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公开(公告)号:CN106967533A
公开(公告)日:2017-07-21
申请号:CN201710354445.3
申请日:2017-05-18
申请人: 张彩萍
发明人: 张彩萍
IPC分类号: C11D7/32 , C11D7/26 , C11D7/16 , C11D7/10 , C11D7/08 , C11D7/06 , C11D3/395 , C11D3/39 , C11D7/56 , C11D7/60
CPC分类号: C11D7/3263 , C11D3/3942 , C11D3/3953 , C11D7/06 , C11D7/08 , C11D7/10 , C11D7/16 , C11D7/265 , C11D7/268
摘要: 本发明公开了一个方面,家用洗涤除垢剂,包括以下重量份的组分:过碳酸钠24份,柠檬酸10份,磷酸40份,氟化铵10份,二氯化锡10份,羟甲基纤维素2份,四乙酰乙二胺5份,氢氧化钾8份,氢氧化钠5份,苯丙酸钠5份,三聚磷酸钠6份。本发明提供的家用洗涤除垢剂,工艺简单,使用方便,可应用于织物、垃圾桶、废物桶、鱼缸、地板等物体表面,能有效去除各类污垢。
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公开(公告)号:CN106566721A
公开(公告)日:2017-04-19
申请号:CN201610911760.7
申请日:2016-10-19
申请人: 南京永明机电有限公司
发明人: 徐永明
CPC分类号: C11D7/40 , C11D7/08 , C11D7/261 , C11D7/265 , C11D7/3281
摘要: 本发明公开了一种PCB板清洗剂的制备方法,包括以下步骤:1)按照重量份数称取苯骈三氮唑50~60份、火山废料30~50份、乙醇20~30份、阳离子树脂30~40份、醋酸20~40份、甘油25~50份、甲醇35~50份、质量百分比为5~10%稀盐酸10~20份;2)将苯骈三氮唑、火山废料、乙醇、醋酸、甘油、甲醇加入质量百分比为5~10%稀盐酸中搅拌10~20min,得到溶液;3)将溶液中加入阳离子树脂搅拌加热得到PCB板清洗剂。本发明的PCB板清洗剂在清洗PCB板方面效果很好,清除率达到了95%。
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公开(公告)号:CN106434045A
公开(公告)日:2017-02-22
申请号:CN201610805867.3
申请日:2016-09-07
申请人: 芜湖德鑫汽车部件有限公司
摘要: 本发明公开了一种汽车空调清洗剂及其制备方法,其中,所述制备方法包括:将盐酸溶液、乙酸乙酯、六次甲基四胺和硫酸钠混合,制得混合液M;将甘草、樟脑、安息香和冰片磨碎后过筛,之后加入到乙醇溶液中,加热搅拌均匀,抽滤后,得到滤液N;将混合液M和滤液N混合后,既得所述汽车空调清洗剂。解决了目前的空调清洗剂不易挥发,同时使用后会产生刺激性气味的问题。
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公开(公告)号:CN106281789A
公开(公告)日:2017-01-04
申请号:CN201610654390.3
申请日:2016-08-11
申请人: 江阴江化微电子材料股份有限公司
IPC分类号: C11D7/60 , C11D7/18 , C11D7/32 , C11D7/36 , C11D7/10 , C11D7/08 , C11D7/34 , C11D7/06 , C11D7/26 , C11D1/72 , C11D3/60 , C11D3/39 , H05K3/26
CPC分类号: C11D3/3937 , C11D1/721 , C11D3/394 , C11D7/06 , C11D7/08 , C11D7/10 , C11D7/265 , C11D7/32 , C11D7/3209 , C11D7/3281 , C11D7/34 , C11D7/36 , C11D11/0047 , H05K3/26
摘要: 本发明公开了一种配线基板干刻后残渣清洗剂,其特征在于,其主要组分为H2O2、金属保护剂、双氧水稳定剂、pH 值调节剂和水,清洗剂的pH 值为5~8,金属保护剂的主要组成为有机胺类金属保护剂和有机膦类金属保护剂。本发明配线基板干刻后残渣清洗剂为弱酸弱碱体系,与现有技术中的氧化性酸和碱性体系相比,对配线的侵蚀作用较弱,尤其是对配线侧面钛层的侵蚀作用;采用有机胺类金属保护剂和有机膦类金属保护剂复配,可在配线表面形成稳定的保护膜,并且上述两种金属保护剂均具有表面活性,可优化清洗液的润湿和渗透能力,加速残渣的剥离。
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公开(公告)号:CN106118920A
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201610438257.4
申请日:2016-06-20
申请人: 苏州科斯曼照明工程有限公司
摘要: 本发明公开了一种路灯清洗剂及其制备方法,该路灯清洗剂由如下重量份的组份组成:碳酸钠20‑30份,碳酸氢钠5‑10份,丙酮8‑10份,醋酸15‑20份,硼酸5‑8份,聚乙烯磨砂颗粒10‑15份,化工增稠剂5‑8份,柠檬酸钠8‑10份,脂肪酸钠1‑3份,硫酸铜0.1‑0.3份,水40‑50份,所述的聚乙烯磨砂颗粒为100‑200目,所述的水为去离子水,所述的化工增稠剂为聚丙烯酸钠和聚乙烯醇的混合物。本发明的路灯清洗剂可以快速高效地清除路灯表面的顽固污渍,不需要使用刷子只需要使用软质棉布或者海绵,去污剂内含有的聚乙烯磨砂颗粒可以对漆面进行柔和的打磨,不管是灰尘还是有机物都可以清除干净不留死角,同时该清洗剂不含有强酸强碱,与漆面接触不会造成漆面变色。
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公开(公告)号:CN105349290A
公开(公告)日:2016-02-24
申请号:CN201510820117.9
申请日:2015-11-24
申请人: 北京华进创威电子有限公司
摘要: 本申请公开了一种锑化镓单晶抛光片腐蚀液,该腐蚀液由溶剂、氧化剂、腐蚀剂和缓冲剂按设定比例混合而成,其中,溶剂为去离子水;氧化剂为硫酸;腐蚀剂为盐酸;缓冲剂为乙酸。本申请的腐蚀液能够有效去除单晶抛光片表面在前期加工中残留的颗粒及杂质。
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公开(公告)号:CN105331465A
公开(公告)日:2016-02-17
申请号:CN201510832000.2
申请日:2015-11-25
申请人: 江阴江化微电子材料股份有限公司
摘要: 本发明公开了一种高世代平板减薄用混酸预清洗液,其组分按重量百分比计包括:50~80%重量的硫酸、5~18%重量的磷酸、0.01~2%重量的盐酸和/或可溶性氯盐、1~7%重量的硝酸和余量水;可溶性氯盐为选自氯化钠、氯化钾、氯化铵中的至少一种。本发明的高世代平板减薄用混酸预清洗液采用硫酸、磷酸、盐酸和/或可溶性氯盐、硝酸和水混合而成,由于硫酸对一些无机和有机化合物都有一定的溶解能力,能有效去除玻璃基板表面的灰尘、指纹等,并且通过调整硫酸、磷酸、硝酸、盐酸和/或可溶性氯盐的浓度,可以控制硫酸对固化胶的溶解速度。
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公开(公告)号:CN105232574A
公开(公告)日:2016-01-13
申请号:CN201510644868.X
申请日:2015-09-30
申请人: 仲恺农业工程学院
摘要: 本发明涉及食品加工技术领域,具体涉及一种酸性电解水及其制备方法和用途,其中酸性电解水是由质量浓度为0.05~0.1%的氯基电解质在阳极区电解获得的具有pH值为2.7~3.0、有效氯浓度为55~80mg/L、氧化还原电位为1150~1180mV的酸性电解水。与现有技术相比,本发明的酸性电解水在低pH、高氧化还原电位和高有效氯浓度的三者协同作用下,对食源性致病菌生物被膜,特别是抗性较强的蜡样芽孢杆菌生物被膜具有很强的杀灭效果,本发明提供了酸性电解水杀灭食源性致病菌生物被膜的新用途,可用于制备杀灭食源性致病菌生物被膜的药物组合物、食品添加剂组合物以及消毒剂或清洁剂,为食品工业中生物被膜的控制、清除提供了新的途径,进而为食品的安全性提供可靠的保障。
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公开(公告)号:CN105087184A
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201410218925.3
申请日:2014-05-22
申请人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
IPC分类号: C11D7/18 , C11D7/08 , H01L21/02 , H01L21/768
摘要: 本申请提供了一种清洗试剂、清洗半导体器件中刻蚀残留物的方法及金属互连层的制作方法。其中,该清洗试剂包括H2O、H2SO4和H2O2,其中H2O、H2SO4、H2O2的体积比为100:1.24~5:0.3~1.6。本申请还提供了一种清洗半导体器件中刻蚀残留物的方法。清洗半导体器件中刻蚀残留物的方法包括:配制本申请提供的清洗试剂;将经刻蚀形成的半导体器件与清洗试剂进行接触,清洗去除半导体器件中的刻蚀残留物。本申请提供的清洗试剂能够十分有效地去除刻蚀残留物,并且该试剂对金属层、介质层及衬底等半导体器件具有非常低的刻蚀速率,从而避免了清洗试剂对芯片的损害,提高了半导体器件的稳定性。
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