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公开(公告)号：CN105051608A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480017166.2
申请日：2014-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种可维持高灵敏度，并使耐化学品性变得良好，且进一步降低相对介电常数的感光性树脂组合物。该感光性树脂组合物包括：(A)含有满足下述(1)及下述(2)的至少一种的聚合物的聚合物成分，(1)具有(a1)含有酸基由酸分解性基保护的基的构成单元、及(a2)含有交联性基的构成单元的聚合物，(2)具有上述构成单元(a1)的聚合物及具有上述构成单元(a2)的聚合物；(B)光酸产生剂；以及(C)溶剂；在上述(A)聚合物成分中，包含至少一种(a4)含有内酯结构的构成单元，或包含至少一种(3)含有上述构成单元(a4)、且不含上述构成单元(a1)及上述构成单元(a2)的聚合物。
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公开(公告)号：CN104995560A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201480008170.2
申请日：2014-02-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039
Abstract: 本发明提供一种感光性树脂组合物，其不仅可维持高感度，而且可使耐化学品性以及硬化膜密接性良好。上述感光性树脂组合物含有：包含以下聚合物的聚合物成分：包括(a1)具有酸基由酸分解性基保护的基团的结构单元以及(a2)具有交联性基(其中，嵌段异氰酸酯基以及OH基除外)的结构单元的聚合物、或者满足具有结构单元(a1)的聚合物以及具有结构单元(a2)的聚合物的至少一个的聚合物；光酸产生剂；以及溶剂；并且聚合物成分中，包括结构单元(a1)以及结构单元(a2)的聚合物、包括结构单元(a1)的聚合物以及包括结构单元(a2)的聚合物的至少一种中，包含至少一种(a4)具有嵌段异氰酸酯基的结构单元，或者包含至少一种包括结构单元(a4)且不含结构单元(a1)以及结构单元(a2)的聚合物。
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公开(公告)号：CN104395825A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201380033027.4
申请日：2013-06-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C07C309/09 , C07C381/12 , C08F220/18 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
CPC classification number: G03F7/004 , C08F220/26 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325
Abstract: 所提供的是一种形成图案的方法，所述方法包括：形成包含光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物的膜，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含含有下列通式(I)的重复单元中的任一个的树脂(A)，所述树脂在酸的作用下降低其在包含有机溶剂的显影液中的溶解性，以及通过下列通式(B-1)至(B-3)中的任一个表示的化合物(B)，所述化合物当暴露于光化射线或辐射时产生酸；将所述膜暴露于光化射线或辐射；以及用包含有机溶剂的显影液将经曝光的膜显影从而获得负型图案。
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公开(公告)号：CN102741748A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201180007857.0
申请日：2011-12-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C381/12 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，其具有优异的灵敏度、粗糙度特性和曝光宽容度，以及一种使用其形成图案的方法。所述组合物包含(A)当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中溶解度的树脂，以及(B)当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸的化合物，所述化合物为下述通式(1-1)的任何化合物。
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