一种高密度积层电路板的制作方法

    公开(公告)号:CN115811833A

    公开(公告)日:2023-03-17

    申请号:CN202211100044.2

    申请日:2022-09-09

    IPC分类号: H05K3/00 H05K3/46

    摘要: 本发明属于PCB技术领域,提供一种高密度积层电路板的制作方法,所述外层子板制作方法包括以下步骤:S1.内层子板设置靶标;靶标个数与积层次数相同,积层次数为N,每组靶标个数为N,靶标上分别设置数字1、2、...N;S2.对位靶制作;对位靶制作可分三种方式:1.X‑ray打靶机打内层子板靶标形成靶孔做对位靶;2.激光烧蚀出内层子板靶标做对位靶;3.激光钻孔机及图形曝光机加装X‑ray,识别出内层子板靶标做对位靶;S3.激光钻孔;走棕化线棕化外层子板铜面,采用直接打铜工艺进行激光钻孔;S4.孔金属化及图形转移。本发明对比现有技术的高密度积层电路板制作方法,可有效提升层间盲孔对位精度及缩短加工流程。

    一种提高内层阻抗精度的控制方法

    公开(公告)号:CN115802608A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202211056173.6

    申请日:2022-08-30

    IPC分类号: H05K3/00 H05K3/42

    摘要: 本发明属于PCB技术领域,提供一种提高内层阻抗精度的控制方法,包括以下步骤:S1.压合前内层阻抗理论模型建立;S2.对内层阻抗理论值与实测差异值进行二次补偿;S3.内层阻抗测试;在第一次蚀刻后进行阻抗测试,若合格,则依次进行退膜、阻抗测试、压合工艺;在第一次蚀刻后进行阻抗测试,若不合格,进行第二次精准蚀刻,然后依次进行阻抗测试、退膜、压合工艺。通过本发明方法,可有效满足内层±5%高精度阻抗加工要求,解决产品在内层蚀刻过程中良率低下的问题,使产品阻抗良率由60%提升到95%以上。