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公开(公告)号：CN117794337A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311237963.9
申请日：2023-09-22
申请人： 佳能株式会社
摘要： 本发明涉及一种液体排出设备，包括：头，其被构造成排出液体；腔室，其被构造成容纳所述头；循环系统，其被构造成使腔室内部的气体循环；排气系统，其被构造成操作以将气体排出至腔室的外部；过滤器，其设置在循环系统中并且被构造成去除气体中含有的去除目标；检测单元，其被构造成通过检测气体中含有的并且不同于去除目标的检测目标来间接检测去除目标；和控制器，其被构造成在由检测单元检测到的检测目标的浓度不低于阈值时操作排气系统。本发明还涉及基板处理设备和制品制造方法。
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公开(公告)号：CN116666261A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310140960.7
申请日：2023-02-16
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供基板处理装置、基板处理方法以及物品的制造方法。基板处理装置的特征在于通过如下干燥工序使基板上的膜进行干燥，干燥工序包括：第一干燥工序，使基板上的膜在比既定压力高的压力下进行干燥；第二干燥工序，使膜在比既定压力低的压力下进行干燥，基板处理装置具有：保持基板的基板保持部；腔室；对腔室的内部进行减压的减压机构；罩盖，其设置有开口，并且在腔室的内部中覆盖被基板保持部保持的基板；第一供给部，其向腔室的内部且为罩盖的外部即第一空间供给气体；第二供给部，其向腔室的内部且为罩盖的内部即第二空间供给气体，第一供给部在第一干燥工序中向第一空间供给气体，第二供给部在第二干燥工序中向第二空间供给气体。
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公开(公告)号：CN107015341B
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201710059375.9
申请日：2017-01-24
申请人： 佳能株式会社
摘要： 本发明涉及光学设备、投影光学系统、曝光装置及物品制造方法。提供了一种用于使反射镜的反射面变形的可变形反射镜设备，该设备包括：音圈电机，其具有在与反射面相对的面上安装的磁体和在面对磁体的位置处布置的线圈；保持线圈的基准底座；传热杆，其连接到在基准底座中保持的线圈；以及收集来自传热杆的热量的流路。传热杆在与连接到线圈的端部相对的导热单元的端部处具有自由端。
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公开(公告)号：CN118190802A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202311686949.7
申请日：2023-12-08
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G01N21/01 , G01N21/892 , G01B11/00
摘要： 本发明涉及具备2个位置检测器的装置以及物品制造方法。装置具备：第1位置检测器，用于检测第1构件的第1检测对象的位置；以及第2位置检测器，用于检测与所述第1构件对置配置的第2构件的第2检测对象的位置。所述第1位置检测器能够包括第1图像传感器和在所述第1图像传感器的摄像面形成所述第1检测对象的像的第1光学系统。所述第2位置检测器能够包括第2图像传感器和在所述第2图像传感器的摄像面形成所述第2检测对象的像的第2光学系统。所述第1位置检测器和所述第2位置检测器能够构成为能利用所述第2图像传感器经由所述第1光学系统和所述第2光学系统拍摄所述第1图像传感器。
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公开(公告)号：CN107015341A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201710059375.9
申请日：2017-01-24
申请人： 佳能株式会社
摘要： 本发明涉及光学设备、投影光学系统、曝光装置及物品制造方法。提供了一种用于使反射镜的反射面变形的可变形反射镜设备，该设备包括：音圈电机，其具有在与反射面相对的面上安装的磁体和在面对磁体的位置处布置的线圈；保持线圈的基准底座；传热杆，其连接到在基准底座中保持的线圈；以及收集来自传热杆的热量的流路。传热杆在与连接到线圈的端部相对的导热单元的端部处具有自由端。
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公开(公告)号：CN116313893A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202211636641.7
申请日：2022-12-20
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具备：腔室；减压机构，该减压机构对上述腔室的内部空间进行减压；基板保持部，该基板保持部在上述内部空间中保持具有膜的基板；盖，该盖设有多个开口，覆盖在上述内部空间中由上述基板保持部保持的上述基板；气体分析计，该气体分析计检测由上述基板保持部以及上述盖包围的基板收容空间的特定气体；以及控制器，该控制器基于上述气体分析计的输出来判定上述膜的干燥的结束。
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公开(公告)号：CN104216219B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201410227985.1
申请日：2014-05-27
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明涉及压印设备、压印方法和制造产品的方法。本发明提供了一种用于在基片上的多个曝光区域中形成图案的压印设备，所述压印设备包括：加热单元，所述加热单元构造成通过加热基片而使得每一个曝光区域变形；和控制单元，所述控制单元构造成控制加热单元，其中，当根据用于通过加热单元加热在目标曝光区域之前已经经受压印处理的曝光区域的加热控制信息针对作为待经受压印处理的曝光区域的目标曝光区域实施压印处理时，控制单元对加热单元加热基片实施控制，使得因根据控制信息加热基片而已经变形的目标曝光区域的形状接近目标形状。
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公开(公告)号：CN118544691A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410186027.8
申请日：2024-02-20
申请人： 佳能株式会社
摘要： 本发明提供液体供给装置、液体供给方法以及物品制造方法，提供了有利于高精度地向基板上供给液滴的技术。向基板上供给液体的液体供给装置具备：加热所述液体并将所述液体作为液滴喷出的喷出部；以及对一边使所述基板和所述喷出部相对地扫描一边使所述喷出部喷出所述液滴的处理进行控制的控制部，所述控制部控制所述处理，以便基于因所述喷出部的热的影响引起的所述基板的变形量，校正从所述喷出部喷出的所述液滴在所述基板上的附着位置的偏差。
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公开(公告)号：CN114815514A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210076491.2
申请日：2022-01-24
申请人： 佳能株式会社
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及光学系统、曝光装置以及物品制造方法。包括第1光学元件和第2光学元件的光学系统具备支承所述第1光学元件的多个第1支承部、支承所述第2光学元件的多个第2支承部、分别调整所述多个第1支承部的位置的多个第1线性调整机构以及分别调整所述多个第2支承部的位置的多个第2线性调整机构。通过由所述多个第1线性调整机构对所述多个第1支承部的位置进行的调整，所述第1光学元件至少关于第1轴被进行调整，通过由所述多个第2线性调整机构对所述多个第2支承部的位置进行的调整，所述第2光学元件至少关于与所述第1轴不同的第2轴被进行调整。
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