-
公开(公告)号：CN105189431B
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201480018921.9
申请日：2014-03-28
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社大赛璐
IPC: C07C43/215 , C07C43/23 , C07C69/54 , C07C309/66 , C08F16/12 , C08F16/32 , G03F7/027
CPC classification number: C07C43/215 , C07C41/22 , C07C41/24 , C07C43/225 , C07C43/23 , C07C57/50 , C07C67/14 , C07C69/54 , C07C303/30 , C07C309/66 , C07C2603/18 , G03F7/027
Abstract: 提供新型的含乙烯基的芴系化合物及其制造方法、包含所述化合物的聚合性单体和交联剂、含离去基团的芴系化合物、含单乙烯基的芴系化合物及其制造方法、含单乙烯基和单(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物、以及含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物及其制造方法。本发明所涉及的含乙烯基的芴系化合物如式(1)所示(式中，W1和W2是式(2)所示基团、式(4)所示基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，R3a和R3b是氰基、卤素原子或一价烃基，n1和n2是0～4的整数。式(2)和(4)中，环Z是芳香族烃环，X是单键或以‑S‑表示的基团，R1是单键或碳原子数1～4的亚烷基，R2是一价烃基等特定取代基，m是0以上的整数)。
-
公开(公告)号：CN107540617B
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN201710787383.5
申请日：2015-08-27
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社大赛璐
IPC: C07D233/60
Abstract: 本申请涉及咪唑化合物、金属表面处理液、金属的表面处理方法、及层合体的制造方法。本发明提供：新型的咪唑化合物，所述咪唑化合物可提供对迁移、布线表面的氧化具有优异抑制效果的表面处理液；含有该咪唑化合物的金属表面处理液；使用该金属表面处理液的金属的表面处理方法、及使用该表面处理液的层合体的制造方法。本发明使用含有特定结构的饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的表面处理液对金属进行表面处理，所述饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的规定位置被规定结构的芳香族基团和可具有取代基的咪唑基取代。
-
公开(公告)号：CN108863732A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810783236.5
申请日：2014-03-28
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社大赛璐
IPC: C07C43/215 , C07C39/14 , C07C43/225 , C07C309/66 , C07C69/54 , C07C41/24 , C07C57/50 , C07C41/22 , C07C303/30 , G03F7/027 , C07C43/23 , C07C67/14
CPC classification number: C07C43/215 , C07C41/22 , C07C41/24 , C07C43/225 , C07C43/23 , C07C57/50 , C07C67/14 , C07C69/54 , C07C303/30 , C07C309/66 , C07C2603/18 , G03F7/027
Abstract: 提供新型的含乙烯基的芴系化合物及其制造方法、包含所述化合物的聚合性单体和交联剂、含离去基团的芴系化合物、含单乙烯基的芴系化合物及其制造方法、含单乙烯基和单(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物、以及含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物及其制造方法。本发明所涉及的含乙烯基的芴系化合物如式(1)所示(式中，W1和W2是式(2)所示基团、式(4)所示基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，R3a和R3b是氰基、卤素原子或一价烃基，n1和n2是0～4的整数。式(2)和(4)中，环Z是芳香族烃环，X是单键或以－S－表示的基团，R1是单键或碳原子数1～4的亚烷基，R2是一价烃基等特定取代基，m是0以上的整数)。
-
公开(公告)号：CN103764625B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201280040595.2
申请日：2012-06-15
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社大赛璐
IPC: C07C235/34 , C07C235/38 , C07D233/60 , C07D295/18 , C09K3/00 , G02B5/20 , G03F7/004 , G03F7/085
CPC classification number: G03F7/085 , C07C231/02 , C07C235/34 , C07C235/38 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供适合用于得到能够以低曝光量形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物的新型化合物。本发明的化合物以下述式（1）表示。式中，R1和R2分别独立地表示氢原子或有机基团，R1和R2中的至少一方表示有机基团。对于R1和R2，它们可以键合而形成环状结构，也可以包含杂原子的键。R3表示单键或有机基团。R4～R9分别独立地表示氢原子、有机基团等，但是，R6和R7不为羟基。R10表示氢原子或有机基团。
-
公开(公告)号：CN105189431A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201480018921.9
申请日：2014-03-28
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社大赛璐
IPC: C07C43/215 , C07C43/23 , C07C69/54 , C07C309/66 , C08F16/12 , C08F16/32 , G03F7/027
CPC classification number: C07C43/215 , C07C41/22 , C07C41/24 , C07C43/225 , C07C43/23 , C07C57/50 , C07C67/14 , C07C69/54 , C07C303/30 , C07C309/66 , C07C2603/18 , G03F7/027
Abstract: 提供新型的含乙烯基的芴系化合物及其制造方法、包含所述化合物的聚合性单体和交联剂、含离去基团的芴系化合物、含单乙烯基的芴系化合物及其制造方法、含单乙烯基和单(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物、以及含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物及其制造方法。本发明所涉及的含乙烯基的芴系化合物如式(1)所示(式中，W1和W2是式(2)所示基团、式(4)所示基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，R3a和R3b是氰基、卤素原子或一价烃基，n1和n2是0～4的整数。式(2)和(4)中，环Z是芳香族烃环，X是单键或以-S-表示的基团，R1是单键或碳原子数1～4的亚烷基，R2是一价烃基等特定取代基，m是0以上的整数)。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103764625A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201280040595.2
申请日：2012-06-15
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社大赛璐
IPC: C07C235/34 , C07C235/38 , C07D233/60 , C07D295/18 , C09K3/00 , G02B5/20 , G03F7/004 , G03F7/085
CPC classification number: G03F7/085 , C07C231/02 , C07C235/34 , C07C235/38 , G03F7/0045 , G03F7/031
Abstract: 本发明提供适合用于得到能够以低曝光量形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物的新型化合物。本发明的化合物以下述式（1）表示。式中，R1和R2分别独立地表示氢原子或有机基团，R1和R2中的至少一方表示有机基团。对于R1和R2，它们可以键合而形成环状结构，也可以包含杂原子的键。R3表示单键或有机基团。R4～R9分别独立地表示氢原子、有机基团等，但是，R6和R7不为羟基。R10表示氢原子或有机基团。
-
公开(公告)号：CN106687447B
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201580046344.9
申请日：2015-08-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供：新型的咪唑化合物，所述咪唑化合物可提供对迁移、布线表面的氧化具有优异抑制效果的表面处理液；含有该咪唑化合物的金属表面处理液；使用该金属表面处理液的金属的表面处理方法、及使用该表面处理液的层合体的制造方法。本发明使用含有特定结构的饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的表面处理液对金属进行表面处理，所述饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的规定位置被规定结构的芳香族基团和可具有取代基的咪唑基取代。
-
公开(公告)号：CN107540617A
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201710787383.5
申请日：2015-08-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C07D233/60
Abstract: 本申请涉及咪唑化合物、金属表面处理液、金属的表面处理方法、及层合体的制造方法。本发明提供：新型的咪唑化合物，所述咪唑化合物可提供对迁移、布线表面的氧化具有优异抑制效果的表面处理液；含有该咪唑化合物的金属表面处理液；使用该金属表面处理液的金属的表面处理方法、及使用该表面处理液的层合体的制造方法。本发明使用含有特定结构的饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的表面处理液对金属进行表面处理，所述饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的规定位置被规定结构的芳香族基团和可具有取代基的咪唑基取代。
-
公开(公告)号：CN106687447A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201580046344.9
申请日：2015-08-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供：新型的咪唑化合物，所述咪唑化合物可提供对迁移、布线表面的氧化具有优异抑制效果的表面处理液；含有该咪唑化合物的金属表面处理液；使用该金属表面处理液的金属的表面处理方法、及使用该表面处理液的层合体的制造方法。本发明使用含有特定结构的饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的表面处理液对金属进行表面处理，所述饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的规定位置被规定结构的芳香族基团和可具有取代基的咪唑基取代。
-
公开(公告)号：CN115397803A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202180028713.7
申请日：2021-04-15
Applicant: 国立大学法人东京大学 , 株式会社大赛璐
IPC: C07C211/56 , C08G61/12 , H01B1/12
Abstract: 本发明提供一种能形成具有高导电性的导体材料的掺杂剂。本公开涉及一种包含下述式(1)所示的自由基阳离子和抗衡阴离子的掺杂剂。下述式(1)中，R1～R3相同或不同，表示一价芳香族基团或下述式(r)所示的基团。需要说明的是，R1～R3中的至少一个为下述式(r)所示的基团。n表示自由基阳离子的价数，等于式中的氮原子的个数(n)。下述式(r)中，Ar1、Ar2、Ar3相同或不同，表示二价芳香族基团，Ar4、Ar5、Ar6、Ar7相同或不同，表示任选地具有下述式(sb)所示的取代基的一价芳香族基团。m、n相同或不同，表示0以上的整数。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
52
records
(took 0.04 seconds)
