一种含锂晶体材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN110284196B

    公开(公告)日:2020-07-31

    申请号:CN201910671325.5

    申请日:2019-07-24

    Abstract: 本申请公开一种含锂晶体材料及其制备方法和应用,属于二阶非线性光学材料及制备技术领域。所述含锂晶体材料具有化学式AxBayLiz(Ga4S7)n;其中A选自K、Rb和Cs中的至少一种,x+2y+z=2n,n为2~7的整数。所述方法包括:将含有钡元素、镓元素、硫元素、锂元素和AX的原料在真空条件下置于反应温度下反应,冷却;其中AX中的X选自F、Cl、Br和I中的一种。本申请的含锂晶体材料具有改善的红外非线性光学性能,可应用于激光器中。本申请的方法工艺步骤简单,所得晶体材料的纯度高、结晶度好且收率高,适合大规模工业化生产。

    一种卤化汞在双折射率材料中的应用

    公开(公告)号:CN118169782A

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202311870458.8

    申请日:2023-12-29

    Abstract: 本申请公开了一种卤化汞在双折射率材料中的应用,属于材料技术领域。所述卤化汞的化学结构式为HgX2,X选自卤族元素Cl、Br或I。本申请将HgX2晶体作为双折射率材料应用时,其具有宽的透过波长,从紫外延伸至在中远红外波段(0.35~20.0μm),具有大的双折射率(0.15~0.3),具有二元化合物的特征,具有优良的晶体生长习性;HgX2晶体可以作为潜在的双折射率材料使用,拓展了双折射率材料的使用范围,该材料具有良好的市场前景。

    一种用于电子结构分析的密度矩阵模型方法

    公开(公告)号:CN115938520B

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202211703463.5

    申请日:2022-12-29

    Inventor: 姜小明 郭国聪

    Abstract: 本发明属于材料细分领域,尤其是一种用于电子结构分析的密度矩阵模型方法,包括:建立参数#imgabs0#的电子密度矩阵模型,计算出每个衍射点的理论X射线衍射强度和每个动量的康普顿散射轮廓的理论值;通过X射线单晶衍射实验,获得每个衍射点的实验强度I实验;通过X射线康普顿散射实验,获得每个动量的康普顿散射轮廓J实验;建立理论强度与实验强度的差函数;采用最小二乘法计算出差值函数中的最小值,最终获得最优模型的参数#imgabs1#通过本发明得到材料分析领域精修后的电子结构;后续依据该电子结构进行拓扑分析和材料设计更加精准。

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