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公开(公告)号：CN107785240B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN201710573155.8
申请日：2017-07-14
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/3105 , C08G73/10
摘要： 本实施方式的基板加热装置，包括：减压部，对涂布了溶液的基板的容纳空间的气氛进行减压；红外线加热器，能够通过红外线加热所述基板；所述红外线加热器呈在多个部位弯折的管状，并且包括：弯曲部，以向外侧凸出的方式弯折；盖部，配置为从外侧覆盖所述弯曲部的至少一部分。
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公开(公告)号：CN106971938A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201610945544.4
申请日：2016-10-26
申请人： 东京应化工业株式会社
CPC分类号： H01L21/67115 , H01L21/02 , H01L2221/67
摘要： 本发明涉及一种基板加热装置及基板加热方法，缩短基板的加热所需要的工作时间。实施方式的基板加热装置包含：减压部，能够将涂布有用来形成聚酰亚胺的溶液的基板减压；第一加热部，能够以第一温度加热所述基板；以及第二加热部，能够以比所述第一温度更高的第二温度加热所述基板；且所述第二加热部与所述第一加热部分别独立地设置。
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公开(公告)号：CN101121161A
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：CN200710129601.2
申请日：2007-07-23
申请人： 东京应化工业株式会社
摘要： 一种可减少排出到排气罐的涂敷液的量，且高效的药液供给方法。在t1时刻，开启开关阀(11)的同时，使泵的电机正转，逐渐扩大储存空间的容积。经过了除气模块(8)的涂敷液，通过涂敷液供给管(10)供给至定量泵的储存空间。然后在涂敷液储存空间达到规定容积的t2时刻，暂时停止泵的电机，同时关闭开关阀(11)，在经过t2时刻约2秒后，再次使泵的电机正转，由此扩大涂敷液储存空间的容积，填充涂敷液。此时因为开关阀(14，17)也为关闭状态，故涂敷液储存空间变为密闭空间，随着涂敷液储存空间的容积扩大，涂敷液储存空间内的压力降低。此后，在t5时刻打开开关阀(17)，开放涂敷液储存空间内的剩余压力，将剩余的涂敷液回收至罐(19)。
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公开(公告)号：CN1931446A
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN200610127551.X
申请日：2006-09-12
申请人： 东京应化工业株式会社
摘要： 本发明提供一种涂膜形成方法，该方法在对基板涂敷例如显影液、清洗液、SOG溶液及抗蚀剂等涂敷液时，可以降低涂敷开始点周边的涂膜凸起，并能降低涂膜整体的起伏。本发明利用在被涂物(1)表面之上相对移动的狭缝喷嘴(2)所提供的涂敷液，在被涂物(1)表面形成均匀的涂膜，在涂敷开始时，使狭缝喷嘴(2)的涂敷液排出口(2b)接近被涂物(1)表面，其次，通过驱动涂敷液送液泵(3)，使涂敷液排出口(2b)与被涂物(1)表面之间以涂敷液连接，接着，在将涂敷液的连接状态维持规定时间后，开始进行涂敷。
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公开(公告)号：CN106028650B
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201610149839.0
申请日：2016-03-16
申请人： 东京应化工业株式会社
摘要： 本发明的课题在于提供一种能从支撑体良好地剥离树脂衬底的衬底剥离装置及衬底剥离方法。本发明涉及一种衬底剥离装置，所述衬底剥离装置是剥离在支撑体上形成的平面形状为矩形的树脂衬底的衬底剥离装置，其具有：插入部，所述插入部被配置在树脂衬底的至少1个角部，可插入到角部与支撑体的界面中；移动机构，所述移动机构在插入部被插入到界面中的状态下，使插入部与支撑体相对移动；和剥离机构，所述剥离机构保持树脂衬底，将通过插入部而在界面处形成的狭缝作为基点，从支撑体剥离树脂衬底。
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公开(公告)号：CN101254495A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200810006392.7
申请日：2008-02-29
申请人： 东京应化工业株式会社
摘要： 本发明提供基板的输送涂布装置。从用输送机构(14)的垫保持处理后的基板(W1)，用输送机构(13)的垫保持了未处理的基板(W2)的状态，输送机构向图中右侧移动，处理后的基板(W1)向交接位置浮起输送，未处理的基板(W2)向涂布处理部浮起输送。在涂布处理部向未处理的基板(W2)表面涂布涂布液期间，输送机构(14)返回校准装置，保持下一未处理的基板(W3)。输送机构(13)将完成了涂布处理的基板(W2)输送至基板搬出部，输送机构(14)将未处理的基板(W3)输送至涂布处理部的工序。输送机构向图中右侧移动，处理后的基板(W2)向交接位置浮起输送，未处理的基板(W3)向涂布处理部浮起输送。
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公开(公告)号：CN101134189A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710145586.0
申请日：2007-08-28
申请人： 东京应化工业株式会社 , 龙云株式会社
摘要： 本发明提供一种涂敷装置，其能减弱外部振动的影响，特别是能有效抑制因外部振动而引起的共振。在支撑载台(2)和狭缝喷嘴移动机构的方管(20、21a～21c)的凹部(30)中，填装防共振部件(31)。由于在方管中填装防共振部件可改变基座(1)的固有振动频率，因此不会因外部振动而变成共振状态。
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公开(公告)号：CN1954924A
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN200610149985.X
申请日：2006-10-25
申请人： 东京应化工业株式会社
摘要： 本发明提供一种排出口的宽度在长度方向均匀的狭缝喷嘴。该狭缝喷嘴可降低由螺栓直接传递来的应力所导致的对涂敷分布的影响。在沿长度方向延伸的沟槽(16、17)上形成穿插螺栓(31)的通孔(11、12)的端部开口，而不是使之与对面的半体(2)的相对面直接接触，由此，螺栓(31)的紧固力不会集中在通孔(11、12)的开口周缘，而是在喷嘴的长度方向均匀地分散。其结果，狭缝状排出口(14)的宽度也变得均匀。
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公开(公告)号：CN1974459B
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：CN200610145977.8
申请日：2006-11-28
申请人： 东京应化工业株式会社
摘要： 本发明提供一种可从涂敷的涂敷液中高效地回收溶剂并进行再利用的系统。沿运送线从上游侧依次配置有基板送入部(1)、涂敷装置(2)及减压干燥装置(3)，从减压干燥装置(3)中引出有排气用配管(31)，在该配管(31)上设置真空泵(32)，在该真空泵(32)的下游侧配置液化收集装置(4)，从上述液化收集装置(4)中引出有溶剂回收用配管(5)，在该配管(5)上设置送液泵(6)，在该送液泵(6)的下游侧配置脱水装置(7)及过滤器(8)，在液化收集装置(4)内液化的溶剂，通过送液泵(6)被送到缓冲罐(9)。积存于该缓冲罐(9)内的溶剂被用于预备滚筒(22)的清洗。
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