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公开(公告)号:CN112400138A
公开(公告)日:2021-02-23
申请号:CN201980041635.7
申请日:2019-06-24
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C08F2/48 , C08F4/04 , C08F4/38 , C08F22/40 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/027 , C08F220/28
Abstract: 本发明的课题在于,提供:可应用湿式工艺、对用于形成耐热性、耐蚀刻性、向台阶基板的埋入特性及膜的平坦性优异的光致抗蚀剂下层膜有用的光刻用膜形成材料等。前述课题可以通过含有具有下述式(0)的基团的化合物的光刻用膜形成材料而解决。
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公开(公告)号:CN102770490A
公开(公告)日:2012-11-07
申请号:CN201080054662.7
申请日:2010-11-26
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08L67/02 , C08K3/22 , C08K3/34 , C08L101/00
CPC classification number: C08L67/02 , C08K3/22 , C08K3/346 , C08K2003/2241 , C08L23/00 , C08L25/12 , C08L31/04 , C08L2666/06 , C08L2666/04
Abstract: 本发明涉及一种使用了聚丙烯树脂等特定的改性材的成型材料及其成型品,所述成型材料含有减振材料(α)和用于改善流动性的改性材(β),所述减振材料(α)由在包含二元羧酸成分结构单元和二元醇成分结构单元的聚酯树脂(X)中分散有二氧化钛(Y)和云母鳞片(Z)的树脂组合物形成,(1)相对于聚酯树脂(X)的全部二元羧酸成分结构单元数(A0)和全部二元醇成分结构单元数(B0)的总量,主链中的碳原子数为奇数的二元羧酸成分结构单元数(A1)和主链中的碳原子数为奇数的二元醇成分结构单元数(B1)的总量的比率[(A1+B1)/(A0+B0)]为0.5~1.0的范围内,(2)减振材料(α)中的聚酯树脂(X)、二氧化钛(Y)和云母鳞片(Z)的质量比(X:Y:Z)为15~40:5~30:30~80的范围。
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公开(公告)号:CN102575026A
公开(公告)日:2012-07-11
申请号:CN201080030548.0
申请日:2010-07-05
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
CPC classification number: C08J5/18 , C08J2367/02
Abstract: 本发明提供减振薄膜,其含有树脂组合物,该树脂组合物是使二氧化钛(Y)和云母鳞片(Z)分散在由二羧酸成分结构单元与二醇成分结构单元形成的聚酯树脂(X)中而获得的,该树脂组合物应该满足所有下述条件(I)~(III),通过将厚度设定在20~200μm的范围,可容易地制造,质轻,发挥优异的减振性,且通用性高。(I)树脂组合物中的聚酯树脂(X)、二氧化钛(Y)和云母鳞片(Z)的含量分别在35~60质量%的范围、5~15质量%的范围和30~55质量%的范围。(II)树脂组合物中的云母鳞片(Z)的平均粒径在5~80μm的范围。(III)根据JISK7127测定的树脂组合物的断裂伸长率在30~70%的范围。
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