公开(公告)号：CN108239766B

公开(公告)日：2022-01-07

申请号：CN201711431130.0

申请日：2017-12-26

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 高木聪 ,  小森克彦 ,  冈田充弘 ,  渡边将久 ,  高桥和也 ,  矢野一纪 ,  藤田圭介

IPC分类号： C23C16/24 ,  C23C16/458 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/205

摘要： 成膜装置、成膜方法以及隔热构件。当对分层地保持于基板保持器具的被处理基板进行成膜处理时，对被保持在基板保持器具的上下部侧或下部侧的被处理基板的面内膜厚分布进行调整，提高被处理基板间的膜厚均匀性。装置具备：气体供给部，用于向纵型反应容器内供给成膜气体；隔热构件，在基板保持器具中被设置为在比被处理基板的配置区域靠上方或靠下方的位置处与该配置区域重叠，用于在反应容器内对配置区域与比该配置区域靠上方的上方区域进行隔热或者对配置区域与比该配置区域靠下方的下方区域进行隔热；以及贯通孔，在该隔热构件中被设置在与该被处理基板的中心部重叠的位置，以对被保持于隔热构件的附近的被处理基板的面内的温度分布进行调整。

公开(公告)号：CN108239766A

公开(公告)日：2018-07-03

申请号：CN201711431130.0

申请日：2017-12-26

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 高木聪 ,  小森克彦 ,  冈田充弘 ,  渡边将久 ,  高桥和也 ,  矢野一纪 ,  藤田圭介

IPC分类号： C23C16/24 ,  C23C16/458 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/205

CPC分类号： C23C16/24 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45546 ,  C23C16/46 ,  H01L21/205 ,  H01L21/22 ,  H01L21/28562 ,  H01L21/32051 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67303 ,  C23C16/4585 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/67011 ,  H01L21/68714

摘要： 成膜装置、成膜方法以及隔热构件。当对分层地保持于基板保持器具的被处理基板进行成膜处理时，对被保持在基板保持器具的上下部侧或下部侧的被处理基板的面内膜厚分布进行调整，提高被处理基板间的膜厚均匀性。装置具备：气体供给部，用于向纵型反应容器内供给成膜气体；隔热构件，在基板保持器具中被设置为在比被处理基板的配置区域靠上方或靠下方的位置处与该配置区域重叠，用于在反应容器内对配置区域与比该配置区域靠上方的上方区域进行隔热或者对配置区域与比该配置区域靠下方的下方区域进行隔热；以及贯通孔，在该隔热构件中被设置在与该被处理基板的中心部重叠的位置，以对被保持于隔热构件的附近的被处理基板的面内的温度分布进行调整。