公开(公告)号：CN107541705A

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201710495599.4

申请日：2017-06-26

申请人： 威科仪器有限公司

发明人： 波里斯·L·宙斯 ,  维克多·卡纳罗 ,  尤里·尼古拉·叶夫图霍夫 ,  山迪普·柯里 ,  方兴杰

IPC分类号： C23C14/32 ,  C23C14/06 ,  H05H1/34

CPC分类号： C23C14/325 ,  C23C14/0605 ,  C23C14/0611 ,  C23C14/243 ,  C23C14/542 ,  C23C14/543 ,  C23C14/564 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/3266

摘要： 本申请涉及供电弧等离子体沉积用的增强式阴极电弧源。改进的阴极电弧源和DLC膜沉积方法，其中在圆柱形石墨空腔内部产生定向喷射的含碳等离子体流，所述空腔的深度约等于阴极直径。所产生的碳等离子体膨胀通过孔口进入周围真空中，引起等离子体流发生强烈的自收缩。所述方法代表了一种重复工艺，其包括两个步骤：上述等离子体产生/沉积步骤和与之交替的回收步骤。这个步骤可以通过使空腔内部的阴极棒向孔口方向移动来定期除去腔壁上所积聚的过量碳。所述阴极棒伸出而高于所述孔口，且移回到初始阴极尖端位置。所述步骤可以定期再现直到膜沉积至目标厚度为止。技术优点包括膜硬度、密度和透明度改进、再现性高、持续操作时间长和微粒减少。

公开(公告)号：CN105531395A

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201480048399.9

申请日：2014-08-13

申请人： 株式会社神户制钢所

发明人： 山本兼司

IPC分类号： C23C14/06 ,  B23B27/14 ,  C23C14/32

CPC分类号： C23C14/22 ,  C04B35/58007 ,  C04B35/58021 ,  C04B35/581 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/0664 ,  C23C14/325 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/32669

摘要： 实现显示出优异的耐磨损性，并且在摩擦系数小的滑动环境下难以咬合，即润滑性优异的硬质皮膜。该硬质皮膜是组成式满足M1-a-bCaNb的皮膜，具有的特征在于，所述M由从Ti、Cr和Al所构成的组中选择的一种以上的元素构成，或者，由所述元素和从除去Ti的第4族元素、第5族元素、除去Cr的第6族元素、Si、Y和稀土类元素所构成的组中选择的一种以上的元素构成，所述M、C、N的原子比满足0.01≤a≤0.50，0.10≤b≤0.50和0＜1-a-b，并且，所述皮膜中的碳的全部键中所占的碳与碳的键比率y为0.20以上。

公开(公告)号：CN103668099A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201310421921.0

申请日：2013-09-16

申请人： 蒸汽技术公司

发明人： V·戈罗霍夫斯基 ,  W·格兰特 ,  E·W·泰勒 ,  D·胡梅尼克 ,  K·邦度姆

IPC分类号： C23C14/46 ,  C23C14/35 ,  C23C16/448

CPC分类号： H01J37/3438 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/22 ,  C23C14/32 ,  C23C14/325 ,  C23C14/3471 ,  C23C14/3478 ,  C23C14/35 ,  C23C14/354 ,  C23C14/355 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/32917 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3417 ,  H01J49/12

摘要： 本发明涉及一种涂布系统以及在该涂布系统中涂布基底的方法。该涂布系统包括真空腔室以及位于该真空腔室内的涂布组合件。该涂布组合件包括：蒸气源，该蒸气源将待涂布的材料提供到基底上；用于固持待涂布的基底的基底固持器，使得基底位于蒸气源的前方；阴极腔室组合件；以及远程阳极。该阴极腔室组合件包括阴极、可选的初级阳极以及屏蔽物，该屏蔽物将阴极与真空腔室隔离。该屏蔽物界定用于将电子发射电流从该极传输到真空腔室中的开口。该蒸气源位于阴极与远程阳极之间，而远程阳极耦合到阴极。该涂布系统还包括连接在阴极与初级阳极之间的初级电源以及连接在阴极腔室组合件与远程阳极之间的次级电源。

公开(公告)号：CN101405428A

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN200780009961.7

申请日：2007-03-06

申请人： 株式会社神户制钢所

发明人： 藤井博文

IPC分类号： C23C14/32

CPC分类号： C23C14/325 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/351 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32614

摘要： 本发明提供电弧离子镀方法以及该方法中使用的靶材，能够得到在被处理物的大致全长上均匀的膜厚分布、并且能够谋求提高靶材材料成品率和降低靶材制造成本。因此，在真空室(1)内配置至少能够分割为长度方向两端部(31)、(32)和其以外的中央部(33)的靶材(3)和被处理物。在保护膜形成时，控制靶材表面的电弧斑点位置以使长度方向两端部(31)、(32)的消耗速度比中央部(33)的消耗速度快，并且靶材(3)的中央部(33)达到消耗极限之前，在长度方向两端部(31)、(32)的至少一个达到消耗极限的时刻，仅交换该端部并继续进行膜的形成。

公开(公告)号：CN1494603A

公开(公告)日：2004-05-05

申请号：CN01823097.0

申请日：2001-03-27

申请人： 特克尼克基业

发明人： 霍苏·戈伊卡特克萨·拉里尼亚加

IPC分类号： C23C14/35

CPC分类号： H01J37/32055 ,  C23C14/325 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/3266

摘要： 本发明涉及一种电弧蒸发器，包括一阳极(1)和一阴极或靶(2)并用于产生准备施加到真空室内需涂覆部分(10)的蒸发材料。本发明的蒸发器还包括一磁引导装置，用于确保电弧以均匀的方式在靶的整个表面上运动。所述磁引导装置包括两个独立的磁系统，其中第一磁系统由一组永磁体(3)构成，该永磁体设置在阴极或靶(2)的周边并且以如下方式设置成或多或少地与靶(2)共面，即其磁化强度要垂直于所述靶(2)的表面；第二磁系统由一电磁体(4－5)构成，该电磁体设置在靶(2)的后部并且与所述靶间隔开一距离地放置在蒸发器电绝缘主体(6)内，其中至少一个磁极设置成与上述靶(2)的表面相平行。这样，两个磁系统的结合作用就确保了靶(2)被均匀地使用或消耗，同时又提高了蒸发器的稳定性。

公开(公告)号：CN105164305B

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201380076080.2

申请日：2013-04-30

申请人： 日本ITF株式会社

发明人： 冈崎尚登 ,  吉原健 ,  石塚浩 ,  松野知保 ,  楢原真司

IPC分类号： C23C14/24

CPC分类号： H01J37/32055 ,  C23C14/325 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/3266 ,  H01J37/32669 ,  H01J2237/327 ,  H01J2237/332

摘要： 本发明提供一种电弧蒸发源，在真空中利用电弧放电使阴极材料熔解、蒸发而在基材表面成膜，包括形成为大致圆板形状的阴极、及配置于阴极的背面侧的磁场产生单元，磁场产生单元构成为如下，即，利用在阴极的背面以磁极朝向相对于阴极的放电面为20°～50°方向配置的至少一个永久磁铁而产生磁场，所述磁场在阴极的外周面形成相对于基材方向为锐角的磁力线、在阴极的放电面的最外周部形成相对于放电面大致垂直的磁力线、在阴极的放电面的靠外周面的部分形成相对于阴极的中心方向为锐角的磁力线，所述电弧蒸发源能够充分利用阴极的外周部，而能够显著提高阴极材料的利用效率。

公开(公告)号：CN103582720B

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：CN201280002957.9

申请日：2012-06-05

申请人： 三菱电机株式会社

发明人： 安永裕介 ,  后藤昭弘 ,  寺本浩行 ,  鹫见信行

IPC分类号： C23C26/00

CPC分类号： B05C11/00 ,  H01J37/3255 ,  H01J37/32577 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/32825 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4682

摘要： 放电电极及工件与电容器并联连接，在极间产生的放电脉冲电流的起始处形成有高峰值短脉宽的电流部分的情况下，通过在切换为随后的低电流值长脉宽的电流部分时，对反转电流进行抑制或阻止，从而使放电脉冲电流的波形形成为不对覆膜的生成产生影响的电流波形。

公开(公告)号：CN105463384A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201510606832.2

申请日：2015-09-22

申请人： 苹果公司

发明人： M·S·罗杰斯

IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C16/513 ,  C23C16/30

CPC分类号： H01J37/32596 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/542 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  C23C28/04 ,  G02B1/113 ,  H01J37/32403 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32614 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/342 ,  H01J37/3423 ,  H01J37/3435 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/081 ,  H01J2237/327 ,  H01J2237/3321

摘要： 本申请涉及耐用的3D几何形状保形抗反射涂层。更具体而言，公开了用于沉积薄膜的方法和系统。该方法和系统可以被用来在基板表面上沉积具有均匀厚度的膜，其中基板表面具有非平坦三维几何形状，诸如弯曲的表面。该方法涉及沉积源的使用，其中沉积源具有符合基板表面的非平坦三维几何形状的形状。在一些实施例中，多层膜沉积在彼此之上，从而形成多层涂层。在一些实施例中，多层涂层是用于窗口或透镜的抗反射(AR)涂层。

公开(公告)号：CN101405428B

公开(公告)日：2012-08-01

申请号：CN200780009961.7

申请日：2007-03-06

申请人： 株式会社神户制钢所

发明人： 藤井博文

IPC分类号： C23C14/32

CPC分类号： C23C14/325 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/351 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32614

摘要： 本发明提供电弧离子镀方法以及该方法中使用的靶材，能够得到在被处理物的大致全长上均匀的膜厚分布、并且能够谋求提高靶材材料成品率和降低靶材制造成本。因此，在真空室(1)内配置至少能够分割为长度方向两端部(31)、(32)和其以外的中央部(33)的靶材(3)和被处理物。在保护膜形成时，控制靶材表面的电弧斑点位置以使长度方向两端部(31)、(32)的消耗速度比中央部(33)的消耗速度快，并且靶材(3)的中央部(33)达到消耗极限之前，在长度方向两端部(31)、(32)的至少一个达到消耗极限的时刻，仅交换该端部并继续进行膜的形成。

公开(公告)号：CN100542373C

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：CN200580008341.2

申请日：2005-02-17

申请人： 日本磁性技术株式会社 ,  泷川浩史

发明人： 泷川浩史 ,  椎名祐一

IPC分类号： H05H1/50 ,  C23C14/24 ,  C23C14/32

CPC分类号： C23C14/325 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/32614 ,  H05H1/50

摘要： 能将阴极电弧等离子体的起动、维持、停止等系列操作长时间反复断续进行的等离子体发生装置。本发明的成膜用等离子体发生装置配备有供给电弧等离子体构成粒子的阴极4和电弧等离子体的起动与保持用的触发器兼阳极(6)，阴极(4)的阴极面(4a)为平坦的或具有细微凹凸，与阴极面(4a)接触的触发极兼阳极(6)的阳极面(6c)则有平坦的表面，且配装成在等离子体起动时，阳极面(6c)与整个阴极面(4a)接触，此阴极面(4)的微细凸部前端(4b)与阳极面(6c)的接触点上作为等离子体的发射点，在此凸部用等离子体发射的消耗时则以能与此阳极面(6c)接触的另一凸部前端作为新的等离子体的发射点，在持续反复继续进行上述系列操作时长期间地生成稳定的等离子体。