公开(公告)号：CN100565343C

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：CN200610006659.3

申请日：2006-01-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 饱本正巳 ,  林伸一 ,  林田安 ,  松冈伸明 ,  木村义雄 ,  上田一成 ,  伊东晃

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178

Abstract: 本发明提供一种涂敷、显影装置及其方法，通过层叠而设置抗蚀剂膜形成用单位块、和反射防止膜形成用单位块，在抗蚀剂膜上下形成反射防止膜时，实现空间节省化。再者，不管是不是在形成反射防止膜的情况下，都可以应对，可以实现这时软件的简易化。在处理块(S2)上，相互层叠而设置作为涂敷膜形成用单位块的TCT层(B3)、COT层(B4)、BCT层(B5)和作为显影处理用的单位块的DEV层(B1、B2)。不管是不是在形成反射防止膜的情况下，通过在TCT层(B3)、COT层(B4)、BCT层(B5)内选择使用的单位块都可以应对，可以抑制这时的运送程序的复杂化，并实现软件的简易化。

公开(公告)号：CN104752279A

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：CN201410834589.5

申请日：2014-12-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  上田一成 ,  村田晃 ,  南田纯也

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/67757 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67739

Abstract: 本发明提供一种能够谋求生产率的提高的基板处理装置。实施方式的基板处理装置包括多个处理单元以及基板输送装置。多个处理单元在铅垂方向上并排地配置，用于处理基板。基板输送装置能够在铅垂方向上移动，用于进行基板相对于处理单元的送入送出。另外，基板输送装置包括第1输送臂和第2输送臂，第1输送臂和第2输送臂在铅垂方向上并排地配置，并且，在铅垂方向上的可移动范围互相重叠且能独立地在铅垂方向上移动。

公开(公告)号：CN102034730A

公开(公告)日：2011-04-27

申请号：CN201010503730.5

申请日：2010-09-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 南田纯也 ,  上田一成 ,  长野泰博 ,  黑田修 ,  江岛和善 ,  吉田正宽 ,  守田聪

IPC: H01L21/677 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  Y10S414/135

Abstract: 本发明提供一种即使在产生故障的情况下也能不停止整个装置地继续基板处理的可能性高的基板处理装置。基板处理装置(1)包括第1、第2处理区(14a、14b)，该第1、第2处理区包括：用于输送基板(W)的第1、第2基板输送机构(141a、141b)；分别设于该基板输送机构(141a、141b)左右两侧，进行相同处理的处理单元的列(U1～U4)。处理单元的列(U1、U3)和另一方侧的处理单元的列(U2、U4)分别与共用化的处理流体的供给系统(3a、3b)连接。而且，在任一基板输送机构(141a、141b)、处理流体的供给系统(3a、3b)产生故障时，仍能用正常工作的基板输送机构(141b、141a)、处理流体的供给系统(3b、3a)所对应的处理单元的列(U1～U4)来处理基板(W)。

公开(公告)号：CN1808276A

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：CN200610006662.5

申请日：2006-01-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 饱本正巳 ,  林伸一 ,  林田安 ,  松冈伸明 ,  木村义雄 ,  上田一成 ,  伊东晃

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719

Abstract: 本发明提供一种涂敷、显影装置及其方法，通过层叠而设置抗蚀剂膜形成用单位块、和反射防止膜形成用单位块，在抗蚀剂膜上下形成反射防止膜时，实现空间节省化。再者，不管是不是在形成反射防止膜的情况下，都可以应对，可以实现这时软件的简易化。在处理块(S2)上，相互层叠而设置作为涂敷膜形成用单位块的TCT层(B3)、COT层(B4)、BCT层(B5)和作为显影处理用的单位块的DEV层(B1、B2)。不管是不是在形成反射防止膜的情况下，通过在TCT层(B3)、COT层(B4)、BCT层(B5)内选择使用的单位块都可以应对，可以抑制这时的运送程序的复杂化，并实现软件的简易化。

公开(公告)号：CN104752279B

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：CN201410834589.5

申请日：2014-12-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  上田一成 ,  村田晃 ,  南田纯也

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种能够谋求生产率的提高的基板处理装置。实施方式的基板处理装置包括多个处理单元以及基板输送装置。多个处理单元在铅垂方向上并排地配置，用于处理基板。基板输送装置能够在铅垂方向上移动，用于进行基板相对于处理单元的送入送出。另外，基板输送装置包括第1输送臂和第2输送臂，第1输送臂和第2输送臂在铅垂方向上并排地配置，并且，在铅垂方向上的可移动范围互相重叠且能独立地在铅垂方向上移动。

公开(公告)号：CN102034730B

公开(公告)日：2014-12-03

申请号：CN201010503730.5

申请日：2010-09-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 南田纯也 ,  上田一成 ,  长野泰博 ,  黑田修 ,  江岛和善 ,  吉田正宽 ,  守田聪

IPC: H01L21/677 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  Y10S414/135

Abstract: 本发明提供一种即使在产生故障的情况下也能不停止整个装置地继续基板处理的可能性高的基板处理装置。基板处理装置(1)包括第1、第2处理区(14a、14b)，该第1、第2处理区包括：用于输送基板(W)的第1、第2基板输送机构(141a、141b)；分别设于该基板输送机构(141a、141b)左右两侧，进行相同处理的处理单元的列(U1～U4)。处理单元的列(U1、U3)和另一方侧的处理单元的列(U2、U4)分别与共用化的处理流体的供给系统(3a、3b)连接。而且，在任一基板输送机构(141a、141b)、处理流体的供给系统(3a、3b)产生故障时，仍能用正常工作的基板输送机构(141b、141a)、处理流体的供给系统(3b、3a)所对应的处理单元的列(U1～U4)来处理基板(W)。

公开(公告)号：CN102054664A

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN201010535057.3

申请日：2010-11-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 南田纯也 ,  上田一成

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67196 ,  H01L21/67778

Abstract: 本发明提供一种用于降低制造成本和消耗能量的基板处理装置。在本发明中，包括：用于交接被收容于搬运器(3)的基板(2)的基板搬入搬出部(基板交接室(12))；经由基板搬入搬出口(37(39))与上述基板搬入搬出部连通的基板输送室(14(25))；沿着上述基板输送室(14(25))配置的多个基板处理室(15～24(26～35))；收容在上述基板输送室(14(25))的内部并用于在上述基板搬入搬出部和上述基板处理室(15～24(26～35))之间输送上述基板(2)的基板输送装置(36(38))；用于使清洁空气沿着上述基板输送室(14(25))流动的清洁空气流动部件(41(42))。

公开(公告)号：CN1808274A

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：CN200610006659.3

申请日：2006-01-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 饱本正巳 ,  林伸一 ,  林田安 ,  松冈伸明 ,  木村义雄 ,  上田一成 ,  伊东晃

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178

Abstract: 本发明提供一种涂敷、显影装置及其方法，通过层叠而设置抗蚀剂膜形成用单位块、和反射防止膜形成用单位块，在抗蚀剂膜上下形成反射防止膜时，实现空间节省化。再者，不管是不是在形成反射防止膜的情况下，都可以应对，可以实现这时软件的简易化。在处理块(S2)上，相互层叠而设置作为涂敷膜形成用单位块的TCT层(B3)、COT层(B4)、BCT层(B5)和作为显影处理用的单位块的DEV层(B1、B2)。不管是不是在形成反射防止膜的情况下，通过在TCT层(B3)、COT层(B4)、BCT层(B5)内选择使用的单位块都可以应对，可以抑制这时的运送程序的复杂化，并实现软件的简易化。

公开(公告)号：CN102054664B

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201010535057.3

申请日：2010-11-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 南田纯也 ,  上田一成

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67196 ,  H01L21/67778

Abstract: 本发明提供一种用于降低制造成本和消耗能量的基板处理装置。在本发明中，包括：用于交接被收容于搬运器(3)的基板(2)的基板搬入搬出部(基板交接室(12))；经由基板搬入搬出口(37(39))与上述基板搬入搬出部连通的基板输送室(14(25))；沿着上述基板输送室(14(25))配置的多个基板处理室(15～24(26～35))；收容在上述基板输送室(14(25))的内部并用于在上述基板搬入搬出部和上述基板处理室(15～24(26～35))之间输送上述基板(2)的基板输送装置(36(38))；用于使清洁空气沿着上述基板输送室(14(25))流动的清洁空气流动部件(41(42))。

公开(公告)号：CN100570484C

公开(公告)日：2009-12-16

申请号：CN200610006662.5

申请日：2006-01-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 饱本正巳 ,  林伸一 ,  林田安 ,  松冈伸明 ,  木村义雄 ,  上田一成 ,  伊东晃

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719

Abstract: 本发明提供一种涂敷、显影装置及其方法，通过层叠而设置抗蚀剂膜形成用单位块、和反射防止膜形成用单位块，在抗蚀剂膜上下形成反射防止膜时，实现空间节省化。再者，不管是不是在形成反射防止膜的情况下，都可以应对，可以实现这时软件的简易化。在处理块(S2)上，相互层叠而设置作为涂敷膜形成用单位块的TCT层(B3)、COT层(B4)、BCT层(B5)和作为显影处理用的单位块的DEV层(B1、B2)。不管是不是在形成反射防止膜的情况下，通过在TCT层(B3)、COT层(B4)、BCT层(B5)内选择使用的单位块都可以应对，可以抑制这时的运送程序的复杂化，并实现软件的简易化。