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公开(公告)号：CN101520567B
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200910129575.2
申请日：2009-03-31
申请人： 昆山龙腾光电有限公司
IPC分类号： G02F1/1333 , G05D5/02
摘要： 一种液晶盒减薄方法及液晶盒减薄设备。所述液晶盒减薄方法包括：提供包括第一基板和第二基板的液晶盒；分别获取第一基板的减薄厚度和第二基板的减薄厚度；对液晶盒进行减薄，其中根据第一基板的减薄厚度和第二基板的减薄厚度分别控制第一基板的减薄条件和第二基板的减薄条件。所述液晶盒减薄方法精确的控制第一基板和第二基板的减薄厚度，达到精确减薄之目的。
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公开(公告)号：CN100591795C
公开(公告)日：2010-02-24
申请号：CN200710140765.5
申请日：2007-08-09
申请人： 株式会社日立制作所
发明人： 鹿山昌宏
摘要： 附着量推定单元(105)，具备根据喷嘴压力、喷嘴间的距离(喷嘴间隙)、钢板速度等，预测镀液附着量的镀液附着量预测模型。学习单元(108)，根据使用模型推定的镀液附着量和来自镀覆设备的实际状态附着量的偏差，学习镀液附着量预测模型和镀液附着量实际状态值的普遍性的背离。适应单元(106)，作为适应量，计算镀液附着量预测模型和镀液附着量实际状态值的暂时性的背离。进而具备镀液附着量预测模型和使用它进行预置演算的预置单元(102)，着眼于镀液附着量目标值的变更量等，适当分别使用适应结果和学习结果，选择预置计算处理。计算使用了适当补偿和实际的镀液附着的举动的背离的镀液附着量预测模型的预置，使镀液附着量控制高精度化。
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公开(公告)号：CN100582294C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200610000429.6
申请日：2006-01-05
申请人： 三星移动显示器株式会社
IPC分类号： C23C14/54 , C23C16/52 , H01L21/205 , H01L51/56 , G05D5/02
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/546
摘要： 一种测量沉积材料的沉积厚度的方法，包括利用传感器测量从喷射室喷射的材料的沉积率，以及利用采用所测量的沉积率和传感器的使用时间的寿命值作为参数的转化公式计算沉积在基板上的材料的沉积厚度。
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公开(公告)号：CN101471396A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200710304257.6
申请日：2007-12-26
申请人： 中国科学院半导体研究所
摘要： 本发明一种谐振腔增强探测器腔模的控制方法，包括：1)设计谐振腔增强探测器的腔模，初始设置探测器每一个结构层的厚度，由分子束外延设备生长样品；2)采用显微拉曼光谱仪测量样品的反射谱，得到高反带的中心位置以及样品实际腔模位置；3)运用模拟程序，计算出与实际样品高反带完全对应的砷化镓层的厚度，砷化铝层的厚度以及与实际腔模完全对应所要求的腔体的厚度；4)根据步骤3)所得数据对第一次生长样品高反带的砷化镓层厚度、砷化铝层厚度以及腔体厚度进行校正，并对分子束外延设生长样品的时间参数进行校正，生长出新样品。5)采用显微拉曼光谱仪测量新样品反射谱。
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公开(公告)号：CN101162271A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200710177833.5
申请日：2007-11-21
申请人： 北京理工大学
摘要： 本发明公开了一种旋转监控片的光学薄膜自动监控装置，涉及一种薄膜产品制备过程中的监控设备。本发明包括：光源发射系统、驱动电机、工件架、晶控仪探头、监控片旋转机构、信号接收系统、信号转换系统、晶控仪、计算机、真空室和监控片。监控片旋转机构和晶控仪探头设置在真空室内，光源发射系统发出光信号，入射到真空室内，在监控片上形成光斑，由信号接收系统接收后，经过信号转换和计算机处理，监控薄膜厚度，控制材料的蒸发速率。本发明采用把监控片旋转机构设计成内环和外环，中间采用细钢丝连接，这样的结构避免了监控片旋转时对晶控仪探头的遮挡，实现了旋转监控片状态下的光控系统和晶控仪对镀膜过程的联动控制。
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公开(公告)号：CN116654864A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310467377.7
申请日：2023-04-27
申请人： 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司
IPC分类号： B81C1/00 , B81B7/02 , G05D5/02 , G06F30/10 , G06F119/14 , G06F113/18 , G06F111/06
摘要： 本发明涉及一种符合设计目标的复合膜形成方法及半导体器件，复合膜由多层薄膜层叠而成，设复合膜预设目标控制值，依次形成除顶层膜外的各层薄膜，并分别测得各层薄膜的性能参数，在薄膜沉积设备中预设多个所形成薄膜厚度范围不同的工艺程序，根据复合膜预设目标控制值与各层薄膜性能参数之和两者之间的差值，计算出顶层膜的预期厚度，根据预期厚度所在范围来确定薄膜沉积设备形成顶层膜时所执行的工艺程序。本发明复合膜形成方法中，顶层膜的形成作为复合膜的动态补偿调节环节，操作可控性强，按此方法所形成的复合膜十分接近复合膜的设计目标值，增加了各批次质量的一致性，能够显著提升半导体器件的生产合格率。
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公开(公告)号：CN115804466A
公开(公告)日：2023-03-17
申请号：CN202211534531.X
申请日：2022-12-02
申请人： 南通金源新材料有限公司 , 南通烟滤嘴有限责任公司
摘要： 本发明提供了一种稠浆法烟草薄片厚度反馈调节装置，包括：刮刀高度调节装置，用于调节刮刀与传送带之间的距离；测距传感器，用于测量所述传送带上的烟草薄片湿膜的厚度；以及可编程逻辑控制器，用于根据所述测距传感器测得的湿膜厚度计算获得输出值，并基于所述输出值控制所述刮刀高度调节装置相应调整所述刮刀与所述传送带之间的距离。本发明具有如下有益效果：通过直线伺服电机，解决了刀架高度的高精度伺服调节；此外，实时反馈调节浆膜厚度，能够解决烟草薄片厚度检测滞后的问题。
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公开(公告)号：CN112965536A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN202110293779.0
申请日：2021-03-19
申请人： 广东捷盟智能装备有限公司
IPC分类号： G05D5/02
摘要： 本发明公开了一种智能限量涂油机构，属于电池极片补锂设备技术领域，包括极片放卷筒，极片的左侧和右侧转动连接有第一压延覆膜辊和第二压延覆膜辊，第一压延辊、第一压延覆膜辊、第二压延覆膜辊和第二压延辊上的油刷分别通过管道连接有第一精密注油机构、第二精密注油机构、第三精密注油机构和第四精密注油机构，且管道上分别安装有第一精密节流阀、第二精密节流阀、第三精密节流阀和第四精密节流阀，第一压延辊、第一压延覆膜辊、第二压延覆膜辊和第二压延辊的前端均安装有清辊机构，本发明可以实现严格控制不同功能的压辊的表面的涂油厚度，以达到顺利压延并按指定路径转移锂膜，最终达到在无牵引膜和保护膜的前提下顺利压延和覆膜的目的。
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公开(公告)号：CN108563250B
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN201810330546.1
申请日：2018-04-13
申请人： 武汉理工大学
IPC分类号： G05D5/02
摘要： 本发明公开了一种用于对称旋转体的热喷涂机器人轨迹规划方法，包括：步骤1、以对称旋转体的任意一条母线作为机器人的索引曲线；步骤2、以喷涂步长为基准将索引曲线进行离散化处理，获取路径点；步骤3、根据机器人喷枪的最小移动速度值确定对称旋转体外轴旋转速度；步骤4、根据路径点所在截面半径计算喷枪的瞬间移动速度；步骤5、顺次连接各路径点生成机器人路径，对称旋转体绕外轴旋转，喷枪在对称旋转体上扫掠的轨迹即为机器人的喷涂轨迹。本发明能减小机器人运动路径长度并确保生成的热喷涂涂层均匀一致，提高了喷涂效率，节省了喷涂材料和喷涂时间，有利于增强热喷涂涂层的性能，从而解决了对称旋转体表面上的热喷涂机器人路径规划问题。
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公开(公告)号：CN101950181A
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN201010262284.3
申请日：2010-08-23
申请人： 西安航空动力股份有限公司
IPC分类号： G05D5/02
摘要： 本发明属于热喷涂技术，涉及对涡轮叶片表面热障涂层喷涂方法的改进。厚度控制的步骤如下：计算叶片表面需要喷涂热障涂层部分的面积；测量所喷涂热障涂层底层涂层的密度ρ1和面层涂层的密度ρ2；计算叶片上所喷涂的热障涂层底层涂层的重量和面层涂层的重量；喷涂热障涂层的底层涂层；喷涂热障涂层的面层涂层。本发明能够准确控制涡轮叶片表面热障涂层的厚度，解决了障涂层厚度控制的难题，提高了热障涂层的喷涂精度和叶片的一次交付合格率。
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