X射线成像装置和X射线成像方法

    公开(公告)号:CN102713679A

    公开(公告)日:2012-10-03

    申请号:CN201180006593.7

    申请日:2011-01-27

    IPC分类号: G01T1/29 G01N23/04 G21K1/06

    CPC分类号: G01T1/29 G01N23/04

    摘要: 一种在不使用X射线的遮光掩模的情况下获取测试对象的微分相位对比度图像的X射线成像装置。所述装置包括X射线源、分离元件和闪烁器,所述分离元件被配置为对从X射线源发射的X射线进行空间分割,所述闪烁器被配置为当在所述分离元件处被分割的分割的X射线束入射在所述闪烁器上时发射光。所述装置还包括光透射限制单元和多个光检测器,所述光透射限制单元被配置为限制从所述闪烁器发射的光的透射量,每个所述光检测器被配置为检测透射通过所述光透射限制单元的光量。所述光透射限制单元被配置为使得在每个所述光检测器处检测到的光强度响应于所述X射线束的入射位置的改变而改变。

    X射线成像装置和X射线成像方法

    公开(公告)号:CN102272860B

    公开(公告)日:2014-07-30

    申请号:CN201080004291.1

    申请日:2010-01-15

    IPC分类号: G21K1/06

    摘要: 可以获得考虑被检体的X射线吸收效果的微分相位图像或相位图像的尺寸减小的X射线成像装置和方法。测量被分离元件分离并且穿过被检体的X射线的位移。可通过使用具有根据X射线的入射位置连续改变的透过量的第一衰减元件测量位移。此时,使用被检体的X射线透过率,该X射线透过率是通过使用具有不根据X射线的入射位置而改变的透过量的第二衰减元件计算的。

    颜料墨组合物和涂覆材料

    公开(公告)号:CN101633804A

    公开(公告)日:2010-01-27

    申请号:CN200810133707.4

    申请日:2008-07-25

    IPC分类号: C09D11/02 B41J2/01

    CPC分类号: C09D11/54 C09D11/322

    摘要: 颜料墨组合物即使使用颜料粒子也具有不比染料差的高透明性和良好的颜色特性例如高OD,并且也具有颜料粒子固有的在涂布和打印介质表面上的良好耐候性和残留能力。该颜料墨组合物含有:至少包括针状颜料粒子的颜料粒子、分散剂和溶剂。该针状颜料粒子具有纵横比为至少3、平均纵横比为至少5且最多7、平均短尺寸为至少20纳米且最多30纳米、且短尺寸分布的标准偏差为2.0纳米或更低的针状形状。该针状颜料粒子被该分散剂覆盖。

    X射线成像装置和X射线成像的方法

    公开(公告)号:CN102272861A

    公开(公告)日:2011-12-07

    申请号:CN201080004293.0

    申请日:2010-01-15

    IPC分类号: G21K1/06

    摘要: 一种尺寸减小的X射线成像装置和方法,能够获得考虑被检物的X射线吸收效果的微分相位图像或相位图像。X射线在空间上被分离,并且,使用其中X射线的透过量根据X射线穿过被检物时的位移而连续变化的第一衰减元件。通过使用第一衰减元件和第二衰减元件来计算透过率,第二衰减元件关于X射线的透过量在X射线的位移方向上的变化量或变化特性与第一衰减元件不同。使用透过率来计算被检物的微分相位图像等。

    X射线成像装置和X射线成像方法

    公开(公告)号:CN102272860A

    公开(公告)日:2011-12-07

    申请号:CN201080004291.1

    申请日:2010-01-15

    IPC分类号: G21K1/06

    摘要: 可以获得考虑被检体的X射线吸收效果的微分相位图像或相位图像的尺寸减小的X射线成像装置和方法。测量被分离元件分离并且穿过被检体的X射线的位移。可通过使用具有根据X射线的入射位置连续改变的透过量的第一衰减元件测量位移。此时,使用被检体的X射线透过率,该X射线透过率是通过使用具有不根据X射线的入射位置而改变的透过量的第二衰减元件计算的。

    X射线成像装置和X射线成像的方法

    公开(公告)号:CN102272861B

    公开(公告)日:2014-07-30

    申请号:CN201080004293.0

    申请日:2010-01-15

    IPC分类号: G21K1/06

    摘要: 一种尺寸减小的X射线成像装置和方法,能够获得考虑被检物的X射线吸收效果的微分相位图像或相位图像。X射线在空间上被分离,并且,使用其中X射线的透过量根据X射线穿过被检物时的位移而连续变化的第一衰减元件。通过使用第一衰减元件和第二衰减元件来计算透过率,第二衰减元件关于X射线的透过量在X射线的位移方向上的变化量或变化特性与第一衰减元件不同。使用透过率来计算被检物的微分相位图像等。