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公开(公告)号：CN114144879A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202080052644.9
申请日：2020-06-23
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Inventor： 寺崎伸幸
IPC: H01L23/498 , H01L23/15 , H01L21/48 , H05K1/05 , H05K3/00
Abstract: 一种铜‑陶瓷接合体(10)，通过接合由铜或铜合金构成的铜部件(12)和由含氧陶瓷构成的陶瓷部件(11)而成，在铜部件(12)与陶瓷部件(11)之间，在陶瓷部件(11)侧形成有氧化镁层(41)，在与氧化镁层(41)接触的铜层(45)的内部分散有活性金属氧化物相，该活性金属氧化物相由选自Ti、Zr、Nb和Hf中的一种或两种以上的活性金属的氧化物形成。
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公开(公告)号：CN114121392A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202111598829.2
申请日：2019-01-15
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明涉及热敏电阻元件及其制造方法。该热敏电阻元件具备：热敏电阻基体，由热敏电阻材料形成；导电性中间层，形成于热敏电阻基体上；及电极层，形成于导电性中间层上，导电性中间层是相互接触的RuO2粒子沿着热敏电阻基体的表面的凹凸均匀地分布并且在RuO2粒子的间隙夹杂有SiO2的层，且以沿着热敏电阻基体的表面的凹凸而粘附于热敏电阻基体的状态形成。
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公开(公告)号：CN114008227A
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN202080043722.9
申请日：2020-03-16
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明的易切削性铜合金含有Cu：多于57.5％且少于64.5％、Si：多于0.20％且少于1.20％、Pb：多于0.001％且少于0.20％、Bi：多于0.10％且少于1.00％、及P：多于0.001％且少于0.20％，剩余部分由Zn及不可避免的杂质构成，Fe、Mn、Co、Cr的总量少于0.45％，Sn、Al的总量少于0.45％，且具有56.3≤f1＝[Cu]‑4.8×[Si]+0.5×[Pb]+0.5×[Bi]‑0.5×[P]≤59.5和0.12≤f2＝[Pb]+[Bi]＜1.0的关系，金相组织的构成相具有20≤f3＝(α)≤85、15≤f4＝(β)≤80、0≤f5＝(γ)＜4、8.5≤f6＝([Bi]+[Pb])1/2×10+[P]1/2×6+(β)1/2×[Si]1/2×0.8+(γ)1/2×0.5≤18.0、0.45≤f7＝(([Bi]+[Pb])1/2‑0.05)×((β)1/2‑3)×([Si]1/2‑0.2))≤3.6的关系，α相内存在以Bi为主成分的粒子。
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公开(公告)号：CN110072814B
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN201880005107.1
申请日：2018-01-26
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 该金属氧化物微粒的制造方法具有如下工序：混合CnH2nO2(n＝5～14)脂肪酸与由选自Zn、In、Sn及Sb中的两种以上金属元素的金属、金属氧化物或金属氢氧化物构成的金属源而得到混合物；以所述脂肪酸的熔融温度以上且小于分解温度的温度加热所述混合物而得到作为金属氧化物微粒的前体的金属皂；及通过以所述前体的熔融温度以上且小于分解温度的温度加热所述前体而得到平均粒径为80nm以下的金属氧化物微粒。
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公开(公告)号：CN108701749B
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN201780011454.0
申请日：2017-02-22
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Inventor： 中田嘉信
Abstract: 本发明的镁系热电转换材料的制造方法具备：原料形成工序，相对于镁系化合物在0.5摩尔％以上且13.0摩尔％以下的范围内添加硅氧化物，形成烧结原料；及烧结工序，一边以10MPa以上的加压力对所述烧结原料进行加压，一边在750℃以上且950℃以下的温度范围内进行加热，从而形成烧结体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111788320B
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN201980015759.8
申请日：2019-03-28
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 该电子电气设备用铜合金以质量％计包含Mg：0.15％以上且小于0.35％及P：0.0005％以上且小于0.01％，剩余部分由Cu及不可避免的杂质构成，Mg的含量〔Mg〕与P的含量〔P〕以质量比计满足〔Mg〕+20×〔P〕＜0.5的关系，不可避免的杂质中，H量为10质量ppm以下，O量为100质量ppm以下，S量为50质量ppm以下，C量为10质量ppm以下，晶界三重点的三个晶界全部为特殊晶界的J3与所有晶界三重点的比例NFJ3及晶界三重点的两个晶界为特殊晶界且一个晶界为随机晶界的J2与所有晶界三重点的比例NFJ2满足0.20＜(NFJ2/(1‑NFJ3))0.5≤0.45。
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公开(公告)号：CN113748073A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202080032024.9
申请日：2020-06-22
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 一种家畜运输用容器(10)，其在容纳并运输家畜时被使用，所述家畜运输用容器的特征在于，在容纳家畜的容纳室(11)的内表面的至少一部分配设有由铜或铜合金构成的铜层(20)。优选铜层(20)配设成占容纳室(11)的内表面总面积的10％以上的面积。
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公开(公告)号：CN113631307A
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202080023162.0
申请日：2020-03-25
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明的硬质烧结体用基材(1)，其为具有中心轴(C)并在中心轴(C)的轴向上延伸的多级柱状硬质烧结体用基材(1)，所述硬质烧结体用基材(1)具备：小径部(2)；大径部(3)，外径大于小径部(2)；基材端面(4)，位于大径部(3)的外周面的轴向一侧的端部与小径部(2)的轴向另一侧的端部之间，并且朝向轴向一侧；及第1倾斜部(6)，在大径部(3)的外周面与基材端面(4)连接的环状角部(5)中配置于圆周方向的至少一部分，第1倾斜部(6)随着趋向轴向一侧而位于径向内侧。
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公开(公告)号：CN110678582B
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN201880035087.2
申请日：2018-06-01
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: C25C1/12
Abstract: 本发明的高纯度电解铜的制造方法的特征在于，将含有疏水基团的芳香族环和亲水基团的聚氧化烯基的第一添加剂(A)、由聚乙烯醇类构成的第二添加剂(B)及由四唑类构成的第三添加剂(C)添加到铜电解液中，并控制第一添加剂(A)、第二添加剂(B)及第三添加剂(C)的各浓度以及电流密度和浴温以进行铜电解，由此制造如下的电解铜：Ag浓度小于0.2质量ppm、S浓度小于0.07质量ppm以及总杂质浓度小于0.2质量ppm，并且晶粒内平均取向差(称为GOS值)超过2.5°的晶粒以面积比率计为10％以下。
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公开(公告)号：CN113490566A
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN202080016934.8
申请日：2020-03-18
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Inventor： 臼井正洋
Abstract: 在该可转位刀片式钻头中，在钻头主体(1)的刀片安装座(6)以能够装卸的方式安装形成有切削刃(14)的切削刀片(10)。在刀片安装座(6)形成有朝向钻头主体(1)的前端侧的底面(6a)和向前端侧延伸并朝向钻头旋转方向(T)的壁面(6b)。在切削刀片(10)形成有：落座面(15)，朝向钻头主体(1)的后端侧并落座于底面(6a)；抵接面(16)，朝向与钻头旋转方向(T)相反的一侧并与壁面(6b)抵接；凸部(17)，在抵接面(16)的前端侧向与钻头旋转方向(T)相反的一侧突出；及安装孔，从前端后刀面(12)贯穿到落座面(15)。
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