一种平面栅MOSFET结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN119907271A

    公开(公告)日:2025-04-29

    申请号:CN202411850715.6

    申请日:2024-12-16

    Abstract: 一种平面栅MOSFET结构及其制备方法,属于平面栅MOSFET技术领域,一种平面栅MOSFET结构,包括元胞结构,所述元胞结构包括:N型衬底;N型外延层;P阱区,两个P阱区的顶部皆形成有沟道区;两个P阱区之间形成有JFET区;栅氧层包括第一栅氧区、第二栅氧区和第三栅氧区,第一栅氧区位于沟道区与栅极结构之间,第二栅氧区位于N型区与栅极结构之间,第三栅氧区位于JFET区与栅极结构之间,第二栅氧区的最大厚度大于第一栅氧区的厚度,第三栅氧区的最大厚度大于第一栅氧区的厚度。本申请通过优化MOSFET栅氧的厚度分布,保证沟道处栅氧具有的低界面态密度、高迁移率的导通优势,降低了栅氧泄漏电流,提高了栅氧可靠性,同时也减小了栅氧电容,提高了MOSFET的开关速度。

    一种功率模块液冷散热封装结构
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117497497A

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202311842265.1

    申请日:2023-12-29

    Abstract: 本发明属于半导体器件技术领域,具体涉及一种功率模块液冷散热封装结构。针对现有碳化硅功率模块散热效率较低的不足,本发明采用如下技术方案:一种功率模块液冷散热封装结构,包括DBC陶瓷基板;功率芯片;内铜层,形成流经功率芯片的内冷却通道;外铜层,形成外冷却通道;冷却液,在内冷却通道和外冷却通道流动;引线,一端连接功率芯片,另一端经内铜层、DBC陶瓷基板引出;DBC陶瓷基板、内铜层、功率芯片、外铜层沿厚度方向层叠分布并连接为一个整体。本发明的有益效果是:提高了散热效率,降低了不同面的温度差,提升功率芯片工作可靠性;相比现有的双面水冷散热结构,外铜层可以直接形成封装结构的外表面。

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