公开(公告)号：CN103094164B

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201210435430.7

申请日：2012-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中原田雅弘 ,  酒田洋司 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓 ,  中岛常长

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/70691 ,  H01L21/02043 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67242 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/6875 ,  H01L22/20

Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和基板搬送方法。涂敷显影处理系统的交接站（5）具有：将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的晶片清洗单元（141）、至少对清洗后的晶片的背面在其被搬入到曝光装置之前检查该晶片能否在曝光装置中进行曝光的晶片检查单元（142）、具有在各单元（141、142）之间搬送基板的臂的晶片搬送装置（120、130）和控制晶片搬送装置（120、130）的动作的晶片搬送控制部。晶片搬送控制部控制晶片搬送装置（120、130），使得当检查的结果被判断为，晶片的状态是通过由清洗单元（141）再清洗成为能够曝光的状态时，再次将该晶片搬送到清洗单元（141）。

公开(公告)号：CN104966686A

公开(公告)日：2015-10-07

申请号：CN201510337538.6

申请日：2011-06-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/67

CPC classification number: G03F7/708 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明提供一种涂布、显影装置，其目的在于提供能够抑制处理模块的设置面积并且能够抑制装置的运转效率降低的技术。将前级处理用单位块作为第一前级处理用单位块和第二前级处理用单位块以上下二层化的方式相互叠层，将后级处理用单位块作为第一后级处理用单位块和第二后级处理用单位块上下以上下二层化的方式相互叠层，进一步将显影处理用单位块作为第一显影处理用单位块和第二显影处理用单位块以上下二层化的方式相互叠层，由此构成处理模块，该涂布、显影装置包括：从前级处理用单位块向后级处理用的各单位块分配并交接基板的第一交接机构；和将曝光后的基板分配并交接给显影处理用单位块的第二交接机构。

公开(公告)号：CN102338984B

公开(公告)日：2014-11-05

申请号：CN201110206386.8

申请日：2011-07-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/6723

Abstract: 本发明提供一种涂敷显影装置、涂敷显影方法和存储介质，在单位块发生异常、进行维修时，抑制涂敷显影装置的生产率降低且抑制处理块的设置面积。该涂敷显影装置具备：在层叠的前段处理用单位块和分别对应的层叠的后段处理用的单位块之间设置的、在两单位块的搬送机构之间进行基板的交接用的涂敷处理用的交接部；在各段的涂敷处理用的交接部之间进行基板的搬送用的能够升降自由的设置的辅助移载机构；和分别在所述前段处理用的单位块、后段处理用的单位块上层叠的显影处理用的单位块。在各层间，交接基板，因此能够避免不能使用的单位块搬送基板。此外，显影用的单位块层叠在前段处理用的单位块和后段处理用的单位块上，因此抑制设置面积。

公开(公告)号：CN102207693A

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN201110182985.0

申请日：2007-01-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 饱本正巳 ,  林伸一 ,  饭田成昭 ,  稻富弘朗

IPC: G03F7/38 ,  H01L21/00

CPC classification number: F27B17/0025 ,  F27B5/04 ,  F27D5/0037 ,  F27D15/02 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67784 ,  Y10S414/139

Abstract: 具有冷却板和热板的加热装置中，利用气体使基板从冷却板和热板上浮起，通过使基板在水平方向上移动使基板在冷却板与热板之间移动，实现加热装置的薄型化。加热装置(2)中，在冷却板(3)和热板(6)上沿晶片W的移动通路形成喷出孔(3a、6a)，其朝向晶片W的移动通路的冷却板(3)侧斜向上方喷出使基板浮起的气体，利用推压部件(51)推压晶片W移动时的后方侧，抵抗从喷出孔(3a、6a)喷出的气体产生的试图使晶片W移动的推压力，使晶片W向与气体喷出方向相反侧的热板(6)侧移动，或在利用喷出孔(3a、6a)喷出的气体使晶片W移动时的前方侧推压推压部件(51)的状态下，使该推压部件(51)向与气体的喷出方向相同的方向的冷却板(3)侧移动。

公开(公告)号：CN101276744B

公开(公告)日：2011-08-17

申请号：CN200810090247.1

申请日：2008-03-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  桥本隆浩 ,  土屋胜裕 ,  林伸一 ,  林田安

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  G03F7/00

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178

Abstract: 本发明提供一种在涂敷显影装置中，能够根据所要求的处理能力来容易地设计和制造装置的技术。在载体块(S1)和界面块(S6)之间，以前后相互连接的方式设置有通过层叠包括涂敷膜形成用单位块与显影处理用单位块的多个单位块所构成的相同结构的处理块(S2～S4)。准备这种相同结构的处理块(S2～S4)，通过增减在载体块(S1)与界面块(S6)之间所排列的处理块的个数，并且通过调整涂敷显影装置的处理速度，而能够根据所要求的处理能力很容易地进行装置的设计和制造。

公开(公告)号：CN100565343C

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：CN200610006659.3

申请日：2006-01-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 饱本正巳 ,  林伸一 ,  林田安 ,  松冈伸明 ,  木村义雄 ,  上田一成 ,  伊东晃

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178

Abstract: 本发明提供一种涂敷、显影装置及其方法，通过层叠而设置抗蚀剂膜形成用单位块、和反射防止膜形成用单位块，在抗蚀剂膜上下形成反射防止膜时，实现空间节省化。再者，不管是不是在形成反射防止膜的情况下，都可以应对，可以实现这时软件的简易化。在处理块(S2)上，相互层叠而设置作为涂敷膜形成用单位块的TCT层(B3)、COT层(B4)、BCT层(B5)和作为显影处理用的单位块的DEV层(B1、B2)。不管是不是在形成反射防止膜的情况下，通过在TCT层(B3)、COT层(B4)、BCT层(B5)内选择使用的单位块都可以应对，可以抑制这时的运送程序的复杂化，并实现软件的简易化。

公开(公告)号：CN101055835A

公开(公告)日：2007-10-17

申请号：CN200710096608.9

申请日：2007-04-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  林田安 ,  林伸一

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66 ,  G03F7/00 ,  G02F1/133

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178

Abstract: 提供一种将基板检查单元装入时占有面积小而可避免不利的布置的涂敷、显影装置。将包括多个处理单元以及搬送机构(A3)、(A4)的涂敷膜形成部(B3)、包括多个处理单元(31)以及搬送机构(A1)的显影处理部(B1)上下重叠地配置在处理模块(S2)中。在处理模块(S2)的载体模块(S1)侧设置作为在与各部的搬送机构之间进行基板(W)的交接的多个交接单元(TRS)的上下重叠地配置的多个交接单元(TRS)、和在与各交接单元之间交接基板的升降自如的交接单元用搬送机构(D1)。涂敷膜形成部以及显影处理部的至少某一方具有进行由该部的搬送机构搬送的基板的检查的基板检查单元(43)。

公开(公告)号：CN1854898A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：CN200610089867.4

申请日：2006-03-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  林伸一 ,  林田安

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/30

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67745

Abstract: 本发明提供一种能够按所希望的定时进行曝光装置维护的涂敷、显影装置。该涂敷、显影装置在将搬入输送机模块的基板搬运到处理模块并形成涂敷膜之后，通过接口模块搬运到曝光装置，通过上述接口模块返回来的曝光后的基板在上述处理模块中进行显影处理并搬运到输送机模块，其中设置搬运装置，该搬运装置相对于上述涂敷膜形成用模块及显影用模块层叠并且在输送机模块和接口模块之间将形成涂敷膜的基板从输送机模块一侧直达搬运到接口模块一侧。通过这种结构，即使涂敷膜形成用模块和显影用模块处于维护中，由于可以将检查用基板搬运到曝光装置中，所以也能够检查曝光装置的状态。

公开(公告)号：CN107180775B

公开(公告)日：2020-08-04

申请号：CN201710337989.9

申请日：2012-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中原田雅弘 ,  酒田洋司 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓 ,  中岛常长

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供基板处理系统和基板搬送方法。在具有处理站(3)和交接站(5)的涂敷显影处理系统中，交接站(5)具有：在将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的晶片清洗单元(141)、至少对清洗后的晶片的背面，在搬入到曝光装置之前检查能否进行该晶片的曝光的晶片检查单元(101)、具有在清洗单元(141)和检查单元(142)之间搬送晶片的臂的晶片搬送装置(120)。清洗单元(141)和检查单元(142)在交接站(5)的正面侧，在上下方向设置有多层，晶片搬送装置(120)设置于与清洗单元(141)和检查单元(142)相邻的区域。

公开(公告)号：CN104465460B

公开(公告)日：2017-09-08

申请号：CN201410641400.0

申请日：2011-07-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松冈伸明 ,  宫田亮 ,  林伸一 ,  榎木田卓 ,  富田浩 ,  早川诚 ,  吉田达平

IPC: H01L21/67

CPC classification number: G03F7/16 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明提供一种抑制处理块的设置面积并且抑制装置的工作效率降低的技术。构成具备模式选择部的涂覆显影装置，上述模式选择部用于在由检查模块进行的检查中检查出基板异常时，基于存储在存储部的数据，从模式M1和M2中选择后续的基板的搬送模式。上述模式M1，确定显影处理用的单位块中处理过基板的模块，控制单位块用的搬送机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的模块以外的模块，上述模式M2，确定处理过基板的显影处理用的单位块，控制交接机构的动作，使得将后续的基板搬送到所确定的显影处理用的单位块以外的显影处理用的单位块。