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公开(公告)号：CN1840472B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200610071559.9
申请日：2006-03-28
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: C01B31/06
Abstract: 制造金刚石单晶衬底的方法，其中单晶从作为种衬底的金刚石单晶通过气相合成生长，所述方法包括：制备具有主表面的金刚石单晶种衬底作为种衬底，其中该主表面的沿面取向落在相对于{100}平面或{111}平面不超过8度的倾斜范围内；通过机械加工形成许多不同取向的平面，这些平面的主表面的外周边方向相对于该种衬底一侧的主表面倾斜；然后通过气相合成生长金刚石单晶。
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公开(公告)号：CN101253426B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200680032121.8
申请日：2006-08-25
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: G02B1/00 , G02B5/1857 , G02B6/1221 , Y10T428/24942
Abstract: 本发明涉及一种光学装置，该光学装置包括含有硅、氧、碳和氢作为主要成分的透明薄膜，其中所述薄膜包括具有较高折射率的局部区和具有较低折射率的局部区。
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公开(公告)号：CN101361154B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200780001460.4
申请日：2007-09-18
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: H01J1/3044 , H01J9/025 , H01J37/065 , H01J37/073 , H01J2201/30407 , H01J2201/30411 , H01J2201/30419 , H01J2201/30457 , H01J2237/06341 , H01J2237/26 , H01J2237/3137 , H01J2237/3146 , H01J2237/31749 , H01J2237/3175
Abstract: 一种金刚石电子源和制造该金刚石电子源的方法，在该金刚石电子源中，作为在电子显微镜或其他电子束装置中使用的电子发射点，单个尖锐末端形成在其尺寸使在微加工工序中难以进行抗蚀剂涂布的柱状金刚石单晶的一端。研磨柱状金刚石单晶(10)的一端，以形成光滑平面(11)，并且在光滑平面(11)上形成陶瓷层(12)。使用聚焦离子束装置，在陶瓷层(12)上沉积具有指定形状的薄膜层(14)，并在此之后使用薄膜层(14)作为掩模通过蚀刻来图案化陶瓷层(12)。使用得到的陶瓷掩模以通过干法蚀刻在柱状金刚石单晶(10)的一端处形成单个尖锐末端。
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公开(公告)号：CN101535177A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200780041911.7
申请日：2007-10-31
Applicant: 住友电气工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种作为光学膜的含有Si－O的氢化碳膜，其对于波长为520nm的光的折射率为至少1.48到至多1.85，并且对于波长为248nm的光的消光系数小于0.15，其中，通过使用能量束照射，折射率和消光系数都降低。通过使用这种含有Si－O的氢化碳膜，可以提供包括该含有Si－O的氢化碳膜的各种光学元件和光学装置。
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公开(公告)号：CN100409408C
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：CN200380100646.7
申请日：2003-12-22
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: H01L21/265 , C30B29/04
Abstract: 本发明制备n-型半导体金刚石的方法的特征在于，通过向结合有10ppm或以上N的单晶金刚石中注入Li离子，使得其中含有10ppm的Li离子，来制备结合有Li和N的金刚石，或者，在用LI和N离子掺杂单晶金刚石的过程中，注入离子，使得在后注入Li和N浓度各为10ppm或以上处的离子注入深度将会重叠，来制备结合有Li和N的金刚石，然后在800℃或以上至低于1800℃的温度退火金刚石，以电激活Li和N且恢复金刚石的晶体结构。在本发明中，n-型半导体金刚石在从晶体面至相同的深度结合了各为10ppm或以上的Li和N，其中其薄层电阻为107Ω/□或更低。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1662681A
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN03814068.3
申请日：2003-06-18
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: C30B29/04 , H01L21/205
CPC classification number: C30B25/02 , C30B29/04 , H01L21/02376 , H01L21/0243 , H01L21/02433 , H01L21/02444 , H01L21/02494 , H01L21/02527 , H01L21/02576 , H01L21/02587 , H01L21/02609 , H01L21/0262 , H01L21/02658 , H01L21/041 , H01L29/66022 , H01L29/66037
Abstract: 加工金刚石{100}单晶基板(10)，形成金刚石{111}面后，一边在金刚石{111}面上掺杂n型掺杂剂一边使金刚石外延生长，形成n型金刚石外延层(20)。而且通过将上述方式得到的n型半导体金刚石和p型半导体金刚石、和未掺杂金刚石加以组合，采用p型半导体金刚石{100}单晶基板等，可以得到pn结型、pnp结型、npn结型及pin结型半导体金刚石。
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公开(公告)号：CN1035087C
公开(公告)日：1997-06-04
申请号：CN88103912
申请日：1988-05-17
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: H01L39/249 , H01L39/2435 , H01L39/2464
Abstract: 一种制作超导电路图形的方法，其特征在于下列步骤：在基片上淀积开始不显示超导性的复合氧化物材料的薄膜层；向该层所需部位照射聚焦离子束使被照射的部位转变为超导体；在氧离子注入前、中、后对复合氧化物材料进行热处理。所述离子束选自氧离子束、惰性气体离子束以及它们的混合体。所述复合氧化物的结构式为(α1-xβx)CuyOz或D4(E1-q，Cαq)mCunOp+r，其中，α，β分别为IIα或IIIα族元素，而D为Bi或Tl，D为Bi时E为Sr，D为Tl时E为Ba。
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公开(公告)号：CN101535177B
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN200780041911.7
申请日：2007-10-31
Applicant: 住友电气工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种作为光学膜的含有Si-O的氢化碳膜，其对于波长为520nm的光的折射率为至少1.48到至多1.85，并且对于波长为248nm的光的消光系数小于0.15，其中，通过使用能量束照射，折射率和消光系数都降低。通过使用这种含有Si-O的氢化碳膜，可以提供包括该含有Si-O的氢化碳膜的各种光学元件和光学装置。
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公开(公告)号：CN101990443A
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN200980112611.2
申请日：2009-04-02
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: A61L9/00
CPC classification number: B01D53/326 , A61L9/012 , A61L9/014 , A61L9/16 , A61L2209/213 , A61L2209/22 , B01D53/32 , B01D53/8668 , B01D53/88 , B01D61/422 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D69/145 , B01D71/36 , B01D2251/11 , B01D2255/102 , B01D2255/9202 , B01D2257/7027 , B01D2257/90 , B01J35/0033
Abstract: 本发明披露了一种用以分解多种恶臭气体的分解装置，其在向正极和负极间施加相对较高的电压的同时，不会引发安全问题。本发明还披露了一种分解气体的方法。该气体分解装置的特征在于其包括：含有催化剂的多孔催化电极(6)；与所述催化电极配对的对电极(7)；以及夹在所述催化电极和所述对电极之间的离子传导性电解质(15)。该气体分解装置的特征还在于，催化剂被由导电性材料构成的载体担载、并且保持在催化电极上；或者催化剂被直接保持在催化电极上，并且催化电极中的与所述催化剂接触的导电性材料不是非共价碳材料。
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公开(公告)号：CN101361154A
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200780001460.4
申请日：2007-09-18
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: H01J1/3044 , H01J9/025 , H01J37/065 , H01J37/073 , H01J2201/30407 , H01J2201/30411 , H01J2201/30419 , H01J2201/30457 , H01J2237/06341 , H01J2237/26 , H01J2237/3137 , H01J2237/3146 , H01J2237/31749 , H01J2237/3175
Abstract: 一种金刚石电子源和制造该金刚石电子源的方法，在该金刚石电子源中，作为在电子显微镜或其他电子束装置中使用的电子发射点，单个尖锐末端形成在其尺寸使在微加工工序中难以进行抗蚀剂涂布的柱状金刚石单晶的一端。研磨柱状金刚石单晶(10)的一端，以形成光滑平面(11)，并且在光滑平面(11)上形成陶瓷层(12)。使用聚焦离子束装置，在陶瓷层(12)上沉积具有指定形状的薄膜层(14)，并在此之后使用薄膜层(14)作为掩模通过蚀刻来图案化陶瓷层(12)。使用得到的陶瓷掩模以通过干法蚀刻在柱状金刚石单晶(10)的一端处形成单个尖锐末端。
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