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公开(公告)号：CN110075713B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN201811265066.8
申请日：2018-10-29
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供了一种用于在制造集成电路中使用的化学溶液的过滤器结构以及一种包括该过滤器结构的设备。所述过滤器结构包括：第一膜结构，包括多个膜单元，所述多个膜单元中的每个包括包含多个第一开口的阴极、包括多个第二开口的阳极以及位于阴极与阳极之间的绝缘层；以及过滤器外壳，被构造成在其中容纳第一膜结构，过滤器外壳包括化学溶液通过其引进的入口和化学溶液通过其排出的出口。第一膜结构被构造成使得当在通过入口引进的化学溶液通过第一膜结构的同时将电场施加在阴极与阳极之间时，化学溶液中的具有带正电颗粒和带负电颗粒两者的杂质被俘获在第一膜结构中。
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公开(公告)号：CN107064564B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN201710061606.X
申请日：2017-01-26
Abstract: 本发明提供了形成微图案的方法、基板表面检查装置、用于原子力显微镜的悬臂装置、分析半导体基板的表面的方法、以及探针尖端。该形成微图案的方法包括在半导体基板上形成钉扎图案；在钉扎图案之间的间隔中形成中性图案层；以及通过使用原子力显微镜(AFM)检查引导层的表面，该引导层包括钉扎图案和中性图案层。
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公开(公告)号：CN107064564A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710061606.X
申请日：2017-01-26
CPC classification number: G01Q60/28 , G01Q60/42 , H01L21/67288 , H01L27/10876 , H01L27/10885 , H01L27/10888 , H01L28/00 , G01Q60/38 , H01L22/12
Abstract: 本发明提供了形成微图案的方法、基板表面检查装置、用于原子力显微镜的悬臂装置、分析半导体基板的表面的方法、以及探针尖端。该形成微图案的方法包括在半导体基板上形成钉扎图案；在钉扎图案之间的间隔中形成中性图案层；以及通过使用原子力显微镜(AFM)检查引导层的表面，该引导层包括钉扎图案和中性图案层。
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公开(公告)号：CN101320683A
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200810142886.8
申请日：2008-02-05
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/28 , H01L21/768 , H01L21/3213 , G03F7/00 , G03F7/20 , G03F7/32
CPC classification number: H01L21/31133 , H01L21/32139
Abstract: 本发明提供一种再加工半导体衬底的方法和在不损伤有机抗反射涂层(ARC)的情况下使用再加工半导体衬底的方法形成半导体器件图案的方法。再加工半导体衬底的方法包括在形成有有机ARC的衬底上形成光致抗蚀剂图案。当光致抗蚀剂图案中存在缺陷时，可曝光其上形成有光致抗蚀剂图案的衬底的整个表面。整个表面曝光的光致抗蚀剂图案可通过执行不损伤有机ARC的显影工艺来移除。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106977673B
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201610831961.6
申请日：2016-09-19
Applicant: 三星电子株式会社 , 高丽大学校产学协力团
IPC: C08F293/00 , C08F220/14 , C08F212/14
Abstract: 本发明涉及嵌段共聚物以及使用其制造集成电路器件的方法。嵌段共聚物包括具有不同结构的第一聚合物嵌段和第二聚合物嵌段，且所述第一聚合物嵌段和所述第二聚合物嵌段之一具有卤素取代的结构。
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公开(公告)号：CN105939646A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201480074656.6
申请日：2014-12-02
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: A47L9/2826 , A47L5/28 , A47L5/30 , A47L9/009 , A47L9/0477 , A47L9/1683 , A47L9/26 , A47L9/2805 , A47L9/2847 , A47L9/2852 , A47L9/2857 , A47L9/322 , A47L9/325
Abstract: 本发明包括：主体；连接到主体以在至少一个轴线方向可移动的清洁工具组件；连接到主体并接收用户的力的手柄部件；设置在手柄部件中并探测施加到手柄部件上的力的大小和方向的探测部件；以及控制器，用于基于探测到的力的大小控制清洁工具组件的移动距离。结果，本发明能够减小在用户抓持竖立的吸尘器的手柄并且操作竖立的吸尘器时用户感受到的水平负载，由此改善操控性能，并且能够去除通过手柄传递的垂直负载，由此去除在执行清洁操作期间感到的疲劳并且提高便利性。
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公开(公告)号：CN110075713A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201811265066.8
申请日：2018-10-29
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供了一种用于在制造集成电路中使用的化学溶液的过滤器结构以及一种包括该过滤器结构的设备。所述过滤器结构包括：第一膜结构，包括多个膜单元，所述多个膜单元中的每个包括包含多个第一开口的阴极、包括多个第二开口的阳极以及位于阴极与阳极之间的绝缘层；以及过滤器外壳，被构造成在其中容纳第一膜结构，过滤器外壳包括化学溶液通过其引进的入口和化学溶液通过其排出的出口。第一膜结构被构造成使得当在通过入口引进的化学溶液通过第一膜结构的同时将电场施加在阴极与阳极之间时，化学溶液中的具有带正电颗粒和带负电颗粒两者的杂质被俘获在第一膜结构中。
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公开(公告)号：CN105939646B
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201480074656.6
申请日：2014-12-02
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明包括：主体；连接到主体以在至少一个轴线方向可移动的清洁工具组件；连接到主体并接收用户的力的手柄部件；设置在手柄部件中并探测施加到手柄部件上的力的大小和方向的探测部件；以及控制器，用于基于探测到的力的大小控制清洁工具组件的移动距离。结果，本发明能够减小在用户抓持竖立的吸尘器的手柄并且操作竖立的吸尘器时用户感受到的水平负载，由此改善操控性能，并且能够去除通过手柄传递的垂直负载，由此去除在执行清洁操作期间感到的疲劳并且提高便利性。
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公开(公告)号：CN106977673A
公开(公告)日：2017-07-25
申请号：CN201610831961.6
申请日：2016-09-19
Applicant: 三星电子株式会社 , 高丽大学校产学协力团
IPC: C08F293/00 , C08F220/14 , C08F212/14
CPC classification number: C08F293/005 , B82Y40/00 , C08F12/20 , C08F2438/03 , G03F7/0002 , H01L21/0271 , C08F212/14 , C08F220/14
Abstract: 本发明涉及嵌段共聚物以及使用其制造集成电路器件的方法。嵌段共聚物包括具有不同结构的第一聚合物嵌段和第二聚合物嵌段，且所述第一聚合物嵌段和所述第二聚合物嵌段之一具有卤素取代的结构。
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