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公开(公告)号：CN101120055A
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：CN200680005174.0
申请日：2006-02-16
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08L83/04 , C09D183/04
CPC classification number: C09D183/14 , C08K3/22 , C09D183/04 , C09D183/06
Abstract: 本发明提供表面具有非常高硬度的同时，内部及背面侧具有适当硬度，并且与基体的密接性优良的有机无机复合体。该有机无机复合体的特征在于：以式(I)：RnSiX4－n(式中，R表示碳原子直接键合于式中Si的有机基团，X表示羟基或水解性基团。n表示1或2)所示的有机硅化合物的缩合物作为主要成分，含有至少1种感应350nm以下波长的光的感光化合物和/或由该感光化合物衍生的化合物，所述感光化合物选自金属螯合物、金属有机酸盐化合物、含有2个以上羟基或水解性基团的金属化合物、它们的水解物及它们的缩合物。
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公开(公告)号：CN101115682A
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN200680004505.9
申请日：2006-02-13
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C01G23/053 , C01G23/04 , B01J35/02
CPC classification number: C09C1/3669 , B01J21/063 , B01J35/004 , B01J37/0219 , B82Y30/00 , C01G23/053 , C01P2004/64
Abstract: 本发明提供可以迅速形成杂质少的致密的有机薄膜、且能成为钛氧化物薄膜形成材料的氧化钛粒子的分散液，由该分散液形成的钛氧化物薄膜，在上述分散液中添加具有水解性基团的金属化合物的溶液而得到的有机功能膜形成用溶液，使用该溶液而得到的有机功能膜形成基体及其制造方法。所述氧化钛粒子的分散液是在钛原子上结合水解性基团或羟基和螯合配体而成的钛螯合物的有机溶剂溶液中，添加相对于该钛螯合物为5倍摩尔以上的水而得到的；所述钛氧化物薄膜是使该分散液与由塑料等材质形成的基体的表面接触而形成的；所述有机功能膜形成用溶液是在具有水解性基团的金属化合物的有机溶剂溶液中，添加上述分散液而得到的；所述有机功能膜形成基体具有由该有机功能膜形成用溶液形成的有机功能膜；以及有机功能膜形成基体的制造方法。
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公开(公告)号：CN1711213A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200380103054.0
申请日：2003-11-12
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C23C18/1216 , C23C18/122
Abstract: 本发明的目的在于提供适合在200℃以下的低温制造金属氧化物膜以及适合制造均质的有机－无机复合物时使用的含金属－氧键的分散质，同时提供具有各种功能的金属氧化物薄膜和有机－无机复合物，特别是具有高折射率、高透明性的有机－无机复合物。本发明使用含金属－氧键的分散质，其特征在于，其通过在有机溶剂中，在不存在酸、碱和/或分散稳定剂的情况下，将具有3个以上水解性基团的金属化合物与相对于该金属化合物的0.5倍摩尔以上且不到2倍摩尔的水在水解起始温度以下的温度混合，并升温至水解起始温度温度以上而得到的。
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公开(公告)号：CN1081490C
公开(公告)日：2002-03-27
申请号：CN96194871.X
申请日：1996-06-18
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: B01J37/036 , B01J35/002 , B01J35/004 , B01J37/0219 , B01J37/0225 , C03C17/42 , C03C2217/445 , C03C2217/45 , C03C2217/477 , C03C2217/478 , C03C2217/71 , Y10T428/256 , Y10T428/257 , Y10T428/258 , Y10T428/259 , Y10T428/31612 , Y10T428/31663 , Y10T428/31667
Abstract: 一种载有光催化剂的构件，它包含光催化剂层、基底和位于光催化剂层和基底之间的胶粘剂层，其中的胶粘剂层由硅改性树脂、含聚硅氧烷的树脂或含胶体二氧化硅的树脂制成，光催化剂层由金属氧化物凝胶或氢氧化物凝胶和光催化剂构成；用于形成上述构件的光催化剂涂料包含硅混合物、至少一种金属氧化物溶胶或氢氧化物溶胶和至少一种光催化剂的粉末或溶胶。
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公开(公告)号：CN110770175A
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201880038566.X
申请日：2018-06-11
Abstract: 本发明的课题在于提供使用吸附材料将磷酸根离子等直接被排放至环境中时对环境造成不良影响的阴离子、或可通过进行回收来有益地利用的阴离子从含有它们的废水、溶液中选择性地高效吸附的方法。使用阴离子吸附材料从含有目标阴离子及其他阴离子的水溶液(A)中吸附目标阴离子的方法，其特征在于，至少实施下述两道工序：工序(1)，使pH5.8以下的前述水溶液(A)与前述阴离子吸附材料接触，从而吸附阴离子；以及随后的工序(2)，使pH5.2～11的水或水溶液(B)与前述阴离子吸附材料接触，从而使已被吸附于前述阴离子吸附材料的前述其他阴离子的至少一部分从前述阴离子吸附材料脱附。
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公开(公告)号：CN104380150A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201380032030.4
申请日：2013-07-01
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明提供在有机无机复合薄膜表面上层叠像透明导电性膜或气体阻隔性的薄膜这种具有高折射率且光的透射率低的无机薄膜时不仅呈现高透射率，而且与无机薄膜的密合性也优异的功能性防反射膜。本发明的功能性防反射层叠体是在树脂基体上依次形成了第1层、第2层的薄膜层叠体，其特征在于，第1层是含有a)式(I)RnSiX4－n(I)表示的有机硅化合物的缩合物和b)有机高分子化合物的、膜厚为500nm以上的有机无机复合薄膜，第2层是膜厚为10～300nm的透明导电性膜或气体阻隔膜，第2层的表面形成了高度为40～500nm、间距为50～400nm的微细凸凹结构，该功能性防反射层叠体在波长500～700nm的入射角12°的表面正反射率为3％以下。
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公开(公告)号：CN104093560A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201380007697.9
申请日：2013-01-25
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08J7/18 , C08J2483/00
Abstract: 本发明的薄膜层叠体特征在于，在树脂基体上以第1层、第2层的顺序依次形成的薄膜层叠体中，第1层是有机无机复合薄膜，膜厚为500nm以上，其含有a)RnSiX4－n表示的有机硅化合物的缩合物及b)有机高分子化合物；第2层是下述a)金属氧化物薄膜或b)气体阻隔膜：a)金属氧化物薄膜，其利用溶胶凝胶法形成，膜厚为200nm以下，并且，以式{膜厚的偏差[％]＝100×(膜厚的标准偏差)/(膜厚的平均值)}表示的膜厚的偏差小于10％，b)气体阻隔膜，膜厚为500nm以下；并且，第1层在与第2层的界面侧具有上述有机硅化合物的缩合物浓缩而成的层，该浓缩层的碳原子的浓度与距第1层与第2层的界面深300nm处的第1层的碳原子的浓度相比少20％以上。
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公开(公告)号：CN101547947B
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN200780044585.5
申请日：2007-12-04
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08F283/12 , C08F2/44 , C08L51/08
CPC classification number: C08F2/44 , C08G77/20 , C08J3/28 , C08K2003/2241 , C09D183/04 , C08K5/0025 , C08L33/06
Abstract: 本发明提供表面具有非常高的硬度同时内部以及背面侧具有适度的硬度、且与基体的密合性优异的有机无机复合物。所述有机无机复合物的特征在于，以a)用式(I)：RnSiX4-n(式中，R表示碳原子直接与Si结合的有机基团，X表示羟基或者水解性基团。n表示1或者2，在n为2时，各R可以相同或不同，(4-n)为2以上时，各X可以相同或不同。)表示的有机硅化合物的缩合物为主成分，还含有b)从金属螯合物、金属有机酸盐化合物、具有2个以上的羟基或水解性基团的金属化合物、它们的水解物及它们的缩合物中选择的至少1种对350nm以下的波长的光敏感的感光性化合物、和/或由其衍生的化合物，和c)紫外线固化性化合物的固化物。
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公开(公告)号：CN101702891A
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN200880020566.3
申请日：2008-07-03
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08J7/047 , B29C45/14827 , C08J2483/00 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/14
Abstract: 本发明的课题在于提供用于形成在半固化状态下保存性和对模具的追随性优异、完全固化后耐擦伤性优异的硬涂层的成型用片，具有硬涂层的成型体及其制造方法。本发明涉及用于形成硬涂层的成型用片以及使用了其的成型体，所述用于形成硬涂层的成型用片的特征在于，在基材上具有由含有a)式(I)所示的有机硅化合物和/或其缩合物、b)紫外线固化性化合物以及c)硅烷醇缩合催化剂的组合物的半固化物形成的层。RnSiX4-n(I)(式中，R表示碳原子与式中的Si直接键合的有机基团，X表示羟基或水解性基团。n表示1或2，n为2时，R可以相同或不同，(4-n)为2以上时，X可以相同或不同。)
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