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公开(公告)号：CN112364508A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN202011255892.1
申请日：2020-11-11
摘要： 本发明涉及集成电路制造技术领域，尤其涉及一种光刻胶模型的建立方法及电子设备，S1、提供掩模设计版图及电镜扫描图像，掩模设计版图包括至少一掩模图像，电镜扫描图像包括至少一扫描图案，将至少一扫描图案与至少一掩模图像对准以获得至少一对准扫描图案；S2、识别所述至少一对准扫描图案的外边界或者内边界；S3、至少提取至少一对准扫描图案的外边界或者内边界的位置信息以形成数据集；及S4、基于数据集建立光刻胶模型。提取外边界或者内边界的位置信息以形成数据集，其数据是较容易获得以及数量是相对较多的，使得形成的数据集更好的用于模型的建立，同时，外边界或者内边界的位置信息是单点数据，是绝对位置信息，能更加精确的建立光刻胶模型。
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公开(公告)号：CN112348797A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN202011241787.2
申请日：2020-11-09
摘要： 本发明涉及集成电路制造技术领域，尤其涉及双重图形掩模优化结果的跨接缺陷检测方法及电子设备，包括步骤：S1、提供掩模版图，掩模版图包括第一层掩模图形和第二层掩模图形；S2、获得第一层线段和第二层线段，在所述第一层线段上放置检测点；S3、设定配对规则，根据形成边型配对以及角型配对；及S4、设定第一搜索范围和第二搜索范围，搜索第一曝光图形和/或第二曝光图形，基于搜索结果计算跨接距离，根据不同的配对类型设置曝光图形的搜索范围，使得计算获得的跨接距离能准确的表征第一层掩模图形和第二层掩模图形的跨接缺陷，以更好的提高光刻制造的良率。
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公开(公告)号：CN110291621A
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201780085175.9
申请日：2017-12-18
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC分类号： H01L21/66
摘要： 本发明提供了用于识别集成电路中缺陷的方法和系统。所述方法包括：接收与集成电路相关联的图形的输入数据；使用所述输入数据确定与图形的特征相关联的特征数据；使用所述输入数据、所述特征数据和缺陷检测技术确定与图形相关联的缺陷检测结果；以及使用所述缺陷检测结果确定缺陷识别结果。所述系统包括处理器和存储器。存储器连接到处理器，并且并且在被配置之后，进行存储指令集：用以接收与集成电路相关联的图形的输入数据；用以使用所述输入数据确定与图形的特征相关联的特征数据；用以使用所述输入数据、所述特征数据和缺陷检测技术确定与图形相关联的缺陷检测结果；以及用以使用所述缺陷检测结果确定缺陷识别结果。
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公开(公告)号：CN104948687B
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201510230182.6
申请日：2015-05-07
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC分类号： F16H7/02
摘要： 本发明公开了一种适用于光机检测系统的带传动机构，包括滑轮一和滑轮二，带一和带二分别沿滑轮一和滑轮二的两条外公切线或内公切线与滑轮连接进行传动，带一的两端部分别与滑轮一和滑轮二外周面固定连接，带二的两端部也分别与滑轮一和滑轮二外周面固定连接，所述带一和带二长度均大于滑轮一和二外公切线或内公切线的长度，且小于滑轮一和滑轮二之间外公切线或内公切线的长度与滑轮一和滑轮二的周长之和。此外还具有调整两滑轮之间距离的偏心盘实现间距的微调，还包括设置在滑轮上的张力微调装置。此种带传动机构具有零传动游隙，无磨损，不会产生污染颗粒，以及无限长的工作寿命等优点，可适用于要求无尘环境运行且要求高传动精度的设备，如需要在无尘环境运行的高精度光机检测系统。
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公开(公告)号：CN106290396B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201610942049.8
申请日：2016-10-25
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
发明人： 东条徹
IPC分类号： G01N21/95
摘要： 本发明公开了一种样品缺陷检测装置，属于半导体检测技术领域。该样品缺陷检测装置包括：用于产生并执行电子束照射的电子束聚焦系统；装载锁定室，真空工作腔，该真空工作腔与该装载锁定室连接，该电子束聚焦系统的电子束透镜的镜筒设置在该真空工作腔中，且在该真空工作腔中设置有传输装置，其中，该传输装置包括至少一个机械手，该至少一个机械手中的每个机械手在第一位置、第二位置和第三位置之间进行传输运动，其中该第一位置是从装载锁定室传输出待检测样品或将检测后的样品传输入到装载锁定室的位置，该第二位置是从该真空工作腔中的样品台传输出或传输入样品的位置，第三位置是该至少一个机械手等待传输样品的等待位置。
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公开(公告)号：CN106777829A8
公开(公告)日：2017-07-18
申请号：CN201710065850.3
申请日：2017-02-06
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5068 , G03F1/00 , G06F2217/12 , G06N3/04
摘要： 本发明提供一种集成电路掩模设计的优化方法包括以下步骤，步骤S1：提供一种集成电路的全芯片设计版图，在全芯片设计版图中随机抓取多个设计版图小区域；步骤S2：对选取的设计版图小区域版图进行基于像素的掩模优化，输出每个设计版图小区域的掩模设计的像素灰度图；步骤S3：利用步骤S2中获取的小区域掩膜像素灰度图和其对应的小区域设计版图，建立BP人工神经网络模型；步骤S4：将全芯片设计版图送入步骤S3所建立的BP人工网络模型，获得全芯片设计版图的掩膜设计灰度图，本发明还提供一种用于存储集成电路掩模设计的计算机程序的介质。
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公开(公告)号：CN106290378A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610707841.5
申请日：2016-08-23
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
CPC分类号： G01N21/88 , G01N21/9501 , G01N21/8851 , G01N2021/8854 , G01N2021/95676
摘要： 本发明公开了缺陷分类方法和缺陷检查系统。其中，缺陷分类方法方法包括：基于对一个目标试样的检查，接收一个第一缺陷记录，所述第一缺陷记录包括一个未知缺陷所关联的一个第一缺陷图像；从所述第一缺陷图像中，用第一学习技术选择按重要性排序的第一组件，基于按重要性排序的所述第一组件，用第二学习技术判断所述第一缺陷图像是否关联于一个第一已知缺陷类型。
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公开(公告)号：CN105702597A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201610082232.5
申请日：2016-02-05
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： H01J37/265 , G03F1/86 , G03F7/7065 , H01J2237/202 , H01J2237/2817 , H01L22/12 , H01L22/10
摘要： 本发明公开一种检测系统。根据本发明一方面，检测系统包括多工作台或多腔体，其中腔体或工作台(N≥2)被布置成形成一个或多个路线用于晶片或掩模的检测。每个腔体中(或在每个工作台)的检测流程通过其在路线中的次级和所用的相对镜筒确定。对于具有N个腔体或工作台的系统，可以同时处理最大数量N个晶片或掩模。
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公开(公告)号：CN112305874B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202011255868.8
申请日：2020-11-11
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供了一种衡量光瞳之间匹配程度的评价方法，该方法包括以下步骤，步骤S1：设定目标光瞳及生成光瞳；步骤S2：根据目标光瞳的光强矩阵及生成光瞳的光强矩阵计算出方均根指标值和重叠积分指标值；步骤S3：分别对目标光瞳及生成光瞳建立仿真模型，以得到目标光瞳仿真模型及生成光瞳仿真模型；步骤S4：建立测试图形组；步骤S5：应用目标光瞳仿真模型对测试图形组做掩模优化以得到掩模优化后的测试图形；步骤S6：对掩模优化后的测试图形进行仿真，并比较目标光瞳和生成光瞳在掩模优化后的测试图形上的CD差异。本发明提供的评价方法使得用户能够直观、量化地评价生成光瞳和目标光瞳之间的差异对于光刻性能的影响。
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公开(公告)号：CN116759371A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310590912.8
申请日：2023-05-23
申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
发明人： 张禧晨
IPC分类号： H01L21/687 , G01N23/00
摘要： 本申请提供一种Z轴运动平台及半导体缺陷检测设备，Z轴运动平台包括：下连接板；上连接板，在垂直方向上与下连接板相对设置并滑动连接于下连接板；载物平台，在垂直方向上设置于上连接板上方；第一调节装置，用于驱动下连接板沿水平方向运动，以使上连接板和载物平台沿垂直方向运动；第二调节装置，设置于载物平台和上连接板之间，用于在垂直方向上带动载物平台相对上连接板运动。第一调节装置可在相对精度较低的应用场景运行，即第一调节装置可以取得更快的响应和更大的行程，第二调节装置可获得更细致的调节精度，由于第一调节装置和第二调节装置的协同作用，可提高Z轴运动平台的功能域。
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