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公开(公告)号：CN116888163A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202280016577.4
申请日：2022-02-21
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F2/46
Abstract: 本发明提供能够形成金属氧化物纳米粒子的局部存在被抑制的固化物的光固性液态组合物、该光固性液态组合物的固化物、和使用前述光固性液态组合物的固化物的制造方法。在包含光聚合性单体(A)、金属氧化物纳米粒子(B)和光聚合引发剂(C)的光固性液态组合物中，作为光聚合性单体(A)，含有具有3个以上的烯键式不饱和双键的多官能单体(A1)。
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公开(公告)号：CN114761875A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202080082414.7
申请日：2020-11-17
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供能形成具备高透明性的固化物的感光性组合物、该感光性组合物的固化物、和使用前述感光性组合物的固化物的制造方法。在包含具有光聚合性的基材成分(A)、和光聚合引发剂(B)的感光性组合物中，使用有机硅树脂作为基材成分(A)，并且，作为光聚合引发剂(B)，将氧化膦化合物(B1)与肟酯化合物(B2)以特定的比率组合而使用。
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公开(公告)号：CN109143778A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201810443221.4
申请日：2018-05-10
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及树脂组合物、固化膜、滤色片及固化膜的制造方法。本发明的课题是提供可形成对基板的密合性良好的图案且可抑制在未曝光部产生显影残渣的树脂组合物、使用了该树脂组合物的固化膜的制造方法、使该树脂组合物固化而形成的固化膜和具有该固化膜的滤色片。本发明在树脂组合物中配合下述式(e1)表示的化合物作为硅烷偶联剂(E)，所述树脂组合物包含碱溶性树脂(A)、光聚合性化合物(B)、光聚合引发剂(C)和颜料(D)。(Re1O)a(Re2)3‑aSi‑Re3‑NH‑CO‑Re4‑Re5……(e1)。式(e1)中Re1和Re2各自独立地为碳原子数1～6的烃基，a为2或3，Re3为碳原子数1～10的亚烷基，Re4为2价的有机基团，Re5为布朗斯台德酸性基团、醇式羟基、氨基或氨基甲酰基。
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公开(公告)号：CN108957952A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201810464382.1
申请日：2018-05-15
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: C08G59/686 , B05D3/0254 , B05D3/06 , C08G59/24 , C08G59/245 , C08G59/3236 , C08G59/687 , C08G75/08 , C09D163/00 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及固化性组合物、固化膜、显示面板、及固化物的制造方法。本发明的课题在于提供：可形成耐热性(耐热分解性)和对基材的密合性良好的固化物、且固化性良好的固化性组合物；由该固化性组合物的固化物形成的固化膜；具有该固化膜的显示面板；和使用前述固化性组合物的固化物的制造方法。本发明的技术手段是在包含(A)固化性化合物和(B)热阳离子聚合引发剂的固化性组合物中，使(A)固化性化合物含有以包含芳香环的3个以上的环稠合而形成的稠环为主骨架的阳离子聚合性的化合物，并且，使(B)热阳离子聚合引发剂含有特定结构的季铵盐型的化合物。
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公开(公告)号：CN101436658B
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：CN200810176262.8
申请日：2008-11-10
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社关东学院大学表面工学研究所
IPC: H01M4/02 , H01M4/66 , H01M4/04 , H01M10/36 , H01M10/052 , C08L63/00 , C08L61/06 , C08L25/18 , C08L33/00 , G03F7/00
Abstract: 本发明是提供一种负极基材、使用此负极基材的二次电池、用于形成此负极基材的树脂组合物以及此负极基材的制造方法，所述负极基材可以制造具有高输出电压和高能量密度，并且充放电循环特性优良的电池。利用负极基材10，可以提供一种具有高输出电压和高能量密度，并且充放电循环特性优良的电池，所述负极基材的特征为：其是在具备通过热压印法或者光压印法而成形的图案化有机膜12的支持体11上，形成金属膜13而成的。
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公开(公告)号：CN102169995A
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：CN201110070855.8
申请日：2007-12-11
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社关东学院大学表面工学研究所
IPC: H01M4/66 , H01M4/04 , H01M10/0525 , C09D183/04 , G03F7/039 , G03F7/038
CPC classification number: H01M4/60 , G03F7/022 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/0382 , G03F7/0385 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , H01M4/045 , H01M4/049 , H01M4/134 , H01M4/1391 , H01M4/1395 , H01M4/48 , H01M4/66 , H01M4/665 , H01M4/667 , H01M4/668 , H01M10/0525 , H01M2004/021 , H01M2004/025 , H01M2004/027 , Y02E60/122 , Y02P70/54 , Y02T10/7011
Abstract: 本发明利用与以往技术不同的构成，能够实现一种具有高输出电压及高能量密度、且充放电循环特性优异的电池。本发明使用以下负极基材来作为用于锂离子二次电池的负极基材：特征在于在具备有机膜的支撑体上形成金属膜的负极基材；特征在于所述有机膜的表层由金属氧化物膜被覆的所述负极基材；特征在于在具备由包含有机成分及无机成分的复合膜形成材料所形成的复合膜的支撑体上，形成金属膜的负极基材；或者特征在于在形成了光阻图案的支撑体上，形成由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成的二氧化硅系被覆膜，并在除去了所述光阻图案的支撑体上形成金属膜的负极基材。
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公开(公告)号：CN102169994A
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：CN201110070833.1
申请日：2007-12-11
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社关东学院大学表面工学研究所
IPC: H01M4/66 , H01M4/04 , H01M10/0525 , C09D183/04 , G03F7/039 , G03F7/038
CPC classification number: H01M4/60 , G03F7/022 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/0382 , G03F7/0385 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , H01M4/045 , H01M4/049 , H01M4/134 , H01M4/1391 , H01M4/1395 , H01M4/48 , H01M4/66 , H01M4/665 , H01M4/667 , H01M4/668 , H01M10/0525 , H01M2004/021 , H01M2004/025 , H01M2004/027 , Y02E60/122 , Y02P70/54 , Y02T10/7011
Abstract: 本发明利用与以往技术不同的构成，能够实现一种具有高输出电压及高能量密度、且充放电循环特性优异的电池。本发明使用以下负极基材来作为用于锂离子二次电池的负极基材：特征在于在具备有机膜的支撑体上形成金属膜的负极基材；特征在于所述有机膜的表层由金属氧化物膜被覆的所述负极基材；特征在于在具备由包含有机成分及无机成分的复合膜形成材料所形成的复合膜的支撑体上，形成金属膜的负极基材；或者特征在于在形成了光阻图案的支撑体上，形成由二氧化硅系被覆膜形成用涂布液所形成的二氧化硅系被覆膜，并在除去了所述光阻图案的支撑体上形成金属膜的负极基材。
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公开(公告)号：CN101142530B
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN200680008846.3
申请日：2006-03-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , C07D251/02 , C08F220/18 , G03F7/004 , G03F7/0392 , H01L21/0274
Abstract: 本发明是提供一种，除了其他优点以外，对在基板上形成比较厚的光致抗蚀剂膜用为合适的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物。本案组合物含有，(A)光酸产生剂，(B)因酸的作用对碱溶液的溶解性增大的碱不溶性树脂，(C)碱可溶性树脂及(D)有机溶剂，其中组分(C)是(C1)聚羟基苯乙烯或至少含有80质量％的羟基苯乙烯单元的共聚物，其量相对于(B)成分与(C)成分合计量100质量份，不超过15质量份的量。
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公开(公告)号：CN101065707A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200580040710.6
申请日：2005-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/11 , H05K3/108 , H05K3/384 , H05K2201/0317
Abstract: 本发明用于制造抗蚀图案的方法是包括下列步骤的用于制造抗蚀图案的方法：层压(a)具有其上存在铜的上表面的载体，(b)由从无机物质源供应的无机物质组成的无机物质层，和(c)由化学放大型负性光致抗蚀剂组合物组成的光致抗蚀剂层以获得光致抗蚀剂层压材料的步骤；将激活光或放射线选择性辐照到所述光致抗蚀剂层压材料上的步骤；和将所述(c)光致抗蚀剂层与所述(b)无机物质层一起显影以形成抗蚀图案的步骤。
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