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公开(公告)号:CN111655664A
公开(公告)日:2020-09-11
申请号:CN201980010191.0
申请日:2019-02-12
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C67/14 , C07C69/753 , C07B61/00
Abstract: 本发明的三环[5.2.1.02,6]癸烷-2-羧酸酯的制造方法为在酸催化剂的存在下,使含有三环[5.2.1.02,6]癸-3-烯的稀释液中的前述三环[5.2.1.02,6]癸-3-烯与一氧化碳反应,接着与醇反应,制造三环[5.2.1.02,6]癸烷-2-羧酸酯的方法,相对于前述三环[5.2.1.02,6]癸-3-烯100质量份,前述稀释液含有三环[5.2.1.02,6]癸烷异构体混合物100质量份以上,前述三环[5.2.1.02,6]癸烷异构体混合物含有桥式-三环[5.2.1.02,6]癸烷(TCD的Endo体)和挂式-三环[5.2.1.02,6]癸烷(TCD的Exo体),其构成比(TCD的Endo体/TCD的Exo体)大于1.0。
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公开(公告)号:CN105324169A
公开(公告)日:2016-02-10
申请号:CN201480035518.7
申请日:2014-06-10
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Inventor: 杉户健
CPC classification number: B01D53/0407 , A23L3/3436 , B01D53/0415 , B01D53/261 , B01D2253/112 , B01D2253/1124 , B01D2253/20 , B01D2253/304 , B01D2257/104 , B01D2257/80 , B01J20/02 , B01J20/046 , B01J20/20 , B01J20/22 , B01J20/2805 , B01J2220/46
Abstract: 本发明提供一种收纳了用于吸收氧气等气体的吸收剂的含吸收剂容器,该含吸收剂容器为能够确保与外部之间的透气性且能够收纳因与气体反应而膨胀这样的吸收剂并且能够以直径较小或直径会变得较小这样的吸收剂不泄漏的方式收纳该吸收剂的低成本的含吸收剂容器。含吸收剂容器(1)包括:盖体(11);以及容器主体(10),其上表面的开口(20)利用盖体(11)堵塞,且内层具有纸层(50),该容器主体为有底圆筒状。盖体(11)以将外周部(11a)向上侧弯曲而使外周部(11a)与容器主体(11)的内层相接触的状态嵌入开口(20)内。容器主体(10)的上端部(10a)自盖体(11)的上方向盖体(11)侧弯曲而把持盖体(11)的外周部(11a)。
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公开(公告)号:CN119546672A
公开(公告)日:2025-02-28
申请号:CN202380048097.0
申请日:2023-06-20
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G73/10
Abstract: 一种聚酰亚胺的制造方法,其具有:工序1,使二胺溶解于有机溶剂而获得二胺溶液,在该二胺溶液中添加四羧酸二酐并混合而制成均匀的溶液;以及工序2,使前述四羧酸二酐与前述二胺缩聚;在工序1中,从四羧酸二酐的添加开始直至成为均匀的溶液为止,以前述二胺溶液不超过100℃的方式进行调整。可获得具有涂布所需的充分粘度的清漆、无色性优异的聚酰亚胺。
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公开(公告)号:CN1789985A
公开(公告)日:2006-06-21
申请号:CN200510131591.7
申请日:2005-09-29
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 本发明是一种氧检测体,它是将由阳离于表面活性剂、可逆变色性有机色素和还原剂插入到层状硅酸盐的层间的复合体形成的氧检测组合物(1)和由可逆变色性有机色素和还原剂的混合物形成的氧检测组合物(2)重叠涂布或印刷于基材上形成的,是一种耐光性和保存稳定性优异,并且相对氧浓度低时的应答性也优异的氧检测体。
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公开(公告)号:CN119403860A
公开(公告)日:2025-02-07
申请号:CN202380048096.6
申请日:2023-06-20
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G73/10
Abstract: 一种聚酰亚胺清漆的制造方法,其包括:缩聚工序,使1种以上的四羧酸二酐与1种以上的二胺化合物进行缩聚反应而得到反应产物(x);将非活性气体在有机溶剂中鼓泡而得到稀释用溶剂(y)的工序;以及稀释工序,将反应产物(x)与稀释用溶剂(y)混合而得到溶解氧浓度为0.23mg/L以下的聚酰亚胺溶液。可以得到包含溶剂可溶型的聚酰亚胺,无着色、无色性优异的清漆。
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公开(公告)号:CN119403859A
公开(公告)日:2025-02-07
申请号:CN202380048095.1
申请日:2023-06-20
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G73/10
Abstract: 一种聚酰亚胺清漆的制造方法,其中,使1种以上的四羧酸二酐与1种以上的二胺在有机溶剂中以反应温度160~220℃进行缩聚而得到反应液,通过投入稀释用溶剂,以速度4℃/分钟以上将前述反应液的温度从反应温度降低至120℃而使反应停止。根据本发明,可以提供能够得到包含溶剂可溶型的聚酰亚胺且无着色、无色性优异的清漆的聚酰亚胺清漆的制造方法。
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公开(公告)号:CN111655664B
公开(公告)日:2023-03-28
申请号:CN201980010191.0
申请日:2019-02-12
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C67/14 , C07C69/753 , C07B61/00
Abstract: 本发明的三环[5.2.1.02,6]癸烷‑2‑羧酸酯的制造方法为在酸催化剂的存在下,使含有三环[5.2.1.02,6]癸‑3‑烯的稀释液中的前述三环[5.2.1.02,6]癸‑3‑烯与一氧化碳反应,接着与醇反应,制造三环[5.2.1.02,6]癸烷‑2‑羧酸酯的方法,相对于前述三环[5.2.1.02,6]癸‑3‑烯100质量份,前述稀释液含有三环[5.2.1.02,6]癸烷异构体混合物100质量份以上,前述三环[5.2.1.02,6]癸烷异构体混合物含有桥式‑三环[5.2.1.02,6]癸烷(TCD的Endo体)和挂式‑三环[5.2.1.02,6]癸烷(TCD的Exo体),其构成比(TCD的Endo体/TCD的Exo体)大于1.0。
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公开(公告)号:CN112400138A
公开(公告)日:2021-02-23
申请号:CN201980041635.7
申请日:2019-06-24
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C08F2/48 , C08F4/04 , C08F4/38 , C08F22/40 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/027 , C08F220/28
Abstract: 本发明的课题在于,提供:可应用湿式工艺、对用于形成耐热性、耐蚀刻性、向台阶基板的埋入特性及膜的平坦性优异的光致抗蚀剂下层膜有用的光刻用膜形成材料等。前述课题可以通过含有具有下述式(0)的基团的化合物的光刻用膜形成材料而解决。
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公开(公告)号:CN105378472A
公开(公告)日:2016-03-02
申请号:CN201480040461.X
申请日:2014-07-16
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
CPC classification number: G01N33/0004 , G01N21/78 , G01N31/224
Abstract: 提供氧检测剂组合物,其包含聚乙二醇、氧化还原色素、还原剂及碱性物质,聚乙二醇的含量相对于氧检测剂组合物的总量为5~35质量%,碱性物质为20℃下在水中的溶解度小于1g/100g-H2O的水难溶性碱性物质,该组合物实质上不含磷酸钠。
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