一种瓦斯继电器校验装置
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115616394A

    公开(公告)日:2023-01-17

    申请号:CN202211301443.5

    申请日:2022-10-24

    Abstract: 本发明公开了一种瓦斯继电器校验装置,涉及瓦斯继电器技术领域,包括:储油箱通过输油管串接瓦斯继电器,瓦斯继电器与输油支管并接,输油管上安装进气管与加压机构,瓦斯继电器下方设置沥油槽与储油腔相连通,储油腔中安装回油泵与储油箱相连通,位于沥油槽上方的输油管上安装排油管。本发明通过与瓦斯继电器并联的输油支管,能够实现对瓦斯继电器实际使用过程中变压器出现故障瞬间瓦斯继电器工作状态的模拟,从而对瓦斯继电器的校验更加地准确,同时加压操作简单,并在使用过程中实现对变压器油的循环利用,提高资源利用率,并不会出现变压器油外漏而影响环境卫生的情况。

    一种镜面-单锥标准脉冲场复现系统及方法

    公开(公告)号:CN109581258A

    公开(公告)日:2019-04-05

    申请号:CN201811324511.3

    申请日:2018-11-08

    Abstract: 本发明公开了一种镜面-单锥标准脉冲场复现系统及方法。本发明的镜面-单锥标准脉冲场复现系统,包括镜面-单锥子系统、位移量监控-自动调整子系统、馈源-射频子系统和软件控制子系统;所述的馈源-射频子系统,包括脉冲信号源、示波器、阻抗变换器以及同轴电缆,通过同轴电缆把脉冲信号源与阻抗变换器连接,阻抗变换器作为馈源使用;所述的软件控制子系统,用于控制脉冲信号源和示波器,并且采集位移监控装置的数据;当锥尖相对于镜面的位移量超过设定范围时,软件控制子系统控制自动调整机构对锥体角度进行微调,减小锥尖与镜面之间的变形量。本发明确保标准脉冲场所依赖的几何外形不变,具有实现方式简单、成本低等优点。

    一种平面栅MOSFET结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN119907271A

    公开(公告)日:2025-04-29

    申请号:CN202411850715.6

    申请日:2024-12-16

    Abstract: 一种平面栅MOSFET结构及其制备方法,属于平面栅MOSFET技术领域,一种平面栅MOSFET结构,包括元胞结构,所述元胞结构包括:N型衬底;N型外延层;P阱区,两个P阱区的顶部皆形成有沟道区;两个P阱区之间形成有JFET区;栅氧层包括第一栅氧区、第二栅氧区和第三栅氧区,第一栅氧区位于沟道区与栅极结构之间,第二栅氧区位于N型区与栅极结构之间,第三栅氧区位于JFET区与栅极结构之间,第二栅氧区的最大厚度大于第一栅氧区的厚度,第三栅氧区的最大厚度大于第一栅氧区的厚度。本申请通过优化MOSFET栅氧的厚度分布,保证沟道处栅氧具有的低界面态密度、高迁移率的导通优势,降低了栅氧泄漏电流,提高了栅氧可靠性,同时也减小了栅氧电容,提高了MOSFET的开关速度。

    一种功率模块液冷散热封装结构
    30.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117497497A

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202311842265.1

    申请日:2023-12-29

    Abstract: 本发明属于半导体器件技术领域,具体涉及一种功率模块液冷散热封装结构。针对现有碳化硅功率模块散热效率较低的不足,本发明采用如下技术方案:一种功率模块液冷散热封装结构,包括DBC陶瓷基板;功率芯片;内铜层,形成流经功率芯片的内冷却通道;外铜层,形成外冷却通道;冷却液,在内冷却通道和外冷却通道流动;引线,一端连接功率芯片,另一端经内铜层、DBC陶瓷基板引出;DBC陶瓷基板、内铜层、功率芯片、外铜层沿厚度方向层叠分布并连接为一个整体。本发明的有益效果是:提高了散热效率,降低了不同面的温度差,提升功率芯片工作可靠性;相比现有的双面水冷散热结构,外铜层可以直接形成封装结构的外表面。

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