公开(公告)号：CN111108099B

公开(公告)日：2023-09-29

申请号：CN201880061422.6

申请日：2018-09-26

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  株式会社大赛璐

Inventor： 野田国宏 ,  千坂博树 ,  铃木一生 ,  引田二郎 ,  盐田大 ,  花野贵江子 ,  石田恭平 ,  渡边努 ,  上原和浩

IPC: C07D233/60 ,  C08G59/52

Abstract: 提供适合用作环氧固化催化剂的新型化合物、使用了该化合物的环氧固化催化剂、以及该化合物的制造方法。提供由下述式(1)表示的化合物。下述式(1)中，Xm+表示m价的抗衡阳离子，R1表示可具有取代基的芳香族基团，R2表示可具有取代基的亚烷基，R3表示卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸酯基、膦基、氧膦基、膦酸酯基、或有机基团，m表示1以上的整数，n表示0以上且3以下的整数，R2可与R1进行键合而形成环状结构。#imgabs0#

公开(公告)号：CN105189431B

公开(公告)日：2018-08-10

申请号：CN201480018921.9

申请日：2014-03-28

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  株式会社大赛璐

Inventor： 盐田大 ,  野田国宏 ,  千坂博树 ,  赤井泰之 ,  高濑一郎 ,  楢崎美也 ,  谷田大辅 ,  北尾久平

IPC: C07C43/215 ,  C07C43/23 ,  C07C69/54 ,  C07C309/66 ,  C08F16/12 ,  C08F16/32 ,  G03F7/027

CPC classification number: C07C43/215 ,  C07C41/22 ,  C07C41/24 ,  C07C43/225 ,  C07C43/23 ,  C07C57/50 ,  C07C67/14 ,  C07C69/54 ,  C07C303/30 ,  C07C309/66 ,  C07C2603/18 ,  G03F7/027

Abstract: 提供新型的含乙烯基的芴系化合物及其制造方法、包含所述化合物的聚合性单体和交联剂、含离去基团的芴系化合物、含单乙烯基的芴系化合物及其制造方法、含单乙烯基和单(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物、以及含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物及其制造方法。本发明所涉及的含乙烯基的芴系化合物如式(1)所示(式中，W1和W2是式(2)所示基团、式(4)所示基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，R3a和R3b是氰基、卤素原子或一价烃基，n1和n2是0～4的整数。式(2)和(4)中，环Z是芳香族烃环，X是单键或以‑S‑表示的基团，R1是单键或碳原子数1～4的亚烷基，R2是一价烃基等特定取代基，m是0以上的整数)。

公开(公告)号：CN107540617B

公开(公告)日：2020-12-18

申请号：CN201710787383.5

申请日：2015-08-27

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  株式会社大赛璐

Inventor： 石川达郎 ,  野田国宏 ,  大内康秀 ,  千坂博树 ,  盐田大 ,  前田幸嗣 ,  井本隆文 ,  藤田浩平 ,  赤井泰之

IPC: C07D233/60

Abstract: 本申请涉及咪唑化合物、金属表面处理液、金属的表面处理方法、及层合体的制造方法。本发明提供：新型的咪唑化合物，所述咪唑化合物可提供对迁移、布线表面的氧化具有优异抑制效果的表面处理液；含有该咪唑化合物的金属表面处理液；使用该金属表面处理液的金属的表面处理方法、及使用该表面处理液的层合体的制造方法。本发明使用含有特定结构的饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的表面处理液对金属进行表面处理，所述饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯的规定位置被规定结构的芳香族基团和可具有取代基的咪唑基取代。

公开(公告)号：CN111108099A

公开(公告)日：2020-05-05

申请号：CN201880061422.6

申请日：2018-09-26

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  株式会社大赛璐

Inventor： 野田国宏 ,  千坂博树 ,  铃木一生 ,  引田二郎 ,  盐田大 ,  花野贵江子 ,  石田恭平 ,  渡边努 ,  上原和浩

IPC: C07D233/60 ,  C08G59/52

Abstract: 提供适合用作环氧固化催化剂的新型化合物、使用了该化合物的环氧固化催化剂、以及该化合物的制造方法。提供由下述式(1)表示的化合物。下述式(1)中，Xm+表示m价的抗衡阳离子，R1表示可具有取代基的芳香族基团，R2表示可具有取代基的亚烷基，R3表示卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸酯基、膦基、氧膦基、膦酸酯基、或有机基团，m表示1以上的整数，n表示0以上且3以下的整数，R2可与R1进行键合而形成环状结构。

公开(公告)号：CN108863732A

公开(公告)日：2018-11-23

申请号：CN201810783236.5

申请日：2014-03-28

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  株式会社大赛璐

Inventor： 盐田大 ,  野田国宏 ,  千坂博树 ,  赤井泰之 ,  高濑一郎 ,  楢崎美也 ,  谷田大辅 ,  北尾久平

IPC: C07C43/215 ,  C07C39/14 ,  C07C43/225 ,  C07C309/66 ,  C07C69/54 ,  C07C41/24 ,  C07C57/50 ,  C07C41/22 ,  C07C303/30 ,  G03F7/027 ,  C07C43/23 ,  C07C67/14

CPC classification number: C07C43/215 ,  C07C41/22 ,  C07C41/24 ,  C07C43/225 ,  C07C43/23 ,  C07C57/50 ,  C07C67/14 ,  C07C69/54 ,  C07C303/30 ,  C07C309/66 ,  C07C2603/18 ,  G03F7/027

Abstract: 提供新型的含乙烯基的芴系化合物及其制造方法、包含所述化合物的聚合性单体和交联剂、含离去基团的芴系化合物、含单乙烯基的芴系化合物及其制造方法、含单乙烯基和单(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物、以及含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物及其制造方法。本发明所涉及的含乙烯基的芴系化合物如式(1)所示(式中，W1和W2是式(2)所示基团、式(4)所示基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，R3a和R3b是氰基、卤素原子或一价烃基，n1和n2是0～4的整数。式(2)和(4)中，环Z是芳香族烃环，X是单键或以－S－表示的基团，R1是单键或碳原子数1～4的亚烷基，R2是一价烃基等特定取代基，m是0以上的整数)。

公开(公告)号：CN103764625B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201280040595.2

申请日：2012-06-15

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  株式会社大赛璐

Inventor： 盐田大 ,  黑子麻祐美 ,  野田国宏 ,  田所惠典 ,  赤井泰之 ,  高井英行

IPC: C07C235/34 ,  C07C235/38 ,  C07D233/60 ,  C07D295/18 ,  C09K3/00 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/085

CPC classification number: G03F7/085 ,  C07C231/02 ,  C07C235/34 ,  C07C235/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/031

Abstract: 本发明提供适合用于得到能够以低曝光量形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物的新型化合物。本发明的化合物以下述式（1）表示。式中，R1和R2分别独立地表示氢原子或有机基团，R1和R2中的至少一方表示有机基团。对于R1和R2，它们可以键合而形成环状结构，也可以包含杂原子的键。R3表示单键或有机基团。R4～R9分别独立地表示氢原子、有机基团等，但是，R6和R7不为羟基。R10表示氢原子或有机基团。

公开(公告)号：CN105189431A

公开(公告)日：2015-12-23

申请号：CN201480018921.9

申请日：2014-03-28

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  株式会社大赛璐

Inventor： 盐田大 ,  野田国宏 ,  千坂博树 ,  赤井泰之 ,  高濑一郎 ,  楢崎美也 ,  谷田大辅 ,  北尾久平

IPC: C07C43/215 ,  C07C43/23 ,  C07C69/54 ,  C07C309/66 ,  C08F16/12 ,  C08F16/32 ,  G03F7/027

CPC classification number: C07C43/215 ,  C07C41/22 ,  C07C41/24 ,  C07C43/225 ,  C07C43/23 ,  C07C57/50 ,  C07C67/14 ,  C07C69/54 ,  C07C303/30 ,  C07C309/66 ,  C07C2603/18 ,  G03F7/027

Abstract: 提供新型的含乙烯基的芴系化合物及其制造方法、包含所述化合物的聚合性单体和交联剂、含离去基团的芴系化合物、含单乙烯基的芴系化合物及其制造方法、含单乙烯基和单(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物、以及含(甲基)丙烯酰氧基的芴系化合物及其制造方法。本发明所涉及的含乙烯基的芴系化合物如式(1)所示(式中，W1和W2是式(2)所示基团、式(4)所示基团、羟基或(甲基)丙烯酰氧基，R3a和R3b是氰基、卤素原子或一价烃基，n1和n2是0～4的整数。式(2)和(4)中，环Z是芳香族烃环，X是单键或以-S-表示的基团，R1是单键或碳原子数1～4的亚烷基，R2是一价烃基等特定取代基，m是0以上的整数)。

公开(公告)号：CN103764625A

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：CN201280040595.2

申请日：2012-06-15

Applicant: 东京应化工业株式会社 ,  株式会社大赛璐

Inventor： 盐田大 ,  黑子麻祐美 ,  野田国宏 ,  田所惠典 ,  赤井泰之 ,  高井英行

IPC: C07C235/34 ,  C07C235/38 ,  C07D233/60 ,  C07D295/18 ,  C09K3/00 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/085

CPC classification number: G03F7/085 ,  C07C231/02 ,  C07C235/34 ,  C07C235/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/031

Abstract: 本发明提供适合用于得到能够以低曝光量形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物的新型化合物。本发明的化合物以下述式（1）表示。式中，R1和R2分别独立地表示氢原子或有机基团，R1和R2中的至少一方表示有机基团。对于R1和R2，它们可以键合而形成环状结构，也可以包含杂原子的键。R3表示单键或有机基团。R4～R9分别独立地表示氢原子、有机基团等，但是，R6和R7不为羟基。R10表示氢原子或有机基团。

公开(公告)号：CN108375878B

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN201810085762.4

申请日：2018-01-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 染谷和也 ,  野田国宏 ,  引田二郎 ,  盐田大

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/00

Abstract: 合物固化而形成的透明绝缘膜、及具有该透明绝本发明的课题在于提供：即使含有选自由包 缘膜的显示装置。一种感光性的聚合性组合物，含特定元素的无机填料(D1)和碱性填料(D2)组 其包含选自由包含特定元素的无机填料(D1)和成的组中的1种以上的填料(D)和含聚合性基团 碱性填料(D2)组成的组中的1种以上的填料(D)、的成分、也能抑制在利用光刻法形成经图案化的 和含聚合性基团的成分，所述组合物中，含有特功能性膜时在非图案部中产生显影残渣的感光 定的含硅树脂(A)。性的聚合性组合物、使用该聚合性组合物的固化(56)对比文件Dar-Jong Lin et，.Preparation ofSilica-Filled Poly(2-hydroxymethylmethacrylate) Nanocomposites Cured byPhotoirradiation during the Sol–GelProcess《.Journal of Applied PolymerScience》.2004,第94卷第1927–1935页.

公开(公告)号：CN111217946B

公开(公告)日：2022-12-06

申请号：CN202010079635.0

申请日：2014-03-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 盐田大 ,  野田国宏 ,  千坂博树

IPC: C08F16/32 ,  C08F16/30 ,  C08F16/24 ,  C08F22/14 ,  G03F7/027

Abstract: 本发明提供一种包含新型的含有乙烯基的化合物的组合物。本发明涉及的组合物包含下述通式(1)所示的含有乙烯基的化合物。式中，W1和W2为下述通式(2)(式中，环Z为芳香族烃环、X为单键或－S－所示的基团、R1为单键或碳原子数1～4的亚烷基、R2为一价烃基等特定取代基、m为0以上的整数。)所示的基团、下述通式(4)所示的基团(式中，环Z、X、R1、R2和m如上所述。)、羟基或(甲基)丙烯酰氧基；环Y1和环Y2为芳香族烃环；R为单键或特定二价基团；R3a和R3b为氰基、卤原子或一价烃基；n1和n2为0～4的整数。