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公开(公告)号：CN106019862A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610186764.3
申请日：2016-03-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种抑制迁移或基板、布线的表面氧化的效果优异的光刻用显影液及抗蚀图案形成方法。本发明的解决手段为一种光刻用显影液，所述光刻用显影液含有(A)下述通式(1)表示的咪唑化合物和(B)水及/或有机溶剂。式(1)中，R1为氢原子或烷基，R2为可以具有取代基的芳香族基，R3为可以具有取代基的亚烷基，R4各自独立地为卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n为0～3的整数。
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公开(公告)号：CN106019841A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610193289.2
申请日：2016-03-30
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种利用低曝光量可形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物、使用了该负型感光性树脂组合物的图案形成方法、使用该负型感光性树脂组合物形成的固化膜、绝缘膜及滤色器、以及具有该固化膜、绝缘膜或滤色器的显示装置。本发明的解决手段为含有下述式(1)表示的化合物的负型感光性树脂组合物。式(1)中，R1为氢原子或烷基，R2为可以具有取代基的芳香族基，R3为可以具有取代基的亚烷基，R4各自独立地为卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n为0～3的整数。
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公开(公告)号：CN104885009A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201380068780.7
申请日：2013-12-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/038 , C08K5/33 , C08K5/3445 , C08L79/08 , G03F7/004 , H01L21/027 , C07C323/47 , C07D209/86 , C07D233/60
Abstract: 本发明提供即使在低温下的热处理也供给耐热性优异、介电常数低的聚酰亚胺树脂的能量敏感树脂组合物、使用上述能量敏感树脂组合物的聚酰亚胺膜或聚酰亚胺成形体的制造方法、和使用上述能量敏感树脂组合物的图案形成方法。本发明所涉及的能量敏感树脂组合物含有使四羧酸二酐与二胺反应而得的聚酰胺酸、溶剂、和通过光和/或热的作用进行分解而产生碱和/或酸的化合物(A)。本发明所涉及的聚酰亚胺膜或聚酰亚胺成形体的制造方法包括：形成包含上述组合物的涂膜或成形体，通过曝光或加热将上述涂膜或成形体中的化合物(A)分解。本发明所涉及的图案形成方法包括：形成包含上述组合物的涂膜或成形体，选择性曝光，在曝光后显影，在显影后加热。
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公开(公告)号：CN104737074A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380055257.0
申请日：2013-10-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供包含聚酰亚胺树脂的正型感光性树脂组合物，其能够通过光刻法良好地形成图案，可赋予耐热性优异的图案。另外，提供使用上述正型感光性树脂组合物的聚酰亚胺树脂图案的形成方法。另外还提供由上述聚酰亚胺树脂图案的形成方法形成的、图案化后的聚酰亚胺树脂膜。在感光性树脂组合物中配合(A)聚酰亚胺树脂和(B)通过光的作用生成特定结构的咪唑化合物的化合物。
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公开(公告)号：CN104102091A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201410138096.8
申请日：2014-04-08
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够形成透明性优异且介电常数高的透明绝缘膜的透明绝缘膜形成用组合物、使用该透明绝缘膜形成用组合物而得到的透明绝缘膜、以及具备该透明绝缘膜的显示装置。在该透明绝缘膜形成用组合物中配合选自基态在4f轨道或5d轨道收容电子的元素的单质、氧化物、螯合化合物、盐及合金中的1种以上作为填充材料。作为透明绝缘膜形成用组合物，优选：含有(A)填充材料、(B1)具有含脂环式环氧基的基团的化合物及(C)产酸剂的组合物；或者含有(A)填充材料及(B2)树脂且(B2)树脂为选自硅酮树脂、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚醚、聚硫醚及具有烯属不饱和双键的单体的聚合物中的1种以上的组合物。
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公开(公告)号：CN110249004B
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN201880010102.8
申请日：2018-01-31
Applicant: 东京应化工业株式会社 , JXTG能源株式会社
IPC: C08L79/08 , C08G73/10 , C08K5/3445
Abstract: 本发明提供：能提供透明性优异、抗拉强度等机械特性良好且包含脂环式聚酰亚胺树脂的膜的聚酰亚胺前体组合物；使用了该聚酰亚胺前体组合物的聚酰亚胺膜的制造方法；和透明性优异、抗拉强度等机械特性良好且包含脂环式聚酰亚胺树脂的永久膜。使用下述聚酰亚胺前体组合物，所述聚酰亚胺前体组合物配合有：选自包含规定结构的二胺化合物和规定结构的脂环式四羧酸二酐的单体成分、及包含规定结构的脂环式骨架的聚酰胺酸中的树脂前体成分(B)；规定结构的咪唑化合物(A)；和溶剂(S)。
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公开(公告)号：CN114746808A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202080083036.4
申请日：2020-11-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供能形成具备高透明性的固化物的感光性组合物、该感光性组合物的固化物、和使用前述感光性组合物的固化物的制造方法。在包含具有光聚合性的基材成分(A)、和光聚合引发剂(B)的感光性组合物中，将作为光聚合引发剂(B)的氧化膦化合物(B1)和肟酯化合物(B2)以相对于氧化膦化合物(B1)的质量W1与肟酯化合物(B2)的质量W2的合计而言肟酯化合物(B2)的质量W2的质量比率为35质量％以上的方式组合而使用。
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公开(公告)号：CN114644858A
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202111265466.0
申请日：2021-10-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09D17/00 , C09D11/037
Abstract: 本发明涉及颜料分散液、着色组合物、及颜料的分散方法。本发明提供颜料分散液，所述颜料分散液含有经良好分散的颜料、并且提供能够形成耐热性优异的着色成型体的着色组合物。另外，目的在于提供一种着色组合物，所述着色组合物提供耐热性优异的着色成型体。此外，目的在于提供能够使颜料在短时间内良好且稳定地分散、能够制备下述颜料分散液的颜料的分散方法，所述颜料分散液提供能够形成耐热性优异的着色成型体的着色组合物。颜料分散液中，使用下述聚酰胺酸而使颜料分散在非质子性极性溶剂中，所述聚酰胺酸包含来自特定结构的芳香族二胺的部分骨架、和来自特定结构的脂环式四羧酸二酐的部分骨架中的至少一者。
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公开(公告)号：CN113264856A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202110562785.1
申请日：2015-09-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C07C321/30 , G03F7/004
Abstract: 本申请涉及锍盐、光产酸剂及感光性组合物。本发明提供对活性能量射线的敏感度高的新型锍盐、由该锍盐形成的光产酸剂、及含有该光产酸剂的感光性组合物。本发明涉及的锍盐由式(a1)表示。式中，R1和R2独立地表示可被卤素原子取代的烷基或式(a2)表示的基团，R1和R2可相互键合并与式中的硫原子共同形成环，R3表示式(a3)表示的基团或式(a4)表示的基团，A1表示S等，X‑表示1价的阴离子，其中，R1和R2不会同时为可被卤素原子取代的烷基。式(a2)～(a4)中，环Z1表示芳香族烃环，R4、R6、R9、和R10表示特定的1价基团，R5、R7、和R8表示特定的2价基团，A2及A3表示S等，m1表示0以上的整数，n1和n2表示0或1。
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公开(公告)号：CN107540617B
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN201710787383.5
申请日：2015-08-27
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社大赛璐
IPC: C07D233/60
Abstract: 本申请涉及咪唑化合物、金属表面处理液、金属的表面处理方法、及层合体的制造方法。本发明提供：新型的咪唑化合物，所述咪唑化合物可提供对迁移、布线表面的氧化具有优异抑制效果的表面处理液；含有该咪唑化合物的金属表面处理液；使用该金属表面处理液的金属的表面处理方法、及使用该表面处理液的层合体的制造方法。本发明使用含有特定结构的饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的表面处理液对金属进行表面处理，所述饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的规定位置被规定结构的芳香族基团和可具有取代基的咪唑基取代。
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