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公开(公告)号：CN107090550A
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：CN201710458497.5
申请日：2017-06-16
申请人： 郑州大学
摘要： 本发明公开了一种镁冶炼负压排渣装置及其方法。本发明负压排渣装置包括竖罐排渣口、导渣筒和渣仓，还包括排风管道、抽气装置和粉尘过滤装置，所述竖罐排渣口下部设有导渣筒，导渣筒下部设有渣仓，渣仓入口处设有排风管道、抽气装置和粉尘过滤装置。镁冶炼还原反应后产生的还原渣及其飞灰从竖罐排渣口排出，进入导渣筒；经过导渣筒进入渣仓，飞灰经渣仓入口处设有的排放管道由抽气装置通入的负压气体引入排风管道，经粉尘过滤装置处理后排出；还原渣与携带的飞灰分离后，进入渣仓收集。本发明经过初步验证，效果显著：避免排渣时高温的还原渣飞灰向车间飘散，改善工人操作环境。
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公开(公告)号：CN118771879A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202411036295.8
申请日：2024-07-31
申请人： 郑州大学
IPC分类号： C04B35/457 , C23C14/34 , C23C14/08 , C04B35/622
摘要： 本发明实施例公开了具有高迁移率的氧化铟锡锌靶材及其制备方法；方法包括对利用In2O3粉体、ZnO粉体、SnO2粉体以及掺杂金属氧化物粉体制备的球形造粒进行两步振荡压力烧结处理的步骤，具体包括：球形造粒粉在模具中在第一压力下预压；将预压的球形造粒粉加热至第一温度；在温度到达第一温度之前将施加到模具上的第一压力线性增加至第二压力；在第一温度、第二压力下执行第一次保温；在第一次保温阶段叠加频率为1～2Hz、振幅为5～10MPa的振荡压力；维持第二压力降温至第二温度；在第二温度、第二压力下执行第二次保温，施加与第一次保温阶段同样大小和频率的振荡压力；第二次保温阶段结束后，停止加热，去除外加振荡压力，降温至1000℃；然后随炉冷却至室温。
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公开(公告)号：CN116573663B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202310624773.6
申请日：2023-05-30
申请人： 郑州大学
IPC分类号： C01F17/294 , C01F17/10
摘要： 本发明公开了一种稀土掺杂硫氧化钆粉体的制备方法。将氨基磺酸加入去离子水中，搅拌至澄清，得到NH2SO3H溶液；然后将氧化钆、氧化镨和氧化铈加入所得NH2SO3H溶液中搅拌均匀，得到混合溶液；混合溶液转移至水浴锅中，持续搅拌升温，并调节pH值进行沉淀反应，反应后得到沉淀混合物；将沉淀混合物依次进行离心分离、洗涤和烘干，得到前驱体粉末；所得前驱体粉末进行煅烧，煅烧后得到Gd2O2S:Pr,Ce粉体。利用本发明制备稀土掺杂Gd2O2S粉体，能够解决现有沉淀法存在的原料成本高、分体易团聚、存在安全隐患的技术问题。
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公开(公告)号：CN118206374A
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202410056056.2
申请日：2024-01-15
IPC分类号： C04B35/495 , C04B35/622 , C23C14/35 , C23C14/08
摘要： 本发明公开了用于节能玻璃领域的铯钨青铜陶瓷靶材及其制备方法。该制备方法包括：将铯钨青铜粉末预压制成型得到铯钨青铜初生坯；将铯钨青铜初生坯冷等静压得到铯钨青铜次生坯；将铯钨青铜次生坯在保护气氛下烧结得到铯钨青铜靶坯，铯钨青铜靶坯的平均粒径为1～15μm，致密度大于85％，纯度大于99.9％；将铯钨青铜靶坯机加工得到铯钨青铜陶瓷靶材。制备得到的铯钨青铜陶瓷靶材微观组织均匀、晶粒细小均匀、致密度高，成分均匀、纯度大于99.9％、满足后续磁控溅射镀膜的要求，成本低，且采用本发明实施例公开的铯钨青铜陶瓷靶材磁控溅射得到的铯钨青铜薄膜组织均匀，成分均匀，近红外光屏蔽效果好，可见光透过率高，使用寿命长。
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公开(公告)号：CN117819967A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202410056045.4
申请日：2024-01-15
IPC分类号： C04B35/495 , C23C14/35 , C23C14/08 , C04B35/622
摘要： 本发明公开了一种用于制备近红外光屏蔽薄膜的铯钨青铜陶瓷靶材及其制备方法。该制备方法包括：称取设定量的铯钨青铜粉体；在热压模具中铺展一层石墨纸或喷涂一层氮化硼喷剂，然后再铺展一层防污染材料；将铯钨青铜粉体放入热压模具中压实，并对热压模具进行封口，放入热压烧结炉中预压制铯钨青铜粉体；调节参数，对铯钨青铜粉体进行热压烧结，得到铯钨青铜烧结坯体；将得到的铯钨青铜烧结坯体进行机加工处理，得到铯钨青铜陶瓷靶材。制备得到的铯钨青铜陶瓷靶材微观组织均匀、晶粒细小、致密度大于98％，成分均匀、纯度大于99.9％、满足后续磁控溅射镀膜的要求，成本低，磁控溅射得到的铯钨青铜薄膜近红外光屏蔽效果好，可见光透过率高，使用寿命长。
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公开(公告)号：CN117776680A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311826192.7
申请日：2023-12-28
IPC分类号： C04B35/053 , C04B35/622 , C23C14/35 , C23C14/08
摘要： 本发明实施例公开了透明氧化镁陶瓷靶材及其制备方法；制备方法包括步骤：S1、纳米氧化镁粉体进行喷雾造粒；S2、喷雾造粒得到的粉体在冷等静压下成型为靶材素坯；S3、靶材素坯在设定条件下烧结；S4、烧结后的靶材素坯进行梯度退火处理，得到透明氧化镁靶材。本发明实施例公开的透明氧化镁陶瓷靶材的制备方法，制备得到了相对密度在可达99.9％以上的透明氧化镁陶瓷靶材。
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公开(公告)号：CN116606131A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202310588609.4
申请日：2023-05-24
申请人： 郑州大学
IPC分类号： C04B35/45 , C04B35/622 , C23C14/34 , C23C14/08
摘要： 本发明公开了一种铕钡铜氧化物超导溅射靶材的制备方法及其产品，属于超导材料技术领域。本发明将氧化铕粉体、碳酸钡粉体与氧化铜粉体按1:4:6的摩尔比混合，得到第一混合粉体，经煅烧处理得到第二混合粉体；将第二混合粉体与分散剂、粘结剂和水混合，得到铕钡铜氧化物浆料，经压力注浆成型得到铕钡铜氧化物靶材素坯，再经干燥处理和脱脂烧结处理，得到铕钡铜氧化物超导溅射靶材。本发明铕钡铜氧化物靶材素坯中的氧化物粉体经过脱脂烧结过程形成主相，二次相CuO均匀分散在主相之间，得到了组织均匀的铕钡铜氧化物超导溅射靶材，晶粒之间紧密接触，结构致密程度高。
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公开(公告)号：CN116288190A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310333631.4
申请日：2023-03-31
申请人： 郑州大学
摘要： 本发明实施例公开了低氧、高致密、高塑性钼钛合金靶材及制备方法；制备方法包括：取设定量的钼粉和钛粉，在混料机中氩气氛保护下混合得到混合粉体；将混合粉体进行冷等静压成型，得到钼钛生坯；将得到的钼钛生坯进行低温真空烧结，得到预烧结坯；将预烧结坯进行热等静压烧结，得到低氧、高致密、高塑性钼钛合金靶材。本发明实施例公开的低氧、高致密、高塑性钼钛合金靶材的制备方法，结合真空烧结与热等静压来制备钼钛合金靶材，先使用真空预烧结除去坯体中杂质性元素，然后将预烧结坯进行热等静压烧结得到低氧、高致密以及高塑性的钼钛合金靶材，在钼钛合金靶材制备领域有良好的应用前景。
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公开(公告)号：CN115522123B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202211141748.4
申请日：2022-09-20
申请人： 南通新兴机械制造有限公司 , 郑州大学
IPC分类号： C22C38/02 , C22C38/04 , C22C38/44 , C22C33/06 , B22C9/30 , C21D1/18 , C21D9/00 , B22C9/02 , B22C9/20
摘要： 本发明公开了一种整体铸造重型链条用高强韧耐磨低合金铸钢及其制备方法。低合金铸钢元素组成为C 0.18～0.24％、Si 0.40～0.70％、Mn 0.40～1.20％、Ni 0.90～2.20％、Cr 0.90～1.20％、Mo 0.30～0.70％、P≤0.03％、S≤0.03％、碳当量CET
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公开(公告)号：CN114632933A
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202210245534.5
申请日：2022-03-14
申请人： 郑州大学
摘要： 本发明涉及一种多孔钼的制备方法：称取团簇状球形钼粉；装入到橡胶模具中，进行冷等静压压制，得到生坯；将生坯于1600‑1900℃进行真空高温烧结60‑80min，降温后即得低孔隙率的多孔钼。采用该方法制备获得孔隙率19‑29%的多孔钼，孔隙分布平整均匀，开孔率高，闭孔率很小，可以将含有钠元素的化合物均匀地熔渗进多孔钼中。本发明还提供了一种钼钠合金的制备方法，其以多孔钼为原料，利用熔渗方法制备获得，可以显著降低钠元素的损失。
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