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公开(公告)号：CN102282665B
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201080004830.1
申请日：2010-01-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/687 , H01L21/203 , H01L21/205
CPC classification number: H01L21/68742 , H01L21/6831
Abstract: 在此所公开的实施例大体而言涉及一种在处理腔室内将基板实质上紧靠基板支撑件设置的设备及方法。在将大面积基板设置在基板支撑件上时，该基板可能因为存在于该基板和该基板支撑件之间的气泡而无法完全紧靠该基板支撑件。所述气泡可造成该基板上的不均匀沉积。因此，从该基板和该支撑件之间抽出气体可实质上拉引该基板紧靠该支撑件。在沉积期间，静电可能会累积并导致该基板粘附在该基板支撑件上。通过在该基板和该基板支撑件之间通入气体，可克服该静电力，而可在较少或没有等离子体支撑下，将该基板从该基座分离，所述等离子体支撑需要额外的时间和气体。
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公开(公告)号：CN103939628A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410128270.0
申请日：2009-08-27
Applicant: 应用材料公司
IPC: F16K1/24
CPC classification number: H01L21/67201 , F16K15/147 , F16K51/02 , H01L21/67126
Abstract: 在此公开的实施方式与一种用于密封一腔室中的开口的狭缝阀门装置有关。当狭缝阀门开口收缩时，压向该腔室以密封一狭缝阀开口的一狭缝阀门与该腔室一起移动，使得受压于该狭缝阀门与该腔室之间的一O形环与该狭缝阀门和该腔室一起移动。因此，O形环对腔室发生摩擦的情形会较少。由于较少摩擦，产生的颗粒可较少，因而可延长O形环的使用寿命。由于O形环的使用寿命较长，基板处理量即可增加。
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公开(公告)号：CN102251227B
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN201110192142.9
申请日：2008-06-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/44 , C23C16/455 , G02F1/1362
CPC classification number: C23C16/45565
Abstract: 气体分配装置的实施方式包含耦接到散射器并穿过背板可移动地设置的散射器支持部件。在基板支架的基板接收表面上的基板的处理方法的实施方式包括提供散射器，在其中散射器支撑部件支撑散射器并穿过背板可移动地设置。
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公开(公告)号：CN101836510B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN200880113201.5
申请日：2008-10-07
Applicant: 应用材料公司
IPC: H05H1/34
CPC classification number: H01J37/32357 , C23C16/4404 , H01J37/32449 , H01J37/32623 , H01J37/32834
Abstract: 本发明一般包括一腔室衬垫，所述腔室衬垫与腔室壁分隔开，以允许在抽吸工艺腔室中的气体时，可以在腔室衬垫及腔室壁之间抽吸工艺气体。当真空泵位于承座下方，工艺气体则会抽吸至承座下方，并可能导致工艺腔室部件出现不期望的沉积现象。另外，工艺气体会被抽吸通过狭缝阀开口，因而可能会沉积在狭缝阀开口中。当物质沉积在狭缝阀开口中，可能会发生剥落现象并污染基板。通过沿着侧壁(非具有狭缝阀开口的侧壁)而抽吸工艺气体，则可减少在狭缝阀开口上的不期望的沉积现象。
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公开(公告)号：CN100385640C
公开(公告)日：2008-04-30
申请号：CN200410034739.0
申请日：2004-05-09
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/68 , H01L21/205 , C23C16/458 , C25D11/16
CPC classification number: H01J37/32082 , C23C16/4581 , C25D11/04 , C25D11/16 , C25D11/18
Abstract: 本发明提供了衬底支撑件和其制造方法。在本发明的一种实施例中，衬底支撑件包括具有衬底支撑表面的导电主体，所述衬底支撑表面被电绝缘涂层覆盖。涂层的至少位于衬底支撑表面中心上的一部分具有约80至约200微英寸的表面光洁度。在另一个实施例中，衬底支撑件包括阳极化的铝主体，所述铝主体在所述主体的适于将衬底支撑于其上的部分具有约80至约200微英寸的表面光洁度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1896159A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200610098840.1
申请日：2006-07-13
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C09D11/322
Abstract: 本发明提供了一种用于显示器的绿色油墨。在一个方面中，所述绿色油墨包含一种或多种绿色有机颜料、一种或多种单体、一种或多种聚合物分散剂、以及一种或多种有机溶剂。在另一个方面中，所述绿色油墨包含一种或多种绿色有机颜料。一种或多种黄色颜料、一种或多种单体、一种或多种低聚物、一种或多种聚合物分散剂以及一种或多种有机溶剂。本发明还提供了形成显示器的方法以及包含绿色油墨的显示器，所述方法包括将绿色油墨通过喷墨分配到衬底上。
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公开(公告)号：CN1551326A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410034739.0
申请日：2004-05-09
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/68 , H01L21/205 , H01L21/00 , G02F1/136 , C23C16/00
CPC classification number: H01J37/32082 , C23C16/4581 , C25D11/04 , C25D11/16 , C25D11/18
Abstract: 本发明提供了衬底支撑件和其制造方法。在本发明的一种实施例中，衬底支撑件包括具有衬底支撑表面的导电主体，所述衬底支撑表面被电绝缘涂层覆盖。涂层的至少位于衬底支撑表面中心上的一部分具有约80至约200微英寸的表面光洁度。在另一个实施例中，衬底支撑件包括阳极化的铝主体，所述铝主体在所述主体的适于将衬底支撑于其上的部分具有约80至约200微英寸的表面光洁度。
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公开(公告)号：CN108603289B
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201680081111.7
申请日：2016-11-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/509
Abstract: 在一个实施方式中，一种用于沉积腔室的扩散器包括：具有边缘区域和中心区域的板；和多个气体通道，包括上游孔和流体地耦接到上游孔的孔洞，多个气体通道形成在板的上游侧和下游侧之间；和多个槽，环绕气体通道，其中槽的深度从板的边缘区域到中心区域变化。
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公开(公告)号：CN109219673A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201680086324.9
申请日：2016-06-02
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述一种辊装置(100)，所述辊装置用于导向卷材(200)并且用于在真空环境下的卷材涂覆工艺中控制与辊装置接触的卷材(200)的温度。辊装置包含辊装置(100)的曲面(101)，用于接触卷材(200)，其中曲面(101)包含卷材导向区域(103)。辊装置进一步包含在曲面(101)中的气体出口(104)的组和气体分配系统(105)，所述气体分配系统用于选择性地提供气流至气体出口(104)的第一子组和选择性地避免气体流至气体出口(104)的第二子组。辊装置进一步包含驱动单元(110)，用于旋转曲面(101)，其中曲面(101)适用于导引卷材(200)在曲面旋转时的移动。
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公开(公告)号：CN109075109A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780026150.1
申请日：2017-04-19
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约翰·M·怀特
IPC: H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/02
Abstract: 本文描述的实施方式大体涉及一种基板支撑组件中的温度控制系统。在一个实施方式中，公开了一种基板支撑组件。所述基板支撑组件包括支撑板组件。所述支撑板组件包括第一流体供应歧管、第二流体供应歧管、第一流体返回歧管、第二流体返回歧管、多个第一流体通道、多个第二流体通道和流体供应管道。所述多个第一流体通道从所述第一流体供应歧管延伸至所述第一流体返回歧管。所述多个第二流体通道从所述第二流体供应歧管延伸至所述第二流体返回歧管。所述多个流体通道以交替方式跨越支撑板组件的上表面延伸。所述流体供应管道被配置为将流体供应至所述流体供应歧管。
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