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公开(公告)号：CN1952205A
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200610131894.3
申请日：2006-10-17
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/3266 , H01J37/32761 , H01J2237/0206
Abstract: 一种电弧离子镀设备包括：真空室、用于使基质在真空室内垂直于其高度方向进行移动的旋转台、用于通过金属离子清洁基质表面的用于进行轰击的电弧蒸发源和用于在所述基质表面上沉积金属离子的沉积组电弧蒸发源。所述沉积组电弧蒸发源包括相对于被设定在所述旋转台上的所述基质进行布置的多个蒸发源，且所述用于进行轰击的电弧蒸发源相对于所述基质进行布置，并且成形以使得其在真空室高度方向上的长度等于沉积组电弧蒸发源的上端和下端之间的长度。根据这种结构，在进行轰击时几乎不能在基质中产生温度过度升高或在基质上发生异常放电，由此导致工艺可控性得到改进。
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公开(公告)号：CN110114505B
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201780075888.7
申请日：2017-11-16
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 本发明提供一种具有简单且小型的结构的成膜装置(1)。成膜装置(1)包括：具有与基材(W)相向的相向面的至少一个靶材(4)；分别将所述靶材(4)装拆自如地保持的多个靶材保持部(5)；冷却所述多个靶材保持部(5)的冷却部(6)；以及至少一个冷却板(7)。所述至少一个冷却板(7)具有：装拆自如地保持在靶材保持部(5)的被保持部(7d)；以及具有受热面(7e)的受热部(7b)，其中，该受热面(7e)在该被保持部(7d)被保持在所述靶材保持部(5)的状态下与基材(W)相向且接收从该基材(W)释放出的辐射热。所述被保持部(7d)进行从所述受热面(7e)向所述靶材保持部(5)的传热。各靶材保持部(5)择一地保持所述靶材(4)或所述冷却板(7)。
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公开(公告)号：CN110114505A
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201780075888.7
申请日：2017-11-16
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 本发明提供一种具有简单且小型的结构的成膜装置(1)。成膜装置(1)包括：具有与基材(W)相向的相向面的至少一个靶材(4)；分别将所述靶材(4)装拆自如地保持的多个靶材保持部(5)；冷却所述多个靶材保持部(5)的冷却部(6)；以及至少一个冷却板(7)。所述至少一个冷却板(7)具有：装拆自如地保持在靶材保持部(5)的被保持部(7d)；以及具有受热面(7e)的受热部(7b)，其中，该受热面(7e)在该被保持部(7d)被保持在所述靶材保持部(5)的状态下与基材(W)相向且接收从该基材(W)释放出的辐射热。所述被保持部(7d)进行从所述受热面(7e)向所述靶材保持部(5)的传热。各靶材保持部(5)择一地保持所述靶材(4)或所述冷却板(7)。
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公开(公告)号：CN105051247B
公开(公告)日：2018-05-18
申请号：CN201480016804.9
申请日：2014-03-03
Applicant: 株式会社神户制钢所
Inventor： 藤井博文
IPC: C23C14/50
CPC classification number: C23C14/505 , C23C14/325 , C23C14/34
Abstract: 本发明提供一种PVD处理装置(1)以及方法，通过基材的自转以及公转，能够在基材的外周面形成具有周向上的均匀性优良的膜厚的复合皮膜。PVD处理装置(1)具备：真空腔室；使多个基材(W)在真空腔室内绕公转轴(7)公转的公转台；使各基材(W)在公转台上绕平行于公转轴(7)的自转轴(8)自转的自转台(4)；在公转台的径向外侧被设置在互相在周向上分离的位置的多种靶材(5)；在基材(W)通过从各靶材(5)的中央向包络各自转台(4)的圆弧引出的两个切线(L1、L2)之间的期间，使自转台(4)以180°以上的角度自转的台旋转机构(6)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101254673B
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN200810081818.5
申请日：2005-01-25
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C14/00
CPC classification number: C23C14/025
Abstract: 一种硬质叠层被膜，以层A和层B的组成不相同的方式，交替叠层由特定组成构成的层A和层B。每层的层A的厚度是每层的层B的厚度的2倍以上，而且，每层的层B的厚度在0.5nm以上，每层的层A的厚度在200nm以下。由此，本发明提供一种能够用于以超硬合金、金属陶瓷或高速工具钢等为基材的切削工具，或者汽车用滑动部件等的耐磨损性被膜。
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公开(公告)号：CN101254674B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200810081819.X
申请日：2005-01-25
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C14/025
Abstract: 一种硬质叠层被膜，以层A和层B的组成不相同的方式，交替叠层由特定组成构成的层A和层B。每层的层A的厚度是每层的层B的厚度的2倍以上，而且，每层的层B的厚度在0.5nm以上，每层的层A的厚度在200nm以下。由此，本发明提供一种能够用于以超硬合金、金属陶瓷或高速工具钢等为基材的切削工具，或者汽车用滑动部件等的耐磨损性被膜。
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公开(公告)号：CN101405428A
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200780009961.7
申请日：2007-03-06
Applicant: 株式会社神户制钢所
Inventor： 藤井博文
IPC: C23C14/32
CPC classification number: C23C14/325 , C23C14/3407 , C23C14/351 , H01J37/32055 , H01J37/32614
Abstract: 本发明提供电弧离子镀方法以及该方法中使用的靶材，能够得到在被处理物的大致全长上均匀的膜厚分布、并且能够谋求提高靶材材料成品率和降低靶材制造成本。因此，在真空室(1)内配置至少能够分割为长度方向两端部(31)、(32)和其以外的中央部(33)的靶材(3)和被处理物。在保护膜形成时，控制靶材表面的电弧斑点位置以使长度方向两端部(31)、(32)的消耗速度比中央部(33)的消耗速度快，并且靶材(3)的中央部(33)达到消耗极限之前，在长度方向两端部(31)、(32)的至少一个达到消耗极限的时刻，仅交换该端部并继续进行膜的形成。
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公开(公告)号：CN1651596A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN200510005755.1
申请日：2005-01-25
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C14/0063 , C23C14/0036 , C23C14/06 , C23C14/0641 , C23C14/0647 , C23C14/0652 , C23C14/0664 , C23C14/0676 , C23C14/16 , C23C14/22 , C23C14/325 , C23C14/35 , C23C14/568 , C23C28/044 , C23C28/322 , C23C28/34 , C23C28/341 , C23C28/347 , C23C28/42 , C23C28/44 , C23C30/00 , Y10T428/24942 , Y10T428/24975 , Y10T428/26
Abstract: 一种硬质叠层被膜，以层A和层B的组成不相同的方式，交替叠层由特定组成构成的层A和层B。每层的层A的厚度是每层的层B的厚度的2倍以上，而且，每层的层B的厚度在0.5nm以上，每层的层A的厚度在200nm以下。由此，本发明提供一种能够用于以超硬合金、金属陶瓷或高速工具钢等为基材的切削工具，或者汽车用滑动部件等的耐磨损性被膜。
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