公开(公告)号：CN106847704A

公开(公告)日：2017-06-13

申请号：CN201710071436.3

申请日：2017-02-09

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 冯京 ,  崔承镇 ,  张方振 ,  黎午升 ,  吕志军 ,  宁策 ,  王久石

IPC: H01L21/44 ,  H01L29/417 ,  H01L21/34 ,  H01L29/786 ,  H01L27/12

Abstract: 本发明公开了一种对金属层表面粗糙化处理的方法、薄膜晶体管及制作方法，通过对金属层表面进行粗糙化处理，使金属层表面变得粗糙，增加了后续在金属层表面进行构图时的附着力。所述对金属层表面粗糙化处理的方法，包括：在金属层表面形成第一光刻胶层，并对所述第一光刻胶层进行高温处理；剥离所述第一光刻胶层，使所述金属层表面粗糙化。

公开(公告)号：CN106373967A

公开(公告)日：2017-02-01

申请号：CN201610968576.6

申请日：2016-10-27

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 牛菁 ,  孙双 ,  张方振 ,  米东灿

IPC: H01L27/12 ,  H01L21/82

CPC classification number: H01L29/66969 ,  H01L21/443 ,  H01L21/47635 ,  H01L27/1225 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/78618 ,  H01L29/7869 ,  H01L27/124 ,  H01L21/82 ,  H01L27/127 ,  H01L2227/32

Abstract: 本发明属于显示技术领域，具体涉及一种阵列基板的制备方法、阵列基板和显示装置。该阵列基板的制备方法包括：在衬底上依次形成有源膜层、第一绝缘膜层、栅极膜层，通过一次构图工艺形成包括有源层、第一绝缘层和栅极的图形；形成栅绝缘层，通过一次构图工艺在所述第一绝缘层和所述栅绝缘层中分别形成第一接触孔和第二接触孔；形成像素电极膜层，在所述像素电极膜层中形成第一接触结构和第二接触结构；形成源漏膜层，通过一次构图工艺，形成包括像素电极、源极和漏极的图形，所述源极和所述漏极分别位于所述第一接触结构和所述第二接触结构的上方。该阵列基板的制备方法简化了生产过程，减少了由于对位不准引起的产品不良。

公开(公告)号：CN106206319A

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201610665688.4

申请日：2016-08-12

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 牛菁 ,  张方振 ,  孙双

IPC: H01L21/336

CPC classification number: H01L29/66742

Abstract: 本发明涉及显示技术领域，公开了一种薄膜晶体管和显示基板及其制作方法、显示装置。所述制作方法通过一次构图工艺同时形成薄膜晶体管的有源层、栅电极以及位于有源层和栅电极之间的第一绝缘层，能够减少制作显示基板的构图工艺次数，提高对位精度，提升产品的良率。

公开(公告)号：CN105182594A

公开(公告)日：2015-12-23

申请号：CN201510527566.4

申请日：2015-08-25

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 牛菁 ,  齐永莲 ,  孙双 ,  张方振

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/13357

CPC classification number: G02F1/133516 ,  G02B5/3058 ,  G02F1/133512 ,  G02F1/133528 ,  G02F1/133617 ,  G02F1/136209 ,  G02F1/1368 ,  G02F2001/133357 ,  G02F2001/133548 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/2043 ,  G02F2001/133614

Abstract: 一种显示基板，包括衬底基板和偏振层，其中偏振层包括同层设置且材料相同的线栅偏振器和遮光矩阵。该显示基板简化了生产环节，从而降低了成本，并减小了液晶显示装置的厚度。

公开(公告)号：CN104538408A

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：CN201510018641.4

申请日：2015-01-14

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 孙双 ,  崔承镇 ,  张方振 ,  牛菁

IPC: H01L27/12 ,  H01L21/77 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/1368

Abstract: 本发明提供一种阵列基板及其制备方法和显示装置，所述阵列基板包括显示区域和非显示区域，该制备方法包括：在衬底基板上形成栅金属层的图形，所述栅金属层包括位于所述显示区域的栅极和位于所述非显示区域的栅金属走线；形成栅极绝缘层的图形，所述栅金属走线对应区域的栅极绝缘层的厚度小于所述栅极对应区域的栅极绝缘层的厚度；形成钝化层，并在所述栅金属走线对应位置形成贯穿所述钝化层和所述栅极绝缘层的过孔；形成位于所述非显示区域的连接线的图形，所述连接线通过所述过孔与所述栅金属走线连接。本发明可以解决现有的阵列基板的栅外接电路区域的过孔容易产生刻蚀不良的问题。

公开(公告)号：CN104332477A

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：CN201410645972.6

申请日：2014-11-14

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 孙双 ,  张方振 ,  牛菁 ,  吕志军

IPC: H01L27/12 ,  H01L21/77 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/1368

CPC classification number: H01L29/78675 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/41733 ,  H01L29/66757 ,  H01L29/78633 ,  H01L29/78696

Abstract: 公开了一种薄膜晶体管组件、阵列基板及其制作方法、和包括这种阵列基板的显示装置。阵列基板包括：基板；多个薄膜晶体管，形成在所述基板上；以及多个遮光层，每个遮光层在所述基板上设置在所述薄膜晶体管的源极和漏极之间并被构造成用于阻挡光线从外部进入相应薄膜晶体管的有源层。其中，所述遮光层与薄膜晶体管的源极和漏极在所述基板上形成在同一层中。可以利用相同的材料通过一次构图工艺形成遮光层、薄膜晶体管的源极和漏极、以及数据线，减少了构图工艺的次数和掩模板的使用数量，从而简化了阵列基板的制作工艺，降低了制作成本。

公开(公告)号：CN104022017A

公开(公告)日：2014-09-03

申请号：CN201410256945.X

申请日：2014-06-10

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 舒适 ,  吕志军 ,  谷敬霞 ,  石岳 ,  张方振 ,  孙冰 ,  徐传祥

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/76892 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/32055 ,  H01L23/49877 ,  H01L2924/0002 ,  H05K3/064 ,  H05K2201/0108 ,  H05K2201/0323 ,  H05K2201/10128 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0272 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明的实施例提供了一种石墨烯图案化的方法及显示基板的制作方法，涉及电子技术领域，可以避免现有技术中光刻胶材料剥离时导致石墨烯薄膜脱落或者光刻胶在石墨烯膜层上残留的不良的情况，能够在保证生产成本的情况下提高产品良率。该方法包括：在石墨烯层上形成隔离层；在所述隔离层上形成光刻胶层；对所述光刻胶层进行图案化处理；按照图案化的光刻胶层对所述隔离层进行刻蚀形成图案化的隔离层；按照所述图案化的光刻胶层对所述石墨烯层进行刻蚀形成图案化的石墨烯层；将所述图案化的隔离层去除。本发明应用于电子设备中石墨烯图案化的方法。

公开(公告)号：CN113871518B

公开(公告)日：2025-01-24

申请号：CN202111136482.X

申请日：2021-09-27

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 孙双 ,  张方振 ,  牛菁 ,  牛亚男 ,  周婷婷 ,  彭锦涛 ,  秦斌 ,  王玮 ,  陈婉芝

IPC: H10H20/814 ,  H10H20/812 ,  H10H20/816 ,  H10H29/20 ,  G09F9/33

Abstract: 本发明涉及一种发光器件和显示基板。所述发光器件，包括：第一发光结构、第一电极、第一导电结构与第一反射层；第一电极通过第一导电结构与第一发光结构电连接，第一反射层位于第一电极与第一发光结构之间，第一电极在第一发光结构上的投影位于第一反射层在第一发光结构上的投影内。根据本发明的实施例，可以提高发光器件的发光效率。

公开(公告)号：CN119068808A

公开(公告)日：2024-12-03

申请号：CN202310638364.1

申请日：2023-05-31

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 任锦宇 ,  张方振 ,  王新星

IPC: G09G3/32 ,  G09G3/3208

Abstract: 本公开提供一种触发器电路及像素驱动电路，属于电路技术领域。本公开的触发器电路，其包括：与门，其具有第一输入端、第二输出端和输出端，所述与门被配置为根据所述第一输入端和所述第二输入端的电位，控制所述输出端输出时钟信号，所述时钟信号的电位在第一电源电压和第二电源电压之间跳变；输入控制子电路，被配置为响应于输入控制信号，而将所述第一电源电压或者所述第二电源电压传输至所述第一输入端和所述第二输入端中的至少一者；占空比调节子电路，被配置为响应于数据电压控制信号，调节所述时钟信号的占空比。

公开(公告)号：CN118609498A

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202410865773.X

申请日：2024-06-28

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方技术开发有限公司

Inventor： 任锦宇 ,  张方振 ,  王新星 ,  牛亚男 ,  秦斌 ,  王锦谦

IPC: G09G3/20

Abstract: 本公开公开了一种驱动电路、驱动补偿电路、显示面板、显示装置、以及驱动补偿方法，其中一实施例的驱动电路包括：写入电路，配置为基于级联信号端和写入控制端的控制，将第一电源信号端与第二节点电连接；选通电路，配置为基于当前扫描行对应驱动级的上拉节点的信号，将第一节点与第二节点电连接；补偿电路，配置为基于第一节点的信号输出补偿信号端的信号；初始化电路，配置为基于启动控制端的信号将第二电源信号端与第一节点电连接；第一复位电路，配置为基于复位控制端的信号将第二电源信号端与第一节点电连接。本公开实施例所提供的驱动电路能够对行扫描信号进行补偿，从而以外部电路实现对像素灰阶电压补偿，减少像素区晶体管数量。