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公开(公告)号：CN108761929B
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201810479864.4
申请日：2018-05-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： G02F1/1343 , G02F1/1362 , G02F1/13
摘要： 本发明公开了一种显示基板、显示装置、制作方法及其修复方法，以解决现有技术在对电容结构进行维修时，存在容易发生维修失败的问题。所述电容结构包括：位于所述衬底基板之上的第一电极、位于所述第一电极之上且与所述第一电极绝缘的第二电极，其中，所述第一电极包括：条状的第一主体部、由第一主体部的一侧边延伸出的多个条状第一支部、位于所述第一主体部另一侧且与所述第一主体部间隔设置的条状第一辅助主体部；所述第二电极包括：条状的第二主体部、由第二主体部的一侧边延伸出的多个条状第二支部、位于所述第二主体部另一侧且与所述第二主体部间隔设置的条状第二辅助主体部。
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公开(公告)号：CN106771756A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611240908.5
申请日：2016-12-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 本发明提供一种毛刷辊压入量传感器，属于显示基板清洁技术领域，其可至少部分解决现有的毛刷辊压入量测量方法效率低、精度差的问题。本发明的毛刷辊压入量传感器包括：第一导电层；与第一导电层相对且间隔设置的、柔性的第二导电层；在第一导电层和第二导电层之间间隔设置的绝缘的支撑物，当受到压力时，无支撑物处的第二导电层能变形而与第一导电层接触。
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公开(公告)号：CN105629597A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610025575.8
申请日：2016-01-14
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： G02F1/1343 , G02F1/1333
CPC分类号： G06F3/0418 , G02F1/13338 , G02F1/136204 , G02F1/136213 , G02F1/136227 , G06F3/0412 , G06F3/0416 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04107 , G06F2203/04111 , G09G3/3648 , G09G3/3659 , G09G2300/0408 , G09G2300/0426 , G09G2300/0842 , G09G2300/0876 , G09G2320/02 , G09G2354/00 , H01L27/124 , H01L27/1248 , H01L27/1255 , H01L27/1259 , G02F1/1343 , G02F1/133308 , G02F2001/133334
摘要： 本发明涉及一种阵列基板及其显示驱动方法、制作方法、显示装置，其中的阵列基板包括位于衬底上的晶体管器件层，还包括依次层叠的第一透明导电层、第一绝缘层、第二透明导电层、第二绝缘层和第三透明导电层；所述第一透明导电层在显示区域内覆盖所述晶体管器件层；所述第二透明导电层包括触控电极的图形；所述第三透明导电层包括像素电极的图形；所述显示区域中的任一像素区域内，所述像素电极通过设置在所述第一绝缘层和所述第二绝缘层中的过孔连接所述晶体管器件层的像素电极连接端；所述第一透明导电层在所述过孔处设有开口。本发明可以在实现内嵌式触控的情况下保障公共电极的电屏蔽特性，有利于产品良率和产品性能的提升。
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公开(公告)号：CN104834131A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510312381.1
申请日：2015-06-08
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/133784
摘要： 本发明实施例提供的一种摩擦取向装置，涉及显示技术领域，可及时消除摩擦取向装置在对待取向基板进行摩擦取向时表面绒毛上积累的静电荷，有效防止基板上发生ESD现象，提高基板摩擦取向后的产品良率。该摩擦取向装置包括：用于承载待取向基板的载台；位于所述载台上方的摩擦辊；所述摩擦辊包括：辊轴、贴附在所述辊轴上的摩擦布；所述辊轴可沿自身轴线方向转动，所述摩擦布表面有用于摩擦待取向基板的摩擦绒毛；所述摩擦取向装置还包括：静电消除单元；其中，所述静电消除单元与所述摩擦布表面的至少部分区域的摩擦绒毛相接触。用于摩擦取向装置的制备。
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公开(公告)号：CN105629597B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201610025575.8
申请日：2016-01-14
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： G02F1/1343 , G02F1/1333
CPC分类号： G06F3/0418 , G02F1/13338 , G02F1/136204 , G02F1/136213 , G02F1/136227 , G06F3/0412 , G06F3/0416 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04107 , G06F2203/04111 , G09G3/3648 , G09G3/3659 , G09G2300/0408 , G09G2300/0426 , G09G2300/0842 , G09G2300/0876 , G09G2320/02 , G09G2354/00 , H01L27/124 , H01L27/1248 , H01L27/1255 , H01L27/1259
摘要： 本发明涉及一种阵列基板及其显示驱动方法、制作方法、显示装置，其中的阵列基板包括位于衬底上的晶体管器件层，还包括依次层叠的第一透明导电层、第一绝缘层、第二透明导电层、第二绝缘层和第三透明导电层；所述第一透明导电层在显示区域内覆盖所述晶体管器件层；所述第二透明导电层包括触控电极的图形；所述第三透明导电层包括像素电极的图形；所述显示区域中的任一像素区域内，所述像素电极通过设置在所述第一绝缘层和所述第二绝缘层中的过孔连接所述晶体管器件层的像素电极连接端；所述第一透明导电层在所述过孔处设有开口。本发明可以在实现内嵌式触控的情况下保障公共电极的电屏蔽特性，有利于产品良率和产品性能的提升。
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公开(公告)号：CN109873037A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201910214175.5
申请日：2019-03-20
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： H01L29/786 , H01L29/423 , H01L21/336
摘要： 本发明提供一种薄膜晶体管及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域。本发明的薄膜晶体管包括：基底，设置在所述基底上的栅极和有源层，以及设置在所述栅极和有源层之间的层间绝缘层；在所述栅绝缘层和所述基底之间设置有平坦层，所述平坦层与所述栅极紧密接触，且所述平坦层的上表面与所述栅极的上表面平齐。
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公开(公告)号：CN108898563A
公开(公告)日：2018-11-27
申请号：CN201810710468.8
申请日：2018-07-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
发明人： 谢霖 , 刘华锋 , 赵生伟 , 孙超超 , 王超 , 周国庆 , 顺布乐 , 吕景萍 , 张盼盼 , 王腾飞 , 潘信桦 , 李乐乐 , 常志强 , 党少聪 , 穆世杰 , 王振 , 麻小川
摘要： 本发明公开了一种显示面板光学检测图像的处理方法及计算机可读介质，针对显示面板光学检测图像出现的模糊问题，利用图像傅里叶频谱特性对显示面板光学检测图像中的模糊图像进行分析，确定模糊图像的模糊类型；其中，模糊类型包括：运动模糊图像和散焦模糊图像；之后采用与模糊类型匹配的修复方式，对模糊图像中的模糊区域进行还原处理，使优化修复后的图像更加能够反映真实的膜层情况，以便于对其进行分析判断。由于整个优化修复过程可自动化进行，无需人员操控，从而节省人力物力、提高不良分析效率。
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公开(公告)号：CN107731855A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201710922899.6
申请日：2017-09-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
摘要： 本申请提供了一种阵列基板及显示装置，用以减少天线在手机内部所占空间，以便减小手机厚度，使手机更轻薄化。本申请提供的一种阵列基板，包括：多条虚设信号线和导电连接部，所述虚设信号线和所述导电连接部异层设置，且所述虚设信号线和所述导电连接部之间包括绝缘层所述绝缘层上设置有过孔，所述虚设信号线通过所述过孔与所述导电连接部相连，所述虚设信号线和所述导电连接部用于形成天线线圈。
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公开(公告)号：CN108898563B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201810710468.8
申请日：2018-07-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
发明人： 谢霖 , 刘华锋 , 赵生伟 , 孙超超 , 王超 , 周国庆 , 顺布乐 , 吕景萍 , 张盼盼 , 王腾飞 , 潘信桦 , 李乐乐 , 常志强 , 党少聪 , 穆世杰 , 王振 , 麻小川
摘要： 本发明公开了一种显示面板光学检测图像的处理方法及计算机可读介质，针对显示面板光学检测图像出现的模糊问题，利用图像傅里叶频谱特性对显示面板光学检测图像中的模糊图像进行分析，确定模糊图像的模糊类型；其中，模糊类型包括：运动模糊图像和散焦模糊图像；之后采用与模糊类型匹配的修复方式，对模糊图像中的模糊区域进行还原处理，使优化修复后的图像更加能够反映真实的膜层情况，以便于对其进行分析判断。由于整个优化修复过程可自动化进行，无需人员操控，从而节省人力物力、提高不良分析效率。
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公开(公告)号：CN106653861B
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201710004017.8
申请日：2017-01-03
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
IPC分类号： H01L29/786 , H01L27/12 , H01L21/336
CPC分类号： H01L29/78633 , G02F1/134363 , G02F1/1368 , G02F2202/103 , G02F2202/104 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/30 , H01L27/1218 , H01L27/1222 , H01L27/1251 , H01L27/1274 , H01L27/1288 , H01L27/322 , H01L27/3262 , H01L27/3272 , H01L29/66757 , H01L29/78603 , H01L29/78675 , H01L29/78696
摘要： 本发明实施例提供一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板及其制备方法，涉及显示技术领域，可提高多晶硅有源层的晶粒尺寸及均一性。所述薄膜晶体管包括衬底，设置在所述衬底上的多晶硅有源层，还包括设置在所述多晶硅有源层靠近所述衬底一侧表面的第一非晶硅层；所述多晶硅有源层与所述第一非晶硅层在所述衬底上的正投影重叠。
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