基板支承台以及基板保持装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117912924A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202311161560.0

    申请日:2023-09-11

    摘要: 本发明提供基板支承台以及基板保持装置,能够变更支承基板的位置并且能够抑制支承基板的位置变化。配置于离子束照射装置(1)且支承被照射离子束的基板的基板支承台(10)构成为,具备支承基板的被支承面(Sb)的多个第一支承部件(20)以及能够固定第一支承部件(20)的支承体(11),在与基板被支承的状态下的被支承面(Sb)平行的一个方向(D)上,能够在规定的范围内选择第一支承部件(20)相对于支承体(11)的配置位置,第一支承部件(20)通过固定部件(25)固定于所选择的配置位置。

    离子源及其清洁方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111640639B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN201911265284.6

    申请日:2019-12-11

    IPC分类号: H01J37/08 H01J37/32

    摘要: 本发明提供一种离子源及其清洁方法,该离子源在宽范围内向电极表面照射离子束来除去电极上的沉积物。一种离子源(1),向配置在等离子体容器(2)下游的抑制电极(3)照射由清洁气体生成的离子束(IB)来清洁抑制电极(3),其中,离子源(1)具有驱动机构(5),该驱动机构(5)调整等离子体容器(2)与抑制电极(3)之间的距离,离子源(1)包括控制装置(C),该控制装置(C)在进行清洁之前,控制驱动机构(5)而使抑制电极(3)或等离子体容器(2)向第一方向移动,扩大等离子体容器(2)与抑制电极(3)之间的距离。

    离子源
    4.
    发明公开
    离子源 审中-实审

    公开(公告)号:CN117524819A

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202310745763.8

    申请日:2023-06-21

    发明人: 西村一平

    IPC分类号: H01J37/08

    摘要: 本发明提供一种离子源,能够容易地进行维护作业。离子源(10)具备从内部引出离子束的容器(11),容器(11)具备:等离子体生成部(12),在内部生成等离子体;以及电极收纳部(13),收纳用于取出离子束的电极。离子源(10)构成为,在电极收纳部(13)固定于装置主体(2)的状态下,等离子体生成部(12)能够以规定的轨道从电极收纳部(13)脱离。

    离子源
    5.
    发明公开
    离子源 审中-实审

    公开(公告)号:CN117438264A

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN202310749823.3

    申请日:2023-06-21

    发明人: 宇井利昌

    IPC分类号: H01J37/08

    摘要: 本发明提供离子源,提高离子束的引出效率。一种离子源(1A),具备:等离子体生成容器(10A),具有生成等离子体的内部空间(IS);电子发射部件(30),配置在内部空间(IS),具有发射电子的电子发射部(31);以及磁场形成单元(20A),在内部空间(IS)形成封闭磁场,从内部空间(IS)通过形成在等离子体生成容器(10A)的引出开口(12a)向一个方向(D)引出离子束(IB),磁场形成单元(20A)以从电子发射部(31)到引出开口(12a)而磁场的朝向与一个方向(D)一致的方式形成封闭磁场。

    加热装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112153761B

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202010355827.X

    申请日:2020-04-29

    摘要: 本发明提供加热装置,能够将加热器(30)插入真空腔室内并抑制由于电热丝(32)的光而端子部(33)被加热。一种加热装置,对基板(W)进行加热,具备收纳基板(W)的真空腔室(S2)以及插入真空腔室(S2)的内部的加热器(30),加热器腔室(S2)的壁部设置;电热丝(32),收纳在管状体(31)的内部,并且至少一部分配置在真空腔室(S2)内;以及端子部(33),与电热丝(32)连接,端子部(33)配置在真空腔室(S2)的外部。(30)具有:管状体(31),贯通配置基板(W)的真空

    离子束照射装置和存储离子束照射装置用程序的存储介质

    公开(公告)号:CN111739777B

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN201911140104.1

    申请日:2019-11-20

    发明人: 竹村真哉

    IPC分类号: H01J37/317

    摘要: 本发明提供离子束照射装置和存储有离子束照射装置用程序的存储介质。能够自动确定基本运转参数的适当的初始值。离子束照射装置(100)由多个模块(M)生成满足处理条件的离子束并向被处理物(W)照射,该离子束照射装置(100)包括:机器学习部(92),生成将新的处理时的处理条件和监测值至少作为说明变量的学习算法,该监测值表示该新的处理的上一次处理中的至少一个模块(M)的状态;以及基本运转参数输出部(94),使用学习算法输出控制模块(M)的动作的基本运转参数的初始值。

    离子源移动装置及离子植入装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115910730A

    公开(公告)日:2023-04-04

    申请号:CN202211020205.7

    申请日:2022-08-24

    摘要: 本发明涉及离子源移动装置及离子植入装置,目的在于能够令离子源平稳地升降,使对装置本体装卸离子源的作业的作业性提升。本发明的离子源移动装置是能对于要以在第一水平方向与装置本体对置的方式固定至装置本体且具有腔室的离子源,能够使该离子源以一边使离子源的重心升降并一边使相对于装置本体的倾斜度变化的方式移动;该离子源移动装置构成为具备:支持构件,能支持固定在腔室的外侧的第一被支持构件;可动构件,连结在支持构件;及升降机构,能一边限制可动构件往与既定的第二方向交叉的方向移动,并一边使可动构件沿第二方向升降移动。

    平面面板显示器制造装置

    公开(公告)号:CN109819570B

    公开(公告)日:2022-06-03

    申请号:CN201810825295.4

    申请日:2018-07-25

    IPC分类号: G02F1/13 H05F3/04 H01L21/265

    摘要: 本发明涉及平面面板显示器制造装置。本发明提供一种平面面板显示器制造装置,其具有适合于在高真空下进行玻璃基板的除电的除电装置。本发明的平面面板显示器制造装置具有:处理室,对于玻璃基板施行加工处理;搬送路,形成玻璃基板往处理室搬入搬出的搬入搬出路径;其中,处理室与搬送路处于真空环境下;且在构成搬送路的真空容器的外壁面连接有除电装置,该除电装置用以朝向真空容器的内侧放出用于进行玻璃基板的除电的电子。

    离子源及离子源的运转方法

    公开(公告)号:CN109559963B

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN201810725722.1

    申请日:2018-07-04

    IPC分类号: H01J37/08 H01J37/32

    摘要: 本发明涉及一种离子源和离子源的运转方法,不论灯丝的丝径为何都可谋求与灯丝更换相关的离子源的稼动损失的降低。该离子源具备有:多根灯丝;控制装置,其个别地设定供给于各灯丝的通电电流;以及电压计,其量测在各灯丝的电压;其中,控制装置从设定的电流值与量测的电压值算出各灯丝的目前的电阻值,且根据基准的电阻值与目前的电阻值的差,将供给于各灯丝的通电电流进行再设定,以使各灯丝的目前的电阻值成为基准的电阻值。