半导体用粘合膜和半导体器件

    公开(公告)号:CN109478535B

    公开(公告)日:2022-08-12

    申请号:CN201780044218.9

    申请日:2017-11-15

    Abstract: 提供了半导体用粘合膜和包括上述粘合膜的半导体器件,所述半导体用粘合膜包括:导电层,所述导电层包含选自铜、镍、钴、铁、不锈钢(SUS)和铝中的至少一种金属并且具有0.05μm或更大的厚度;以及粘合层,所述粘合层形成在所述导电层的至少一个表面上并且包含基于(甲基)丙烯酸酯的树脂、固化剂和环氧树脂。

    背面研磨带
    76.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111433306B

    公开(公告)日:2022-05-10

    申请号:CN201980006221.0

    申请日:2019-06-04

    Abstract: 本公开内容涉及背面研磨带,包括含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯树脂的聚合物树脂层,所述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯树脂包含10重量%至40重量%的源自玻璃化转变温度为0℃或更高的(甲基)丙烯酸酯单体或低聚物的重复单元,其中聚合物树脂层的玻璃化转变温度为‑30℃至0℃。本公开内容还涉及使用背面研磨带研磨晶片的方法。

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