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公开(公告)号：CN104701233B
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201510104513.1
申请日：2015-03-10
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687
摘要： 本发明公开了一种盘状物夹持旋转装置，在基体的周缘设置多个支撑销，支撑销由行程变换机构驱动做升降运动，通过卡爪和支撑销相互配合，在取放盘状物时，支撑销做上升运动，远离卡盘，保证机械手末端执行器的取放片动作，在盘状物处于工艺状态时，支撑销做下降运动，贴合卡盘，避免硅片的背面受到污染，本发明合理的控制盘状物与卡盘之间的距离，具有结构简单、动作控制方式便捷可靠、可与各类工艺处理腔体相兼容的优点。
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公开(公告)号：CN103693343B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201410001185.8
申请日：2014-01-02
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种多层存储台装置，其调平底座包括位于下层的支撑板，位于上层的调节板，设于支撑板和调节板之间的调平部件，以及固定支撑板和调节板的锁紧部件；其支撑脚支撑为成对的支撑脚支撑架，调节板通过一对相向设置的连接侧板与所述支撑脚支撑架固接，支撑脚支撑架在连接侧板的内侧可沿竖直方向相向多层设置；每层支撑脚支撑架的上表面设有若干个支撑脚。本发明可使晶圆得以多层存储，提高机械手的利用率，增加生产产量，具有结构简单、易实现、可节省设备占地面积的显著特点。
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公开(公告)号：CN102867771B
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201210348350.8
申请日：2012-09-18
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687 , G01B11/02
摘要： 本发明涉及半导体集成电路器件清洗技术领域，公开了一种具有监测半导体晶片状态功能的夹持装置，包括：可旋转的卡盘、位于所述卡盘几何中心的旋转轴、固定于所述旋转轴上的传感器、以及分布在所述卡盘上的至少三个夹持元件。本发明还提供了一种监测半导体晶片状态的方法。本发明通过凸轮和卡盘的相对转动来放松或夹紧晶片，结构简单、容易实现，进一步通过传感器精确测量晶片是否夹紧，避免了夹紧力过小造成晶片夹持不紧，或者夹紧力过大造成对晶片的破坏，稳定性得以提高。
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公开(公告)号：CN104538345A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201410851693.5
申请日：2014-12-31
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687
CPC分类号： H01L21/68721 , H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/6875 , H01L21/68764
摘要： 本发明公开了一种盘状物夹持旋转装置，通过沿可动基座圆周方向分设一组固定卡爪和活动卡爪，每个活动卡爪分别与一个固定卡爪相对设置，并通过在活动卡爪及其转动方向两侧分设磁体，利用相邻磁体之间同性相斥的磁力作用分别驱动活动卡爪绕其转动中心来回转动，从而将放置在各固定卡爪上的盘状物夹紧或放开，具有结构简单、动作控制方式便捷可靠、夹持力度可控并可与各类工艺处理腔体相兼容的优点。
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公开(公告)号：CN102989736B
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201210488684.5
申请日：2012-11-26
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
摘要： 本发明涉及硅片湿法清洗领域，尤其涉及一种排风装置。该排风装置包括底腔、兆声波装置盛液槽、兆声波装置盛液槽固定支架、夹层及排风调整单元，所述底腔固定于所述夹层顶部，所述兆声波装置盛液槽通过兆声波装置盛液槽固定支架固定于所述夹层上，夹层将整个工艺腔室的工艺区和电气区分隔开，所述排风调整单元与夹层连接，用于调整工艺腔体内部排风流量、工艺腔体外部排风流量以及电气区的排风流量。这样排风调整单元可通过有效的调整排风量以保证工艺腔室内部流场的均匀性；通过夹层能将工艺腔室的工艺区和电气区完全隔离开来，以防止工艺区的化学液挥发的雾气挥发至电气区对电气部件造成损害。
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公开(公告)号：CN104064500A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201410286965.1
申请日：2014-06-24
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
CPC分类号： H01L21/67023 , H01L21/02057
摘要： 本发明提供了一种用于薄片盘状物的清洗装置及方法，属于半导体工艺制造领域，在工艺腔内设置低速收集环和至少一个高速收集环，通过调整高速收集环的高低档位，在工艺腔内划分不同的排液通道，减少清洗介质因交叉污染对硅片清洗工艺带来不利的影响，除此以外，抽气腔保持对工艺腔内的气流进行抽气，抑制化学试剂挥发至工艺腔体的外围，可实现对硅片清洗工艺中的不同清洗介质进行不同的排液处理，同时可实现对不同的工艺过程流场的排气控制，结构简单实用。
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公开(公告)号：CN103762196A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201410058299.6
申请日：2014-02-20
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687
CPC分类号： H01L21/68721
摘要： 本发明公开了一种盘状物的夹持装置，包括夹持部、升降部、升降执行器；其中，所述夹持部包括环状体的可动基座；所述可动基座可上下运动且圆周方向上分布多个夹紧件，所述夹紧件的下方设有与之相配合用于承载盘状物的支撑件，所述夹紧件与所述支撑件之间可相对垂直运动；所述升降部的下端连接用于驱动所述升降部上下运动的升降执行器；所述升降部的上端控制所述可动基座的上下运动；本发明通过升降部的上下运动控制夹紧件与支撑件之间的距离从而实现硅片的打开和闭合。本发明在现有电磁悬浮平台的基础上提供了一种新型的夹持装置，其运动方式简便，方便机械手臂取放硅片并夹持硅片使硅片在悬浮平台上保持高速旋转。
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公开(公告)号：CN103745950A
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201410042941.1
申请日：2014-01-29
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687
摘要： 本发明公开了一种盘状物夹持装置，包括放置盘状物的旋转卡盘；带动旋转卡盘旋转的旋转轴；以及驱动旋转轴旋转的驱动机构。旋转卡盘包括基体，设于基体周缘的夹持元件，环形体以及限位结构。夹持元件包括主体部及夹持部，主体部自旋转而使夹持部在打开位置和夹持位置之间移动。环形体与夹持元件的主体部形成啮合面，所述啮合面用于当基体与环形体发生相对转动时，使主体部与环形体啮合而自转动。限位结构包括设于基体和环形体的第一和第二限位件，当基体相对于环形体发生第一方向的相对转动以使夹持部从打开位置移动至夹持位置时，第一限位件与第二限位件接触以约束该第一方向的相对转动，进而调节夹持部作用于硅片侧边的力。
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公开(公告)号：CN102867771A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201210348350.8
申请日：2012-09-18
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687 , G01B11/02
摘要： 本发明涉及半导体集成电路器件清洗技术领域，公开了一种具有监测半导体晶片状态功能的夹持装置，包括：可旋转的卡盘、位于所述卡盘几何中心的旋转轴、固定于所述旋转轴上的传感器、以及分布在所述卡盘上的至少三个夹持元件。本发明还提供了一种监测半导体晶片状态的方法。本发明通过凸轮和卡盘的相对转动来放松或夹紧晶片，结构简单、容易实现，进一步通过传感器精确测量晶片是否夹紧，避免了夹紧力过小造成晶片夹持不紧，或者夹紧力过大造成对晶片的破坏，稳定性得以提高。
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公开(公告)号：CN102569150A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201210042925.3
申请日：2012-02-23
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/68728
摘要： 本发明公开了一种易清洗的薄壁盘状物夹持装置及清洗方法，该装置由可旋转的卡盘主体及其边缘设置的至少两组夹持元件组成，夹持元件可以以其与卡盘主体的连接点为旋转中心进行摆动，其底端与卡盘主体连接有径向的压缩弹簧；清洗时同组夹持元件的动作一致，两组夹持元件交替打开和卡紧。通过采用同组夹持元件安装对外同极性磁铁，不同组夹持元件安装磁极相反磁铁；卡盘主体上均匀间隔设两组电磁铁。清洗初期两组电磁铁不通电，两组夹持装置处于压缩弹簧弹力作用下的夹紧状态，清洗时通过改变电磁铁中电流方向来使夹持元件交替打开。本发明可以对夹持元件与薄壁盘状物接触的地方进行清洗，从而提高薄壁盘状物的整体清洗质量。
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