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公开(公告)号:CN118380359A
公开(公告)日:2024-07-23
申请号:CN202410046194.2
申请日:2024-01-12
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/677 , H01L21/67 , H01L21/308
摘要: 本发明提供一种在形成有MOR膜的基板获得良好的图案的基板处理装置和基板处理方法。晶圆处理系统(1)具备:第1输送路径,其是MOR膜形成后且曝光处理实施前的晶圆(W)的输送路径;和第2输送路径,其是曝光处理实施后的晶圆(W)的输送路径。晶圆处理系统(1)具备氮气氛载置部(例如,氮气氛载置部51、53、54、70等),其设置于第1输送路径和第2输送路径中的至少任一者,用于在气氛气体的氮浓度设定得比空气的氮浓度高的环境中载置晶圆(W)。
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公开(公告)号:CN114631175A
公开(公告)日:2022-06-14
申请号:CN202080076992.X
申请日:2020-09-30
申请人: 东京毅力科创株式会社
摘要: 相机图像可以用于检测衬底边缘,并提供关于该衬底在流体分配系统内的定心的信息。相机图像还可以用于监测该流体分配系统内的杯形件的位置。所利用的信号处理技术可以包括数据平滑、仅分析反射能量的特定波长、变换数据(在一个实施例中利用傅立叶变换)、和/或分析所收集的数据像素的子集。本文收集的相机图像数据可以与各种各样的其他数据组合,以便更好地监测、表征和/或控制衬底加工工艺流程。
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公开(公告)号:CN221805478U
公开(公告)日:2024-10-01
申请号:CN202420076098.8
申请日:2024-01-12
申请人: 东京毅力科创株式会社
IPC分类号: H01L21/677 , H01L21/67 , H01L21/308
摘要: 本实用新型提供一种在形成有MOR膜的基板获得良好的图案的基板处理装置和基板处理方法。晶圆处理系统(1)具备:第1输送路径,其是MOR膜形成后且曝光处理实施前的晶圆(W)的输送路径;和第2输送路径,其是曝光处理实施后的晶圆(W)的输送路径。晶圆处理系统(1)具备氮气氛载置部(例如,氮气氛载置部51、53、54、70等),其设置于第1输送路径和第2输送路径中的至少任一者,用于在气氛气体的氮浓度设定得比空气的氮浓度高的环境中载置晶圆(W)。
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