPC: H01L21/28
CPC classification number: H01L21/288 , H01L21/268 , H05K1/092 , H05K1/097 , H05K3/102 , H05K3/105 , H05K3/1283 , H05K2201/0209 , H05K2203/107 , H05K2203/1131
Abstract: 一种导电铜图形层的制备方法包括：(步骤1)制备选自铜粒子、铜氧化物粒子及其混合物中的铜基粒子的分散溶液；(步骤2)通过将铜基粒子的分散溶液以预定的形状印刷或填充在基板上形成铜基粒子图形层；和(步骤3)用激光照射铜基粒子图形层以灼烧包含在铜基粒子图形层中的铜基粒子，并使其相互连接。这种制备方法通过使用激光在短时间内用高能量灼烧铜基粒子图形层。因此，即使在空气中也可以得到几乎没有被氧化的铜图形层，从而形成了具有优异导电性的铜图形层。
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公开(公告)号：CN101176192B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200680016207.1
申请日：2006-05-12
Applicant: LG化学株式会社
IPC: H01L21/32
CPC classification number: C09D11/30 , H01L21/02118 , H01L21/02288 , H01L21/312
Abstract: 本发明公开了一种形成图形的方法，其包括如下步骤：(a)提供具有部分或全部形成于基板上且由第一材料制成的牺牲层的基板；(b)通过使用第一方式在牺牲层上形成不含第一材料且具有第一分辨率或比第一分辨率低的分辨率所获得的最小线宽的图形沟纹；(c)通过使用第二方式用第二材料填充所述图形沟纹；及(d)通过照射或加热除去存在于残留的牺牲层中的第一材料，其中，第一材料的阈通量密度小于第二材料的阈通量密度，在步骤(d)中以在第一材料的阈通量密度至第二材料的阈通量密度范围内的剂量除去第一材料，并且由第二材料在所述基板上形成所述图形。本发明还公开了具有由所述方法形成的预图形的基板。所述形成图形的方法提供了高分辨率的图形，并且该方法很少或不浪费第二材料，从而降低了生产成本。该方法包括将例如激光聚焦能量束的具有高分辨率的第一方式与例如喷墨的具有低分辨率的第二方式结合使用，并提供具有高加工效率的高分辨率的图形。
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公开(公告)号：CN101512422B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200780032841.9
申请日：2007-09-04
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02F1/15
CPC classification number: G02F1/153
Abstract: 一种形成电致变色层图形的方法，该方法包括：在透明基板上形成透明电极层和光刻胶层；通过激光干涉光刻法形成光刻胶图形；和通过在基板的上表面上沉积电致变色层而经过由光刻胶图形限定的开口在透明电极上沉积电致变色层图形，然后除去光刻胶图形。在透明层与光刻胶层之间可以进一步形成绝缘层。在此，可在采用光刻胶图形作为刻蚀掩膜形成绝缘层图形后形成电致变色层。在这种情况下，在由绝缘层图形限定的开口内形成电致变色层图形。因此，增加了电致变色层图形与离子导电层之间的接触面积从而确保快的响应速度。
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公开(公告)号：CN104011570A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201280064182.8
申请日：2012-12-21
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3075 , G02B5/3058
Abstract: 本申请涉及一种制备偏振光分离元件的方法、偏振光分离元件、光辐射装置、辐射光的方法以及制备定向排序的光控取向层的方法。本申请的制备偏振光分离元件的方法具有简单的制备过程和较低的生产成本，并且有助于制备大尺寸的紫外偏振光分离元件。此外，本申请的偏振光分离元件对于紫外线和热具有优异的耐久性，由于对偏振特性的间距依赖性较低而具有简便的制备过程，而且即使在短波长区域内也能够实现优良的偏振度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101573639A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200780048680.2
申请日：2007-12-28
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B5/20
CPC classification number: G02B1/111
Abstract: 本发明提供了一种用于减反射的涂层组合物，其包含折射率为1.2～1.45的低折射－热固性树脂、折射率为1.46～2的高折射－紫外线固化树脂和紫外线吸收剂；使用所述涂层组合物制备的减反射膜；和制备所述减反射膜的方法。根据本发明的减反射膜具有优异的耐磨性和减反射特性。此外，由于可以以一步涂覆方法制备所述减反射膜，所以可以降低制备成本。
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公开(公告)号：CN104755971B
公开(公告)日：2017-09-29
申请号：CN201380055072.X
申请日：2013-08-29
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: G02B27/283 , G02B5/20 , G02B5/30 , G02B5/3058 , G02B5/3075 , G02F1/133788 , G21K1/16 , G21K5/04
Abstract: 本申请涉及一种偏振紫外线分离元件及其用途。本申请可以提供一种偏振紫外线分离元件，所述偏振紫外线分离元件在较宽范围的紫外线区域内表现出优异的分离效率，并且该偏振紫外线分离元件具有优异的耐久性。所述元件可以用于，例如，液晶定向膜的光定向过程中。
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公开(公告)号：CN105358287A
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201480039039.2
申请日：2014-07-09
Applicant: LG化学株式会社
IPC: B23K20/22
CPC classification number: B23K20/10 , B23K20/233 , B23K20/2336 , B23K26/22 , B23K26/244 , B23K26/32 , B23K2101/38 , B23K2103/10 , B23K2103/12 , B23K2103/18
Abstract: 公开了一种焊接不同种金属的方法，包括：制备含不同种金属的汇流条，该含不同种金属的汇流条包含由第一金属制成的板形第一部件以及在该第一部件下的由第二金属制成的板形第二部件；将该含不同种金属的汇流条的一侧折叠为使得该第二部件的一部分位于该第一部件的一部分上；在该第一部件上焊接由该第一金属制成的引线；以及在位于该第一部件的所述部分上的该第二部件上焊接由该第二金属制成的引线。由此解决常规焊接工艺中的开裂或腐蚀问题并且还能将外覆的包层金属与引线焊接，从而实现经济效益并改善焊接工艺的便利实施。
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公开(公告)号：CN104755971A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201380055072.X
申请日：2013-08-29
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: G02B27/283 , G02B5/20 , G02B5/30 , G02B5/3058 , G02B5/3075 , G02F1/133788 , G21K1/16 , G21K5/04 , G02B5/208 , G02F1/1313
Abstract: 本申请涉及一种偏振紫外线分离元件及其用途。本申请可以提供一种偏振紫外线分离元件，所述偏振紫外线分离元件在较宽范围的紫外线区域内表现出优异的分离效率，并且该偏振紫外线分离元件具有优异的耐久性。所述元件可以用于，例如，液晶定向膜的光定向过程中。
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公开(公告)号：CN102597815A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080049593.0
申请日：2010-10-28
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B1/10 , H01L21/027 , B82B3/00
CPC classification number: G02B1/118 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/18 , Y10T428/24612
Abstract: 本发明提供一种基板，其包括：基底，该基底的至少一面上具有图案，其中，根据该图案的形状，该图案的下部区域的折射率和该图案的上部区域的折射率彼此不同；和斥水涂层，该斥水涂层设置在所述基底的至少一个具有图案的面上，以及本发明提供一种包括所述基板的光学产品和该基板的制备方法。根据本发明的基板具有优异的防反射性能和优异的斥水性能。
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